【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及对半导体基板、液晶显示用或有机el(electroluminescence，电致发光)显示装置等fpd(flat panel display，平板显示器)用基板、光掩模用玻璃基板、光盘用基板等基板进行预定的处理的基板处理装置。
技术介绍
1、以往，作为这种装置，有具备分批式模块、单片式模块、旋转机构以及搬送机器人的装置(例如参照专利文献1)。分批式模块对多张基板一并进行处理。单片式模块对逐张基板进行处理。一般地，与分批式模块的干燥处理比较，单片式模块的干燥处理中，基板受到影响的处理环境气体的空间较小，颗粒性能高。因此，单片式模块比分批式模块容易提高干燥性能。因此，例如，在分批式模块进行蚀刻处理以及冲洗处理，然后在单片式模块进行干燥处理。
2、在分批式模块中，在使多张基板为铅垂姿势的状态下进行处理。另一方面，在单片式模块中，在使基板为水平姿势的状态下进行处理。因此，在分批式模块完成处理的铅垂姿势的基板在被搬送到单片式模块之前，通过旋转机构变换成水平姿势。通过旋转机构成为水平姿势的基板由搬送机器人搬送到单片式模块。在单片式模块进行了干燥处理的基板为了搬出而再次被相同的搬送机器人搬送。
3、另外，近年来，在半导体领域，正在推进三维构造的图案的精细化。因此，在这样的基板中，根据基板干燥时的气液界面的影响，存在图案倒塌的担忧。因此，在分批式模块的处理之后、直至单片式模块的处理，进行使基板为濡湿的状态的处理，以免基板干燥。
4、具体而言，在旋转机构的旁边配置多个喷射管。喷射管向保持于旋转机构
5、然而，在具有这样的结构的现有例的情况下，存在如下问题。
6、即，现有的装置在搬送机器人用机械手接收通过旋转机构成为水平姿势的基板时，机械手被纯水濡湿。因此，在搬送机器人进行在单片式模块进行了干燥处理的基板的搬送时，存在干燥的基板被机械手污染的担忧。
技术实现思路
1、本专利技术是鉴于这样的事情而提出的方案，目的在于提供一种基板处理装置，其能够搬送濡湿的基板，并且防止搬送干燥的基板时产生汚染。
2、本专利技术为了实现这样的目的而采用如下结构。
3、本专利技术为一种基板处理装置，其对基板进行处理，该基板处理装置包括：分批式处理部，其将多张基板以铅垂姿势的状态一并处理；单片式处理部，其将一张基板以水平姿势的状态处理；姿势变换部，其保持通过上述分批式处理部完成处理的多张基板，将上述多张基板在被纯水濡湿的状态下从铅垂姿势变换成水平姿势；第一搬送部，其将通过上述分批式处理部完成处理的多张基板搬送至上述姿势变换部；第二搬送部，其将通过上述姿势变换部成为水平姿势的基板支撑于机械手并搬送至上述单片式处理部，且将通过上述单片式处理部处理后的基板支撑于机械手并从上述单片式处理部搬送；以及清洗干燥部，其对上述第二搬送部的上述机械手进行清洗以及干燥。
4、根据本专利技术，第二搬送部通过清洗干燥部对机械手进行清洗以及干燥。因此，第二搬送部能够清洁机械手。因此，第二搬送部虽然从姿势变换部搬送濡湿的基板，但能够防止从单片式处理部搬送干燥的基板时产生汚染。
5、另外，本专利技术优选的是，在上述第二搬送部从上述单片式处理部搬送通过上述单片式处理部处理后的基板之前，上述清洗干燥部对上述机械手进行清洗以及干燥。
6、并非每当机械手因从姿势变换部向单片式处理部的基板的搬送而濡湿时都进行机械手的清洗以及干燥。因此，能够降低清洗以及干燥的频度。其结果，能够节约清洗以及干燥所消耗的资源。
7、另外，本专利技术优选的是，在将基板从上述姿势变换部搬送到上述单片式处理部之后，上述清洗干燥部对上述机械手进行清洗以及干燥。
8、在机械手因向单片式处理部搬送基板而濡湿之后，进行清洗以及干燥。因此，能够缩短机械手从濡湿至清洗以及干燥的时间。因此，能够防止由于机械手濡湿后经过较长时间而在机械手产生因附着的纯水而引起的残渣。其结果，能够提高机械手的清洁度。
9、另外，本专利技术优选的是，上述清洗干燥部配置于上述姿势变换部的上方。
10、将清洗干燥部配置于姿势变换部的上方，因此能够减小装置的覆盖区域。
11、另外，在本专利技术中，优选的是，上述清洗干燥部和上述姿势变换部彼此的空间在铅垂方向上连通。
12、在清洗干燥部的清洗以及干燥时，清洗液向下方流下。使多张基板成为被纯水濡湿的状态的姿势变换部位于下方。因此，能够省略用于承接清洗干燥部的清洗液的缸桶。其结果，能够简化结构，能够抑制成本。
13、另外，在本专利技术中，优选的是，上述清洗干燥部具备向上述机械手吐出清洗液的清洗液喷嘴、以及使上述机械手干燥的干燥机构。
14、能够通过清洗液喷嘴和干燥机构对机械手进行清洗以及干燥。
15、另外，在本专利技术中，优选的是，上述干燥机构是向上述机械手供给气体的气体喷嘴。
16、能够通过比较简易的结构效率地干燥机械手。
17、另外，在本专利技术中，优选的是，上述单片式处理部具备：以水平姿势能够旋转地支撑基板的旋转卡盘；向支撑于上述旋转卡盘的基板供给处理液的处理液供给机构；以及向支撑于上述旋转卡盘的基板供给气体的气体供给机构，上述清洗干燥部通过使用上述单片式处理部的上述处理液供给机构和上述气体供给机构对上述机械手进行清洗以及干燥而实现。
18、能够由单片式处理部兼作清洗干燥部。因此，能够简化结构，能够抑制装置成本。
19、另外，在本专利技术中，优选的是，具备多个上述清洗干燥部，而且在俯视下，上述多个上述清洗干燥部配置于不同的位置，根据上述第二搬送部的位置，利用较近的一方的上述清洗干燥部进行清洗以及干燥。
20、通过较近的位置的清洗干燥部进行机械手的清洗以及干燥，因此能够较早地进行机械手的清洁化。因此，能够难以产生因附着的纯水而引起的残渣。另外，能够较早地进行从单片处理部的基板的搬送，因此能够提高吞吐量。
21、为了说明本专利技术，在附图中示出了优选的几种方式，但是，应当理解，本专利技术不限于所示的具体的例子。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其对基板进行处理，
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
6.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
7.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，
8.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，
9.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
10.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，
11.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，
12.根据权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，
13.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
14.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
15.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，
16.根据权利要求5所述的基板处
17.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，
18.根据权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于，
19.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
20.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
...【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，其对基板进行处理，
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
6.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
7.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，
8.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，
9.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
10.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，
11.根...
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