狭缝喷嘴、狭缝喷嘴的调整方法及基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够长期使用的狭缝喷嘴、狭缝喷嘴的调整方法及基板处理装置。本发明专利技术包括：块体，具有能够安装于狭缝喷嘴的第二本体部的调整本体部、与从调整本体部向吐出口侧突出设置的突出部，通过调整本体部向第二本体部的安装，突出部相对于第二本体部在狭缝喷嘴的第一本体部的相反侧，在相向方向上隔开第二间隙与第二本体部相向；以及间隙调整部，执行扩大动作与狭小动作中的至少其中一者来调整开口尺寸，所述扩大动作是通过第二间隙的减少而使第二本体部在吐出口的附近从第一本体部分离来扩大开口尺寸，所述狭小动作是通过第二间隙的增大而使第二本体部在吐出口的附近接近第一本体部来缩窄开口尺寸。第一本体部来缩窄开口尺寸。第一本体部来缩窄开口尺寸。

【技术实现步骤摘要】
狭缝喷嘴、狭缝喷嘴的调整方法及基板处理装置


[0001]本专利技术涉及一种具有狭缝状的吐出口的狭缝喷嘴、所述狭缝喷嘴的调整方法及使用所述狭缝喷嘴将处理液涂布在基板上的基板处理装置。此外，所述基板包括：半导体基板、光掩模用基板、液晶显示用基板、有机电致发光(Electroluminescence，EL)显示用基板、等离子体显示用基板、场发射显示器(Field Emission Display，FED)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、磁光盘用基板等。

技术介绍

[0002]在半导体装置或液晶显示装置等电子元件等的制造步骤中，使用向基板的表面供给处理液，并将所述处理液涂布在基板上的基板处理装置。基板处理装置一面在使基板浮起的状态下搬送所述基板，一面将处理液输送至狭缝喷嘴并从狭缝喷嘴的吐出口向基板的表面吐出，而将处理液涂布在大致整个基板上。另外，另一种基板处理装置一面在平台上吸附保持基板，一面在从狭缝喷嘴的吐出口朝向基板的表面吐出的状态下，使狭缝喷嘴相对于基板进行相对移动来将处理液涂布在大致整个基板上。
[0003]近年来，伴随制品的高品质化，提高通过基板处理装置来涂布的处理液的膜厚的均匀性变得重要。为了所述目的，提出有一种用于能够在沿着狭缝的长边方向的各位置，各别地调整狭缝状的吐出口的开口尺寸的结构。例如在专利文献1中，沿着吐出口的长边方向排列有多个差动螺丝等调整螺丝。而且，第一唇部及第二唇部能够根据各调整螺丝的旋转而相互接近及分离。由此，能够进行极为细致的开口尺寸的调整。
[0004][现有技术文献][0005][专利文献][0006][专利文献1]日本专利特开2021
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45720号公报

