【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种对基板的下表面进行清洗的基板清洗装置及基板清洗方法。
技术介绍
1、为了对液晶显示装置或有机电致发光(electro luminescence，el)显示装置等中使用的平板显示器(flat panel display，fpd)用基板、半导体基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板或太阳能电池用基板等各种基板进行各种处理，而使用基板处理装置。为了对基板进行清洗，而使用基板清洗装置。
2、日本专利特开2022-51029号公报所记载的基板清洗装置包括上侧保持装置、下侧保持装置及下表面清洗装置。上侧保持装置包含一对下卡盘及一对上卡盘。配置于一对下卡盘之间且一对上卡盘之间的基板被一对下卡盘及一对上卡盘夹入。由此，在一对下卡盘及一对上卡盘与基板的外周端部相接的状态下，对作为清洗对象的基板进行保持。下表面清洗装置对由上侧保持装置保持的基板的下表面中央区域进行清洗。
3、下侧保持装置是所谓的旋转卡盘，在对基板的下表面中央区域进行吸附保持的同时使基板以水平姿势旋转。下表面清洗装置进一步对由下侧保持装置保持的基板的下表面中包围下表面中央区域的区域(以下，称为下表面外侧区域)进行清洗。
技术实现思路
1、在日本专利特开2022-51029号公报所记载的基板清洗装置中，例如在对基板的下表面中央区域进行清洗后对基板的下表面外侧区域进行清洗。在此情况下，若在清洗后的基板的下表面中央区域残留有污染物质，则在对基板的下表面外侧区域进行清洗时，残
2、另外，在所述基板清洗装置中，即使在对基板的下表面外侧区域进行清洗后对基板的下表面中央区域进行清洗的情况下，所述清洗后的基板也有在后续工序中对下表面中央区域进行吸附保持的可能性。即使在此情况下，若下表面中央区域的清洁度低，则残留于下表面中央区域的污染物质也转印至对下表面中央区域进行吸附保持的结构(旋转卡盘等)。
3、本专利技术的目的在于提供一种能够提高清洗后的基板的下表面中央区域的清洁度的基板清洗装置及基板清洗方法。
4、按照本专利技术的一方面的基板清洗装置包括：第一基板保持部，对基板的外周端部进行保持；清洗用具，与所述基板的下表面接触来对所述基板的下表面进行清洗；以及相对移动部，使由所述第一基板保持部保持的基板及所述清洗用具相对地移动，所述相对移动部使由所述第一基板保持部保持的基板及所述清洗用具中的至少一者移动，以使在所述基板的下表面中央区域的清洗开始时处于和所述基板的下表面分离的状态的所述清洗用具与所述基板的下表面中的第一部分区域接触，且以使在所述基板的所述下表面中央区域的清洗结束时处于与所述基板的下表面接触的状态的所述清洗用具和所述基板的下表面中的第二部分区域分离，且以使在从所述清洗用具与所述基板的下表面接触至分离为止的清洗用具接触期间中的至少一部分期间所述清洗用具与所述基板的所述下表面中央区域接触，所述第一部分区域及所述第二部分区域中的至少一者不与所述基板的所述下表面中央区域重叠。
5、按照本专利技术的另一方面的基板清洗方法包含：通过第一基板保持部对基板的外周端部进行保持的步骤；使清洗用具与所述基板的下表面接触来对所述基板的下表面进行清洗的步骤；以及使由所述第一基板保持部保持的基板及所述清洗用具相对地移动的步骤，所述使由第一基板保持部保持的基板及所述清洗用具相对地移动的步骤包含：使由所述第一基板保持部保持的基板及所述清洗用具中的至少一者移动，以使在所述基板的下表面中央区域的清洗开始时处于和所述基板的下表面分离的状态的所述清洗用具与所述基板的下表面中的第一部分区域接触，且以使在所述基板的所述下表面中央区域的清洗结束时处于与所述基板的下表面接触的状态的所述清洗用具和所述基板的下表面中的第二部分区域分离，且以使在从所述清洗用具与所述基板的下表面接触至分离为止的清洗用具接触期间中的至少一部分期间所述清洗用具与所述基板的所述下表面中央区域接触，所述第一部分区域及所述第二部分区域中的至少一者不与所述基板的所述下表面中央区域重叠。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种基板清洗装置，包括：
2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，还包括第二基板保持部，所述第二基板保持部在利用所述清洗用具对所述基板的所述下表面中央区域进行清洗后，在对所述下表面中央区域进行吸附保持的同时使所述基板绕上下方向上的轴旋转，
3.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其中，所述第一部分区域不与所述下表面中央区域重叠，
4.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其中，所述第二部分区域不与所述下表面中央区域重叠，
5.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其中，所述第一部分区域及所述第二部分区域各者不与所述下表面中央区域重叠，
6.根据权利要求1至5中任一项所述的基板清洗装置，还包括清洗用具旋转驱动部，所述清洗用具旋转驱动部使所述清洗用具绕上下方向上的轴旋转，
7.根据权利要求1至6中任一项所述的基板清洗装置，其中，所述相对移动部在所述清洗用具接触期间中使所述清洗用具移动，以在所述第一部分区域与所述基板的外周端部之间、及所述第二部分区域与所述基板的外周端部之间分别形成所述清洗用具不接触的间隙区域。
8.一种基板清洗方法，包含：
9.根据权利要求8所述的基板清洗方法，还包含：在利用所述清洗用具对所述基板的所述下表面中央区域进行清洗后，在通过第二基板保持部对所述下表面中央区域进行吸附保持的同时使所述基板绕上下方向上的轴旋转的步骤；以及
10.根据权利要求8或9所述的基板清洗方法，其中，所述第一部分区域不与所述下表面中央区域重叠，
11.根据权利要求8或9所述的基板清洗方法，其中，所述第二部分区域不与所述下表面中央区域重叠，
12.根据权利要求8或9所述的基板清洗方法，其中，所述第一部分区域及所述第二部分区域各者不与所述下表面中央区域重叠，
13.根据权利要求8至12中任一项所述的基板清洗方法，还包含使所述清洗用具绕上下方向上的轴旋转的步骤，
14.根据权利要求8至13中任一项所述的基板清洗方法，其中，所述使清洗用具移动的步骤包含：在所述清洗用具接触期间中使所述清洗用具移动，以在所述第一部分区域与所述基板的外周端部之间、及所述第二部分区域与所述基板的外周端部之间分别形成所述清洗用具不接触的间隙区域。
...【技术特征摘要】
1.一种基板清洗装置，包括：
2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，还包括第二基板保持部，所述第二基板保持部在利用所述清洗用具对所述基板的所述下表面中央区域进行清洗后，在对所述下表面中央区域进行吸附保持的同时使所述基板绕上下方向上的轴旋转，
3.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其中，所述第一部分区域不与所述下表面中央区域重叠，
4.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其中，所述第二部分区域不与所述下表面中央区域重叠，
5.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其中，所述第一部分区域及所述第二部分区域各者不与所述下表面中央区域重叠，
6.根据权利要求1至5中任一项所述的基板清洗装置，还包括清洗用具旋转驱动部，所述清洗用具旋转驱动部使所述清洗用具绕上下方向上的轴旋转，
7.根据权利要求1至6中任一项所述的基板清洗装置，其中，所述相对移动部在所述清洗用具接触期间中使所述清洗用具移动，以在所述第一部分区域与所述基板的外周端部之间、及所述第二部分区域与所述基板的外周端部之间分别形成所述清洗用具不接触的间隙区域。<...
【专利技术属性】
技术研发人员：中村一树，冈田吉文，冲田展彬，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。