本发明涉及研磨装置、基板处理装置以及研磨方法。研磨装置具备研磨单元22。研磨单元22具备：在将基板W保持为水平姿态的状态下使基板W旋转的保持旋转部35；对基板W进行加热的热板45；以及包含分散有磨粒的树脂体的研磨工具96，该研磨工具96...

本发明提供一种基板清洗刷及基板清洗装置。基板清洗刷包括清洗部，在基板的清洗中使用。清洗部具有在清洗基板时能够与基板接触的清洗面。在清洗面上形成切缝。清洗部通过切缝被划分成多个清洗块。在清洗面与基板接触时，通过清洗部的弹性变形，各清洗块和...

基板处理装置1具备：使基板W相对于载具出入的分度器机器人；在对基板W进行加热的同时研磨基板的背面的研磨单元22；以及将从分度器机器人搬送来的基板W搬送到研磨单元的基板搬送机器人。研磨单元22具备：在将基板W保持为水平姿态的状态下使基板W...

本发明涉及一种衬底处理方法、衬底处理装置及衬底处理液。本发明的衬底处理方法是一种对衬底W的图案形成面进行处理的衬底处理方法，且包括如下步骤：供给步骤，向所述图案形成面供给包含升华性物质及溶剂的衬底处理液；固化步骤，使所述供给步骤中供给至...

本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，能够抑制因位置偏离而引起的基板的处理不良的产生。所述基板清洗装置包含腔室、第一处理部及第二处理部。腔室形成包含第一处理位置及第二处理位置的处理空间。第一处理部对在腔室内配置于第一处理位置的基板进...

本发明的学习装置具备：数据获取部，获取包括第一种类的第一图像和与第一种类不同的第二种类的第二图像的训练数据；第一学习部，对以相同条件学习第一图像和第二图像的一轮训练进行多次重复；第二学习部，对使利用第一学习部生成的学习完毕的学习模型以不...

本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置的处理块具备与批量处理区域及单片基板搬送区域相邻的濡湿搬送区域。在濡湿搬送区域设置有：设于六个批量处理槽的列的延长线上且将进行了浸渍处理的多张基板从铅垂姿势变换为水平姿势的第二姿势变换部；从第二...

本发明提供一种支援装置、支援方法、基板处理系统及存储介质。支援装置(200)支援基板处理装置(100)的参数的值(X2)的调整。参数包含被检测对应的物理量(Z1)的检测对象参数。支援装置的运算处理部(201)使第1机器学习模型(M1)学...

本发明提供一种描绘系统，该描绘系统(7)具有：描绘单元(11)，对基板进行描绘；以及控制部(12)，通过控制描绘单元(11)，使描绘单元(11)执行对对象基板的图案的描绘以及与该图案的描绘相关的描绘相关信息向对象基板上的规定位置的描绘。...

本发明提供一种基板处理装置，在基板处理装置的姿态变换部中，第一铅垂保持部具备：第一旋转部件、和以从第一旋转部件突出的方式设置的第一保持部主体。第二铅垂保持部具备：第二旋转部件、和以从第二旋转部件突出的方式设置的第二保持部主体。旋转驱动部...

本发明提供一种下表面刷、刷单元及基板清洗装置。下表面刷在基板的下表面的清洗中使用，包括基台部、第1清洗部及第2清洗部。基台部具有上表面，且构成为能够以预先确定的中心点为中心旋转。第1清洗部从基台部的上表面向上方突出，且向一个方向延伸。第...

本发明提供一种能够提高清洗后的基板的下表面的清洁度的基板清洗装置及基板清洗方法。基板清洗装置包括：上侧保持装置，对基板的外周端部进行保持；以及下表面刷，与基板的下表面接触来对所述基板的下表面进行清洗。下表面刷在与由上侧保持装置保持的基板...

基板处理装置的姿态变换部具备：在基板为水平姿态的情况下载置多张基板的两个水平保持部；在基板为铅垂姿态的情况下设置于水平保持部的下方并以铅垂姿态保持基板的两个铅垂保持部；使两个铅垂保持部在保持位置与通过位置之间移动的开闭部；支撑两个水平保...

本发明提供一种能够高效且均匀地进行激光标记的技术。激光打标机(1)具备激光光源(11)、照明光学系统(21)、空间光调制器(22)、投影光学系统(23)、以及扫描部(13)。激光光源(11)射出激光(L31)。照明光学系统(21)将激光...

本发明的模板生成装置的区域选择部从设置在基板上的图案的CAD数据选择规定的大小的模板区域。模板生成部通过以描绘装置的拍摄用分辨率对该CAD数据的模板区域进行栅格化，来生成灰度的模板(71)。该拍摄用分辨率与描绘装置的描绘用分辨率不同。模...

在基板处理装置中，推动件设置于第一搬运机构能够访问的位置，姿势转换部设置于中央机器人能够访问的位置。第二搬运机构接收推动件所保持的垂直姿势的基板并交接给姿势转换部。第二搬运机构具备在径向上夹入铅垂姿势的基板的两个侧部并保持基板的两个水平...

本发明通过重新审视具备分批式模块和单片式模块的装置的结构，提供一种一边可靠地搬送基板一边抑制了制造成本的基板处理装置。本发明着注目于基板处理装置(1)中的特别是取出成为铅垂姿势的基板(W)的排列中的一张基板(W)，使基板(W)的姿势成为...

本发明提供获取描绘装置中的与描绘位置相关的信息的描绘位置信息获取方法及描绘方法。描绘位置信息获取方法具有：对校正用基板的第一主面进行拍摄，获取两个第一基准标记的位置的工序(步骤S33)；在校正用基板的第二主面上描绘多个对准标记的工序(步...

本发明提供在水电解装置中能够降低用于间隔体的金属板的数量的技术。水电解装置具有电解单元(10)与间隔体(20)交替地层叠的层叠结构(30)。间隔体具有金属板(21)和流路构件(91)。金属板具有流通孔(28)。流路构件(91)在层叠方向...

本发明提供基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置(100)具备处理槽(110)、基板保持部(120)、气泡供给部(135)和多个处理液供给部(An)。基板保持部(120)将基板(W)浸渍在贮存于处理槽(110)的处理液(LQ)中。气泡...