技术实现思路

[0007][专利技术所要解决的问题][0008]然而，所述调整机构是在狭缝喷嘴的制造阶段组装，因此开口尺寸的调整范围依存于狭缝喷嘴的喷嘴本体的结构。因此，在狭缝喷嘴的制造后，即便欲超过所述调整范围来调整狭缝喷嘴的开口尺寸，也难以应对其要求，需要重新制作狭缝喷嘴。
[0009]另外，就电子元件的微细化或材料的有效利用等观点而言，关于涂布的均匀性，要求比目前为止更高的水平。因此，在吐出口的横跨长边方向的整个区域中，需要极为细致地调整吐出量。然而，在所述现有技术中，通过使调整螺丝旋转单位旋转量(例如一次旋转)来调整的范围、所谓调整的分辨率是固定的。即，开口尺寸的调整精度是在制造阶段决定的。因此，在狭缝喷嘴的制造后，难以在制造阶段超过唯一决定的精度来调整开口尺寸，有时无法应对所述要求。
[0010]如上所述，在现有的狭缝喷嘴及包括所述狭缝喷嘴的基板处理装置中，可调整吐出口的开口尺寸的范围或精度等受到限制。其结果，狭缝喷嘴的能够使用范围狭窄，这成为
阻碍狭缝喷嘴的长期使用的主要原因之一。
[0011]本专利技术是鉴于所述问题而成，且其目的在于提供一种如下技术，即在具有狭缝状的吐出口的狭缝喷嘴及包括所述狭缝喷嘴并将处理液涂布在基板上的基板处理装置中，提高吐出口的开口尺寸的调整允许度，从而能够长期使用狭缝喷嘴。
[0012][解决问题的技术手段][0013]本专利技术的第一实施例是一种狭缝喷嘴，包括：喷嘴本体，通过第一本体部与第二本体部隔开第一间隙相互相向，而形成呈狭缝状开口的吐出口；以及调整机构，使第二本体部向第一本体部与第二本体部的相向方向位移来调整吐出口的开口尺寸，调整机构包括：块体，具有能够安装于第二本体部的调整本体部、与从调整本体部向吐出口侧突出设置的突出部，通过调整本体部向第二本体部的安装，突出部相对于第二本体部在第一本体部的相反侧，在相向方向上隔开第二间隙与第二本体部相向；以及间隙调整部，执行扩大动作与狭小动作中的至少其中一者来调整开口尺寸，所述扩大动作是通过第二间隙的减少而使第二本体部在吐出口的附近从第一本体部分离来扩大开口尺寸，所述狭小动作是通过第二间隙的增大而使第二本体部在吐出口的附近接近第一本体部来缩窄开口尺寸。
[0014]本专利技术的第二实施例是一种狭缝喷嘴的调整方法，通过使第一本体部与第二本体部隔开第一间隙相互相向来调整呈狭缝状开口的吐出口的开口尺寸，且所述狭缝喷嘴的调整方法包括：第一工序，准备块体，所述块体具有能够安装于第二本体部的调整本体部、与从调整本体部向吐出口侧突出设置的突出部；第二工序，以突出部相对于第二本体部在第一本体部的相反侧，在第一本体部与第二本体部的相向方向上与从第二本体部隔开第二间隙且相向的方式将块体的调整本体部安装于第二本体部；以及第三工序，在第二工序后，执行扩大动作与狭小动作中的至少其中一者来调整开口尺寸，所述扩大动作是通过第二间隙的减少而使第二本体部在吐出口的附近从第一本体部分离来扩大开口尺寸，所述狭小动作是通过第二间隙的增大而使第二本体部在吐出口的附近接近第一本体部来缩窄开口尺寸。
[0015]本专利技术的第三实施例是一种基板处理装置，包括：所述狭缝喷嘴；相对移动机构，使基板与狭缝喷嘴的吐出口相向地配置，并且使狭缝喷嘴与基板在相向方向上相对移动；以及处理液供给机构，向狭缝喷嘴供给处理液，将从吐出口吐出的处理液涂布在基板的表面上。
[0016][专利技术的效果][0017]如以上所述，在本专利技术中，通过第一本体部与第二本体部隔开第一间隙相互相向，而形成有呈狭缝状开口的吐出口。在调整吐出口的开口尺寸时，在第二本体部装设块体。更详细而言，以使突出部隔开第二间隙与第二本体部相向的方式相对于第二间隙安装调整本体部。其后，通过第二间隙的减少或增大，第二本体部在吐出口的附近从第一本体部分离或接近来调整开口尺寸。如此，安装喷嘴本体以外的零件(块体)，调整开口尺寸。因此，可在与块体对应的范围内调整开口尺寸，可提高调整允许度。其结果，能够长期使用狭缝喷嘴。
附图说明
[0018]图1是示意性地表示作为装备本专利技术的狭缝喷嘴的基板处理装置的一实施方式的涂布装置的整体结构的图。
[0019]图2A是示意性地表示在图1的涂布装置中使用的狭缝喷嘴的第一实施方式的主要
结构的分解组装图。
[0020]图2B是从铅垂下方观察狭缝喷嘴的图。
[0021]图2C是图2B中的C
‑
C线剖面图。
[0022]图3是用于说明由在第一实施方式中采用了外置方式的调整机构带来的作用效果的图。
[0023]图4是表示本专利技术的狭缝喷嘴的第二实施方式的一部分的图。
[0024]图5是表示本专利技术的狭缝喷嘴的第三实施方式的一部分的图。
