株式会社斯库林集团专利技术

株式会社斯库林集团共有418项专利

  • 同步地执行由第1移动部进行的上游工件向第1交接位置的移动、和由第2移动部进行的下游工件向第2交接位置的移动,同步地执行由第1送给部进行的上游工件从第1交接位置向第2交接位置的送给、和由第2送给部进行的下游工件从第2交接位置向第3交接位置...
  • 根据图像的特征将包含细胞的图像适当地分割为多种区域。为了达到该目的,本发明的图像处理方法包括如下工序:获取包含有培养的细胞的原始图像(步骤S101);将原始图像分割为由规定数量的像素构成的块,求出各块内的图像所具有的空间频率分量(步骤S...
  • 本发明提供图像记录装置、图像记录方法以及修正信息获取方法。在图像记录装置中,在记录介质记录有图像时,记录介质相对于头部仅通过1次(步骤S26)。在记录图像前,为了减少混色不均匀,而修正图像所包含的至少一部分的像素的颜色成分的值。此时,基...
  • 本发明提供一种液体中等离子体发生装置,其使向液体中供给的气体产生等离子体,并高效且稳定地产生等离子体。液体中等离子体发生装置(3)具备:在内部空间保持液体的框体(31);在内部空间内具有开口并从该开口向液体中排出气体的气体供给管(32)...
  • 基板处理方法包含有:液体喷出步骤,从喷嘴朝在腔室内被基板保持单元保持的基板的主面中的规定的供给区域喷出液体;加湿气体供给步骤,为了去除在所述基板上带有的电荷而对所述基板的主面供给比所述腔室内的湿度还高的湿度的加湿气体;以及旋转干燥步骤,...
  • 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法,向被施加浮起力并搬运的基板良好地涂敷处理液。涂敷装置(1)具有:搬运机构(5),使由浮起工作台部(3)被施加浮起力的浮起基板(W)沿着X方向移动;测量器(72),测量浮起基板(W)的铅垂位置;...
  • 本发明涉及衬底处理方法及衬底处理装置。该衬底处理方法包括:干燥前处理液供给工序,向衬底的表面供给干燥前处理液,所述干燥前处理液包含形成凝固体的凝固体形成物质、和与上述凝固体形成物质互溶的溶解物质,并且所述干燥前处理液具有比上述凝固体形成...
  • 本发明提供能恰当调节向处理液罐返回的处理液的温度的处理液温度调节装置、供给方法及基板处理装置。温度调节装置调节包括:上游路,从供从处理液罐向基板处理单元供给的处理液通过的供给流路分支,而供向处理液罐返回的处理液流入;第一及第二分流路,与...
  • 本发明涉及衬底处理方法、衬底处理装置及干燥前处理液。向形成有图案的衬底的表面供给干燥前处理液,所述干燥前处理液为包含不经液体即变化为气体的升华性物质和与升华性物质互溶的溶剂的溶液。然后,从衬底的表面上的干燥前处理液中蒸发溶剂,由此在衬底...
  • 本发明提供一种无论基座上是否保持有衬底,均能准确地测定基座的温度的热处理装置。在进行作为处理对象的半导体晶圆的热处理前,将虚设晶圆(DW)载置于石英制的基座(74),从卤素灯(HL)进行光照射而将基座(74)预热。控制部基于通过放射温度...
  • 本发明的描绘装置包括作为检测被工作台保持的基板上的标记的位置的标记位置检测装置的功能。描绘装置在使工作台移动期间,获取表示基板上的包括标记的设计上的位置的第一区域的第一图像(83a)和表示与第一区域仅一部分重叠的第二区域的两个第二图像(...
  • 本实用新型提供一种基板处理装置,能够向施加浮起力而搬运的基板良好地涂敷处理液。作为基板处理装置的涂敷装置1具有:浮起工作台部(3),向基板(W)施加浮起力;搬运机构(5),使被施加了浮起力的基板(W)向第一方向D1移动;喷嘴(61),朝...
  • 本发明涉及衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法包括:处理液供给工序,向具有具备凹凸的图案面的衬底的前述图案面供给处理液;处理膜形成工序,使已被供给至前述图案面的前述处理液固化或硬化,以追随该图案面的凹凸的方式形成保持存在于前述图案面...
  • 本发明涉及衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法,其包括:处理液供给工序,向衬底的表面供给具有溶质及溶剂的处理液;处理膜形成工序,使已被供给至前述衬底的表面的前述处理液固化或硬化,在前述衬底的表面形成保持存在于前述衬底表面的去除对象物...
  • 本发明提供一种减压干燥装置,在通过减压使基板上的处理液干燥时,能够减少处理液中的干燥不均的发生。在腔室(10)内的底面(100)设置有凹部(12),在该凹部(12)的底面(120)设置有排气口(14)。在容纳空间(10S)中的Z轴方向(...
  • 本发明提供一种能够高精度地进行金属催化剂的承载量测定的技术。承载量测定部(50)从振荡器(52)对在Y轴方向上搬运的基材(90)照射电磁波,并检测透射基材(90)后的电磁波的电场强度,由此测定催化剂层(92)中的金属催化剂的承载量。承载...
  • 一种基板处理方法,包含有:基板保持步骤,保持具有露出了金属的表面的基板;非活性气体置换步骤,对所述基板的表面附近供给非活性气体,由此以非活性气体置换所述基板的表面的周围的环境气体;调整步骤,以形成所述金属不会与冲洗液反应的惰性态的方式或...
  • 本发明的衬底处理装置具备旋转保持部、涂布液喷出系统、第1喷出速率调整部及第2喷出速率调整部。旋转保持部将衬底以水平姿势保持并使它旋转。涂布液喷出系统将涂布液喷出到通过旋转保持部而旋转的衬底的一面的中心部。第1喷出速率调整部在第1期间,将...
  • 本发明提供一种可以用于底涂层、保护膜层等涂层的印刷中、能够抑制印刷图像的可见性下降且确认涂层的印刷不良的喷墨用水性涂料组合物、印刷方法和印刷物。本发明所涉及的喷墨用水性涂料组合物,其特征在于,其为在可见光区域具有光透过性的喷墨用水性涂料...
  • 本发明提供一种图像获取装置,包括:搬送机构、落射照明部(71)、透射照明部(72)、以及摄像部(73)。搬送机构将片剂(9)吸附保持于设置在搬送带(12)的吸附孔(14),使搬送带(12)移动从而搬送片剂(9)。落射照明部(71)从搬送...
1 2 3 4 5 6 7 8 尾页