基板处理装置包含向基板的上表面将处理液朝下方喷出的处理液喷嘴（30）。处理液喷嘴（30）的外表面（30s）包含拒水面（72）。

基板保持装置（100）具备保持机构（110）以及变形机构（170）。保持机构（110）吸附并保持基板（W）。变形机构（170）使保持机构（110）变形。保持机构（110）具有夹具（130）以及基座（120），基座（120）安装有夹具（1...

本发明提供一种基板处理装置。在基板保持部，气体供给部在基板的下表面与基部的基面之间送出气体，形成趋向径向外方的气流。分隔板在基部的基面上与基板的外周缘相比配置在径向外侧，包围基板的周围。分隔板的内周缘与基板的外周缘在径向上彼此分离并且相...

在预对准单元（PU）中，偏离校正致动器（1300）校正基板（W）相对于台（100）的位置偏离。厚度计算部（1912）在基板（W）旋转的期间，基于第一光源头（1710）测定直至基板（W）的上表面（Wa）为止的距离而得到的测定结果以及第二光...

本发明涉及基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置构成为能够进行向基板的上表面供给漂洗液的漂洗处理及使漂洗处理后的基板干燥的干燥处理。基板处理装置包括：对表示基板的上表面的状态的物理量进行检测的状态检测装置；和对基板的上表面是否是干燥的...

本发明涉及一种基板处理方法、基板处理装置以及处理液。基板处理方法具有处理液供给工序、固化膜形成工序以及升华工序。在处理液供给工序中，处理液被供给至基板。处理液包含升华性物质以及溶剂。在固化膜形成工序中，溶剂从基板上的处理液中蒸发。在固化...

提供一种可有效地降低基板的图案的崩坏率的技术。基板处理方法包含：保持工序、液供给工序、第1干燥液供给工序、第2干燥液供给工序、及干燥工序。在第1干燥液供给工序中，将具有第1沸点（bp1）、且表面张力较处理液低的第1干燥液供给至基板的第1...

本发明涉及基板处理装置及控制方法。基板处理装置具有：在泵(15)的下游由合流配管(20b)分支而成的、向腔室内的多种处理部输送处理液的多根支管；控制泵(15)的控制部(139)。多根支管包含：处理液的流量最多的预湿配管(PW)；处理液的...

本发明提供能够抑制供给至基板的一个主面的处理液向基板的另一主面绕入的技术。基板处理装置(100)包括底板(11)、将基板(9)限位在其上方的限位销(13)、使底板绕旋转轴线(J1)旋转的旋转机构(14)、向基板的上表面供给处理液的处理液...

本发明的基板处理装置（100）具有：喷嘴（136）、供给部（135）、液体回流部（160）、近红外线光源（140）、近红外拍摄部（150）以及控制部（102）。喷嘴（136）向基板（W）供给处理液（L）。供给部（135）向喷嘴（136）...

本发明涉及脱气装置及具有其的基板处理装置以及脱气方法、液的供给方法。本发明的脱气装置(6a)具有：罐(11)，其贮存作为脱气对象的液；循环配管(19)，其一端与罐(11)的流出口(106)连接，另一端与罐(11)的流入口(105)连接；...

本发明提供一种基板处理装置以及具备该基板处理装置的基板处理系统，构成为，外部气体经由位于外锥部（15b）与保持于旋转卡盘（8）的基板之间的环状的间隙即第一流路（M1）被取入杯（19）内的液体回收室（N1），取入到液体回收室（N1）的外部...

本发明提供基板搬送装置及位置示教方法，能以更简单的结构实现示教作业的自动化。拍摄部(55)拍摄位于基准位置(Bs)的手部(43)和位于从基准位置(Bs)前进了前进量(P1)的前进位置(Cs)的手部(43)的图像。位置计算部(73)根据各...

本发明涉及基板搬运装置、基板处理装置以及基板搬运方法。基板处理装置(1)具备存储部(73)，该存储部针对搬运器的每个开槽存储由旋转编码器(25)测量出的高度位置与预先知晓的真实高度位置之间的线性度误差的修正值。控制部(71)通过利用闸门...

基板处理方法使处于基板相对于铅垂面倾斜的倾斜姿势的基板、和浸渍槽内的处理液的表面即液面在上下方向上相对移动，由此使基板从基板的整体配置于浸渍槽内的处理液中的浸渍状态向基板的整体配置于液面的上方的非浸渍状态变化。

本发明涉及基板搬运装置、基板处理装置以及基板状态检测方法。基板搬运装置(1)具备载置搬运器(C)的载台(9)、具有投光部(27A)及受光部(27B)的测绘传感器(27)、升降部和控制部。控制部利用升降部使投光部(27A)及受光部(27B...

本发明涉及基板搬运装置、基板处理装置以及基板搬运方法。投光部(27A)及受光部(27B)隔着在直线(LNE)上设定于中心(CR)与端部(ED)之间的第1测量点(MP1)而对置。投光部(28A)及受光部(28B)隔着在直线(LNE)上设定...

本发明提供一种即使在液体的流量发生变动的情况下，也能够使微泡的生成效率稳定的技术。本发明提供微泡生成器，具有微泡生成器的处理液供给装置和基板处理装置，所述微泡生成器具有第一管部(21)、狭窄管部(23)、第二管部(25)、多流路阀机构(...

本发明提供一种热处理装置及热处理方法，其能防止闪光照射时的衬底的弹跳。在基座(74)的保持板(75)的上表面，立设具有比半导体晶圆(W)的直径小的直径的圆环形状的石英凸状部，也就是支撑环(77)。对由支撑环(77)支撑的半导体晶圆(W)...

本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法，其能够提高基板处理装置的吞吐量。本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。基板处理装置具备第一前部、第一后部和桥部。第一前部、桥部和第一后部以该顺序在前后方向上排列。第一前部具备多个处理单元。第一前...