[0025]图6是表示本专利技术的狭缝喷嘴的第四实施方式的一部分的图。
[0026]图7A是示意性地表示在图1的涂布装置中使用的狭缝喷嘴的第五实施方式的主要结构的分解组装图。
[0027]图7B是从铅垂下方观察第五实施方式的狭缝喷嘴的图。
[0028]图7C是图7B中的C
‑
C线剖面图。
[0029]图8A是从铅垂下方观察在图1的涂布装置中使用的狭缝喷嘴的第六实施方式的图。
[0030]图8B是图8A中的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种狭缝喷嘴，其特征在于，包括：喷嘴本体，通过第一本体部与第二本体部隔开第一间隙相互相向，而形成呈狭缝状开口的吐出口；以及调整机构，使所述第二本体部向所述第一本体部与所述第二本体部的相向方向位移来调整所述吐出口的开口尺寸，所述调整机构包括：块体，具有能够安装于所述第二本体部的调整本体部、与从所述调整本体部向吐出口侧突出设置的突出部，通过所述调整本体部向所述第二本体部的安装，所述突出部相对于所述第二本体部在所述第一本体部的相反侧，在所述相向方向上隔开第二间隙与所述第二本体部相向；以及间隙调整部，执行扩大动作与狭小动作中的至少其中一者来调整所述开口尺寸，所述扩大动作是通过所述第二间隙的减少而使所述第二本体部在所述吐出口的附近从所述第一本体部分离来扩大所述开口尺寸，所述狭小动作是通过所述第二间隙的增大而使所述第二本体部在所述吐出口的附近接近所述第一本体部来缩窄所述开口尺寸。2.根据权利要求1所述的狭缝喷嘴，其中，所述间隙调整部具有用于执行所述扩大动作的扩大调整机构，所述突出部使沿所述相向方向贯通地设置的贯通孔作为用于设置所述扩大调整机构的扩大设置部位发挥功能，所述扩大调整机构具有螺栓，所述螺栓具有头部、与从所述头部的支承面朝所述相向方向延伸设置并且能够与所述第二本体部螺合的螺纹部，在相对于所述突出部从所述第二本体部的相反侧将所述螺栓插通至所述扩大设置部位并利用所述头部的支承面卡止所述突出部的状态下，通过所述螺栓的旋转而将所述螺纹部旋入至所述第二本体部，由此将所述第二本体部向所述突出部侧吸引而扩大所述开口尺寸。3.根据权利要求2所述的狭缝喷嘴，其中，所述突出部具有多个所述扩大设置部位，多个所述扩大设置部位在与所述相向方向正交的方向上并排设置，并且能够对每个所述扩大设置部位设置所述扩大调整机构。4.根据权利要求3所述的狭缝喷嘴，其中，所述突出部由在与所述相向方向正交的方向上相互邻接的所述扩大设置部位之间所形成的狭缝划分出多个。5.根据权利要求1所述的狭缝喷嘴，其中，所述间隙调整部具有用于执行所述狭小动作的狭小调整机构，所述突出部使相对于与所述第二本体部相向的相向面而设置于所述第二本体部的相反侧的凹部或贯通孔作为用于设置所述狭小调整机构的狭小设置部位发挥功能，所述狭小调整机构具有沿所述相向方向延伸设置的螺杆、和与所述螺杆的中央部螺合的螺母，在所述螺杆的前端部与所述第二本体部卡合并且所述螺杆的后端部插入至所述狭小设置部位的状态下，保持使所述螺母抵接于所述突出部，同时通过所述螺母的旋转而使所述螺杆向所述第二本体部侧位移，由此将所述第二本体部推向所述第一本体部侧而缩窄所述开口尺寸。
6.根据权利要求5所述的狭缝喷嘴，其中，所述突出部具有多个所述狭小设置部位，多个所述狭小设置部位在与所述相向方向正交的方向上并排设置，并且能够对每个所述狭小设置部位设置所述狭小调整机构。7.根据权利要求6所述的狭缝喷嘴，其中，所述突出部由在与所述相向方向正交的方向上相互邻接的所述狭小设置部位之间所形成的狭缝划分出多个。8.根据权利要求1所述的狭缝喷嘴，其中，所述间隙调整部能够选择性地设置用于执行所述扩大动作的扩大调整机构与用于执行所述狭小动作的狭小调整机构，所述突出部使沿所述相向方向贯通的贯通孔作为用于选择性地设置所述扩大调整机构及所述狭小调整机构的共通设置部位发挥功能，所述扩大调整机构具有螺栓，所述螺栓具有头部、与从所述头部的支承面朝所述相向方向延伸设置并且能够与所述第二本体部螺合的螺纹部，在相对于所述突出部从所述第二本体部的相反侧将所述螺栓插通至所述共通设置部位并利用所述头部的支承面卡止所述突出部的状态下，通过所述螺栓的旋转而将所述螺纹部旋入至所述第二本体部，由此将所述第二本体部向所述突出部侧吸引而扩大所述开口尺寸，所述狭小调整机构具有沿所述相向方向延伸设置的螺杆、和与所述螺杆的中央部螺合的螺母，在所述螺杆...

【专利技术属性】
技术研发人员：安陪裕滋，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：