本发明提供一种绘制系统。匹配位置决定部设定与对应于临时匹配位置(95a)的模板相同大小的临时模板区域(951a)，以临时模板区域(951a)为中心设定比摄像部的摄像视野大的核对区域(952a)。匹配位置决定部还确认在核对区域(952a)...

本发明提供一种光照射装置，通过抑制因传输所引起的光量的减少来抑制光检测精度的降低。光照射装置具备：至少一个光照射部，用于照射光；以及检测部，用于检测光，检测部具备：传输构件，用于使从光照射部照射的光传输；以及光检测器，用于检测由传输构件...

本发明提供一种光照射装置以及光照射方法，能够抑制因照射光而引起的检测精度的降低。光照射装置具备：载物台，至少一部分由透明材料构成；以及至少一个光照射部，用于向载物台的上表面照射光，在载物台上设有用于使光透过的透光部和用于使光散射的至少一...

本申请说明书中公开的技术是用于通过抑制由传播而引起的光量的减少，来抑制光检测精度的下降的技术。与本申请说明书中公开的技术相关的光检测装置是检测从光照射部照射的光的光检测装置，其中，所述光检测装置具有：传播构件，用于使从光照射部照射的光传...

本发明提供一种排程表制作方法、排程表制作装置、衬底处理装置、衬底处理系统及记录媒体。排程表制作方法是执行多次学习步骤来制作时间安排表的方法。学习步骤包含向用来规定衬底处理装置(WP)的各构成要素的时间安排表的时间表(TB)中，依次配置逐...

本发明涉及一种基板处理方法以及基板处理装置。基板处理方法包括第一气体处理工序、疏水处理工序以及散布工序。在第一气体处理工序中，在腔室(3)的内部经减压的状态(D)下，将第一气体(G1)供给至腔室(3)内的基板(W)。第一气体(G1)包含...

本发明涉及一种基板处理方法以及基板处理装置。基板处理方法包括第一减压工序、第一加压工序以及第一常压工序。在第一减压工序中，腔室(3)的内部处于经减压的状态(D)，将第一气体(G1)供给至腔室(3)内的基板(W)。第一气体(G1)包含有机...

本发明提供一种基板处理装置。各分支配管具有供环境气体从主配管流入的内部空间。下游闸板设于各分支配管中的比上游闸板靠下游侧的位置，开闭分支配管。上游切换部件在上游空间允许外部环境气体的流入的状态以及上游空间禁止外部环境气体的流入的状态之间...

本发明的图像处理方法，包括以下步骤：针对对细胞进行明视场拍摄而得到的多个原始图像中的每一个，获取在原始图像内示教了细胞所占的细胞区域的正解图像的工序；基于各个原始图像，作成至少针对细胞区域使亮度反转的反转图像的工序；将原始图像和与原始图...

基板处理装置(100)具备基板保持部(120)、处理液供给部(160)、输入信息取得部(22a)、升华干燥处理条件信息取得部(22b)以及控制部(22)。输入信息取得部(22a)取得输入信息，输入信息包含基板信息以及处理液信息中的至少一...

一种基板处理装置(100)具备多个处理单元(1A1、1B1)、多个单独排气管(41A、41B)、共用排气管(81A)、多个第一压力调节机构(73A1、73B1)、第二压力调节机构(87A)以及控制部(102)。从处理单元(1A1、1B1...

本发明提供可根据更适当的图像数据来进行对多个监视对象分别进行监视处理的技术。本发明的基板处理方法具备：保持步骤，将基板搬入腔室的内部并将基板加以保持；供给步骤，在腔室的内部对基板供给流体；拍摄步骤(S12)，由照相机对腔室的内部按序地进...

本发明涉及状态检测装置以及状态检测方法，在抑制检测精度的降低的同时检测卡盘销的开闭状态。状态检测装置具有：至少1个卡盘销，其用于保持基板；拍摄部，其拍摄卡盘销，将获得的至少1个图像作为对象图像；匹配坐标计算部，其利用对象图像和表示卡盘销...

在第一吐出工序中，对设于供给管的阀输出开信号，从喷嘴(30)的前端向基板(W)的主面吐出处理液。在移动工序中，在对阀输出闭信号的时间点以后，使喷嘴(30)移动。在拍摄工序中，至少在对阀输出闭信号的时间点以后使摄像机依次拍摄，取得多个图像...

在保持成为处理对象的半导体晶片的晶座，竖立设置有多个衬底支持销。多个衬底支持销等间隔地设置成圆环状。对由多个衬底支持销支持的半导体晶片，从闪光灯照射闪光来加热所述半导体晶片。从闪光灯照射的闪光的脉宽越短，那么越增大设置有多个衬底支持销的...

本发明涉及一种衬底洗净装置、衬底洗净系统、衬底处理系统、衬底洗净方法及衬底处理方法。上侧保持装置将衬底以水平姿势保持且不使它旋转。下侧保持装置吸附保持衬底且使它旋转。使用洗净液洗净由上侧保持装置保持的衬底，使用洗净液洗净由下侧保持装置保...

本发明涉及一种衬底对位装置、衬底处理装置、衬底对位方法及衬底处理方法。衬底对位装置包含以俯视下相互对向的方式且分开的方式配置，分别从衬底的下方位置支撑衬底的外周端部的第1支撑部件及第2支撑部件。另外，衬底对位装置具备：第1按压部件，以俯...

本发明的课题在于抑制基板处理中的吸引动作引起的不良情况。基板处理方法具备通过从多联阀向吸引配管供给清洗液来清洗吸引配管内部的步骤，基板处理装置具备：至少能够选择性地供给用于处理基板的处理液和用于进行清洗的清洗液中的至少一方的多联阀；用于...

一种基板处理方法，缩短基板处理所需要的时间。预先设定有流程处理程式，该流程处理程式包括：第一工艺处理程式，设定对基板执行的第一处理的内容，第二工艺处理程式，设定在第一处理之后对基板执行的第二处理的内容，以及预处理程式，设定关于第二工艺处...

本发明涉及一种衬底洗净装置及衬底洗净方法。通过将洗净工具接触于由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域来将下表面中央区域洗净。通过将洗净工具接触于由第2保持部旋转的衬底的下表面外侧区域来将衬底的下表面外侧区域洗净。在下表面中央区域的洗净时...