用于基板处理监视的设定信息的设定方法、基板处理装置的监视方法以及基板处理装置制造方法及图纸

一种用于基板处理监视的设定信息的设定方法，具备：设置制程工序(S12)，对使基板处理装置内的第一监视对象物移动的移动机构进行控制，使所述第一监视对象物移动至第一停止位置；设置拍摄工序，与设置制程工序(S12)并行地执行，并由照相机对第一监视对象物进行拍摄；以及设定工序(S16)，基于在设置拍摄工序中由照相机取得并包含停止于第一停止位置的第一监视对象物的第一图像数据和表示第一监视对象物的至少一部分的第一参照图像数据，检测第一图像数据内的第一监视对象物的位置，并将该位置设定为与所述第一停止位置相关的适当位置。置。置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于基板处理监视的设定信息的设定方法、基板处理装置的监视方法以及基板处理装置


[0001]本申请涉及用于基板处理监视的设定信息的设定方法、基板处理装置的监视方法以及基板处理装置。

技术介绍

[0002]以往，在半导体器件等的制造工序中，对基板供给纯水、光致抗蚀剂液以及蚀刻液等各种处理液，进行清洗处理以及抗蚀剂涂敷处理等各种基板处理。作为进行这样的处理的基板处理的装置，广泛使用一边使基板以水平姿势旋转一边从喷嘴向该基板的表面喷出处理液的基板处理装置。
[0003]喷嘴经由配管与处理液供给源连接，在配管设置有阀。通过阀打开，从喷嘴喷出处理液，阀关闭，由此从喷嘴喷出处理液。
[0004]另外，在基板处理装置中设置有使喷嘴移动的喷嘴移动机构。喷嘴移动机构使喷嘴在比基板靠上方的处理位置和比基板靠外侧的待机位置之间移动。
[0005]喷嘴在处理位置停止的状态下打开阀，从而从喷嘴向基板的主面供给处理液。由此，对基板进行处理。当从处理液的喷出开始起经过规定的喷出时间时，阀关闭而停止供给处理液。
[0006]在这样的基板处理装置中本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于基板处理监视的设定信息的设定方法，其特征在于，所述设定方法具备如下工序：设置制程工序，控制使基板处理装置内的第一监视对象物移动的移动机构，使所述第一监视对象物移动至第一停止位置；设置拍摄工序，与所述设置制程工序并行地执行，并由照相机对所述第一监视对象物进行拍摄；以及设定工序，基于在所述设置拍摄工序中由所述照相机取得并包含停止于所述第一停止位置的所述第一监视对象物的第一图像数据和表示所述第一监视对象物的至少一部分的第一参照图像数据，检测所述第一图像数据内的所述第一监视对象物的位置，并将该位置设定为与所述第一停止位置相关的适当位置。2.根据权利要求1所述的用于基板处理监视的设定信息的设定方法，其特征在于，在所述设定工序中，基于向所述移动机构的控制信号，确定在所述设置拍摄工序中由所述照相机依次取得的多个图像数据中的、包含停止于所述第一停止位置的所述第一监视对象物的所述第一图像数据。3.根据权利要求1或2所述的用于基板处理监视的设定信息的设定方法，其特征在于，在所述设置制程工序中，使对保持于所述基板处理装置内的基板的主面供给处理液的喷嘴作为所述第一监视对象物而移动至所述第一停止位置。4.根据权利要求3所述的用于基板处理监视的设定信息的设定方法，其特征在于，在所述设置制程工序中，使所述喷嘴依次移动至所述第一停止位置和第二停止位置，所述第二停止位置是从所述照相机观察时至少在深度方向上与所述第一停止位置不同的位置，所述设定工序包括如下工序：检测工序，基于在所述设置拍摄工序中由所述照相机取得并包含停止于所述第二停止位置的所述喷嘴的第二图像数据和所述第一参照图像数据，检测所述第二图像数据内的所述喷嘴的位置以及大小；以及判定区域设定工序，基于预先对所述第一图像数据内的所述喷嘴规定了喷出判定区域的位置和大小的第一相对关系以及所述第二图像数据内的所述喷嘴的大小相对于所述第一图像数据内的所述喷嘴的大小的倍率，设定用于规定喷出判定区域相对于所述第二图像数据内的所述喷嘴的位置以及大小的第二相对关系。5.根据权利要求1或2所述的用于基板处理监视的设定信息的设定方法，其特征在于，在所述设置制程工序中，使包围所述基板处理装置内的基板保持部的处理杯作为所述第一监视对象物而沿着铅垂方向移动并停止于所述第一停止位置。6.根据权利要求1至3、5中的任一项所述的用于基板处理监视...

【专利技术属性】
技术研发人员：冲田有史，犹原英司，角间央章，增井达哉，出羽裕一，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：