衬底清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术的衬底清洗装置包含衬底保持部、第1清洗件、第2清洗件及第3清洗件。衬底保持部以水平姿势保持圆形状的衬底。第1清洗件在俯视时，以通过衬底外缘的第1点的方式在衬底的上方进行扫描，由此清洗衬底的上表面。第2清洗件在俯视时，通过接触于衬底外缘的第2点来清洗衬底的外周端部。定义通过第1点与第2点的假想性第1直线、及通过衬底的中心且与第1直线平行的假想性第2直线。第3清洗件配置在衬底的下方且隔着第2直线而与第1清洗件及第2清洗件相反的区域，清洗衬底的下表面。清洗衬底的下表面。清洗衬底的下表面。

【技术实现步骤摘要】
衬底清洗装置


[0001]本专利技术涉及一种清洗衬底的衬底清洗装置。

技术介绍

[0002]为了对用于液晶显示装置或有机EL(Electro Luminescence，电致发光)显示装置等的FPD(Flat Panel Display，平板显示器)用衬底、半导体衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、磁光盘用衬底、光罩用衬底、陶瓷衬底或太阳电池用衬底等各种衬底进行各种处理，使用衬底处理装置。为了清洗衬底，使用衬底清洗装置。
[0003]例如，日本专利第5904169号公报中所记载的衬底清洗装置具备：2个吸附垫，保持晶圆的背面周缘部；旋转夹盘，保持晶圆的背面中央部；以及刷，清洗晶圆的背面。2个吸附垫保持晶圆并且在横方向移动。在该状态下，利用刷来清洗晶圆的背面中央部。然后，旋转夹盘从吸附垫接收晶圆，旋转夹盘保持着晶圆的背面中央部进行旋转。在该状态下，利用刷来清洗晶圆的背面周缘部。

技术实现思路

[0004]在日本专利第5904169号公报记载的衬底清洗装置中，在不仅要清洗衬底背面还要清洗衬底正面的情况下，必须将衬底搬送到用来清洗衬底正面的其它清洗装置。在该情况下，产能降低，并且用于清洗衬底的系统整体的占据面积增加。因此，期望防止大型化且能够有效率地清洗衬底的衬底清洗装置。
[0005]本专利技术的目的在于提供一种防止大型化且能够有效率地清洗衬底的衬底清洗装置。
[0006](1)依据本专利技术的一形态的衬底清洗装置具备：衬底保持部，以水平姿势保持圆形状的衬底；第1清洗件，以在俯视时通过衬底外缘的第1点的方式在衬底的上方进行扫描，由此清洗衬底的上表面；第2清洗件，通过在俯视时接触于衬底外缘的第2点来清洗衬底的外周端部；以及第3清洗件，清洗衬底的下表面；定义通过第1点与第2点的假想性第1直线、及通过衬底中心且与第1直线平行的假想性第2直线；第3清洗件配置在衬底的下方且隔着第2直线而与第1清洗件及第2清洗件相反的区域。
[0007]在该衬底清洗装置中，在清洗衬底时，第1清洗件、第2清洗件及第3清洗件相对较大幅度地隔开配置。因此，即便分别利用第1清洗件、第2清洗件及第3清洗件同时清洗衬底的上表面、外周端部及下表面，也几乎不会发生从任一个清洗件产生的污染物质附着在其它清洗件上的情况。因此，无须设置分别清洗衬底多个部分的多个装置，也无须使衬底在多个装置间移动。结果，能够防止衬底清洗装置的大型化且有效率地清洗衬底。
[0008](2)也可以进而定义在俯视时从衬底中心朝向第3清洗件的几何学中心延伸的假想性第3直线、及在俯视时第3直线通过的所述衬底外缘的第3点，以衬底中心位于以第1点、第2点及第3点为顶点的三角形区域内的方式配置第1清洗件、第2清洗件及第3清洗件。此时，在清洗衬底时，第1清洗件、第2清洗件及第3清洗件大幅度地隔开。由此，能够防止从任
一个清洗件产生的污染物质附着在其它的清洗件上。
[0009](3)也可以进而定义在俯视时从衬底中心朝向第1点延伸的假想性第4直线、及在俯视时从衬底中心朝向第2点延伸的假想性第5直线，第3直线与第4直线之间的第1角度、第4直线与第5直线之间的第2角度、及第5直线与第3直线之间的第3角度分别为80度以上。此时，在清洗衬底时，第1清洗件、第2清洗件及第3清洗件更大幅度地隔开。由此，可更确实地防止从任一个清洗件产生的污染物质附着在其它的清洗件上。
[0010](4)第1角度、第2角度及第3角度也可以分别为90度以上。此时，在清洗衬底时，第1清洗件、第2清洗件及第3清洗件进而大幅度地隔开。由此，可进而确实地防止从任一个清洗件产生的污染物质附着在其它的清洗件上。
[0011](5)第1角度也可以大于第2角度。此时，在清洗衬底时，第1清洗件与第3清洗件相对较大幅度地隔开，所以即便在第3清洗件相对较为大型的情况下，从第1清洗件及第3清洗件中一者产生的污染物质也不会附着在另一者上。因此，能够利用第3清洗件高效率地清洗衬底的下表面。
[0012](6)第3角度也可以大于第2角度。此时，在清洗衬底时，第2清洗件与第3清洗件相对较大幅度地隔开，所以即便在第3清洗件相对较为大型的情况下，从第2清洗件及第3清洗件的一者产生的污染物质也不会附着在另一者。因此，能够利用第3清洗件高效率地清洗衬底的下表面。
[0013](7)第1清洗件也可以通过在俯视时从衬底中心朝向第1点进行扫描来清洗衬底的上表面。在该情况下，从第1清洗件产生的污染物质几乎不会附着在第2清洗件或第3清洗件上。同样地，从第2清洗件或第3清洗件产生的污染物质几乎不会附着在第1清洗件上。因此，能够凭借简单的构成利用第1清洗件高效率地清洗衬底的上表面。
[0014](8)也可以是衬底保持部及第3清洗件分别具有圆形的外形，第3清洗件的直径大于衬底保持部的直径。在该情况下，能够利用相对较为大型的第3清洗件高效率地清洗衬底的下表面。
[0015](9)也可以是第3清洗件具有圆形的外形，第3清洗件的直径大于衬底直径的1/3。在该情况下，能够利用相对较为大型的第3清洗件高效率地清洗衬底的下表面。
附图说明
[0016]图1是本专利技术的一实施方式的衬底清洗装置的示意性俯视图。
[0017]图2是表示图1的衬底清洗装置的内部构成的外观立体图。
[0018]图3是表示图1的衬底清洗装置的控制系统的构成的框图。
[0019]图4是表示清洗件的位置关系的俯视图。
[0020]图5是表示清洗件的更优选的位置关系的俯视图。
[0021]图6是表示清洗件的进而优选的位置关系的俯视图。
[0022]图7是用来说明图1的衬底清洗装置的概略动作的示意图。
[0023]图8是用来说明图1的衬底清洗装置的概略动作的示意图。
[0024]图9是用来说明图1的衬底清洗装置的概略动作的示意图。
[0025]图10是用来说明图1的衬底清洗装置的概略动作的示意图。
[0026]图11是用来说明图1的衬底清洗装置的概略动作的示意图。
[0027]图12是用来说明图1的衬底清洗装置的概略动作的示意图。
[0028]图13是用来说明图1的衬底清洗装置的概略动作的示意图。
[0029]图14是用来说明图1的衬底清洗装置的概略动作的示意图。
[0030]图15是用来说明图1的衬底清洗装置的概略动作的示意图。
[0031]图16是用来说明图1的衬底清洗装置的概略动作的示意图。
[0032]图17是用来说明图1的衬底清洗装置的概略动作的示意图。
[0033]图18是用来说明图1的衬底清洗装置的概略动作的示意图。
具体实施方式
[0034]以下，使用附图对本专利技术的实施方式的衬底清洗装置进行说明。在以下的说明中，所谓衬底，是指半导体衬底、液晶显示装置或有机EL(Electro Luminescence)显示装置等FPD(Flat Panel Display)用衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、磁光盘用衬底本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种衬底清洗装置，具备：衬底保持部，以水平姿势保持圆形状的衬底；第1清洗件，在俯视时，以通过所述衬底外缘的第1点的方式在所述衬底的上方扫描，由此清洗所述衬底的上表面；第2清洗件，在俯视时，通过接触于所述衬底外缘的第2点来清洗所述衬底的外周端部；以及第3清洗件，清洗所述衬底的下表面；定义通过所述第1点与所述第2点的假想性第1直线、及通过所述衬底的中心且与所述第1直线平行的假想性第2直线，所述第3清洗件配置在所述衬底的下方且隔着所述第2直线而与所述第1清洗件及所述第2清洗件相反的区域。2.根据权利要求1所述的衬底清洗装置，其中进而定义在俯视时从所述衬底的中心朝向所述第3清洗件的几何学中心延伸的假想性第3直线、及在俯视时所述第3直线通过的所述衬底的外缘的第3点，以所述衬底的中心位于以所述第1点、所述第2点及所述第3点为顶点的三角形区域内的方式配置所述第1清洗件、所述第2清洗件及所述第3清洗件。3.根据权利要求2所述的衬底清洗装置，其中进而定义在俯视时从所述衬底的中心朝向所述第1点延伸的假想性第4直...

【专利技术属性】
技术研发人员：筱原智之，冈田吉文，冲田展彬，筱原敬，石井淳一，中村一树，髙桥拓马，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：