衬底洗净装置及衬底洗净方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种衬底洗净装置及衬底洗净方法。衬底洗净装置包含：衬底保持部，将衬底以水平姿势保持；及一面洗净装置，洗净由衬底保持部保持的衬底的一面。一面洗净装置包含：洗净具，以可与衬底的一面接触的方式设置；流体缸，对洗净具施加朝向上方的力；及缸驱动部，驱动流体缸。缸驱动部在待机时，以对洗净具施加朝向上方的第1力的方式，驱动流体缸。另外，缸驱动部在洗净衬底的一面时，以在洗净具与衬底的一面接触的状态下，对洗净具施加朝向上方且与第1力不同的第2力，由此洗净具以预先设定的力推压一面的方式，驱动流体缸。驱动流体缸。驱动流体缸。

【技术实现步骤摘要】
衬底洗净装置及衬底洗净方法


[0001]本专利技术涉及一种通过使洗净具与衬底接触而洗净衬底的衬底洗净装置及衬底洗净方法。

技术介绍

[0002]为了对液晶显示装置或有机EL(Electro Luminescence，电致发光)显示装置等中使用的FPD(Flat Panel Display，平板显示器)用衬底、半导体衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、磁光盘用衬底、光罩用衬底、陶瓷衬底或太阳电池用衬底等各种衬底进行各种处理，一直在使用衬底处理装置。为了洗净衬底，使用衬底洗净装置。
[0003]日本专利特开2004
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306033号公报中记载的衬底洗净装置包含旋转吸盘、旋转支柱、支撑臂及洗净刷。旋转吸盘通过吸附保持衬底的下表面中央部，而将衬底以水平姿势可旋转地保持。旋转支柱沿着上下方向延伸，并且可绕沿着上下方向延伸的轴旋转地设置于旋转吸盘的侧方的位置。支撑臂从旋转支柱的上端部沿着水平方向延伸，并且可在上下方向上移动地设置于比旋转吸盘靠上方的位置。洗净刷设置于支撑臂的前端，以通过与衬底的上表面接触，可洗净衬底的上表面的方式构成。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种衬底洗净装置，包含：衬底保持部，将衬底以水平姿势保持；第1洗净具，以可与由所述衬底保持部保持的衬底的上表面及下表面中的一面接触的方式设置；第1流体缸，对所述第1洗净具施加朝向上方的力；及第1缸驱动部，驱动所述第1流体缸；且所述第1缸驱动部在待机时，以对所述第1洗净具施加朝向上方的第1力的方式，驱动所述第1流体缸，在洗净衬底的所述一面时，以在所述第1洗净具与衬底的所述一面接触的状态下，对所述第1洗净具施加朝向上方且与所述第1力不同的第2力，由此所述第1洗净具以预先设定的力推压所述一面的方式，驱动所述第1流体缸。2.根据权利要求1所述的衬底洗净装置，其中所述第1力以在所述第1流体缸对所述第1洗净具施加朝向上方的所述第1力时，所述第1洗净具中至少一部分的重量被抵消的方式设定。3.根据权利要求1或2所述的衬底洗净装置，其中还包含保持所述第1洗净具的第1洗净具保持部，且所述第1流体缸经由所述第1洗净具保持部对所述第1洗净具施加朝向上方的所述第1或第2力。4.根据权利要求3所述的衬底洗净装置，其中还包含：支撑部件，支撑所述第1流体缸；及支撑部件移动部，以可使所述支撑部件至少沿着上下方向移动的方式构成，使所述支撑部件在接触位置与待机位置之间移动，所述接触位置是所述第1洗净具与由所述衬底保持部保持的衬底的所述一面接触的位置，所述待机位置是所述第1洗净具相对于由所述衬底保持部保持的衬底的所述一面远隔的位置。5.根据权利要求4所述的衬底洗净装置，其中所述支撑部件包含外壳部件，该外壳部件以收容所述第1流体缸及所述第1洗净具保持部的方式形成；且所述第1洗净具的至少一部分以位于所述外壳部件的外部的方式，由所述第1洗净具保持部保持。6.根据权利要求1至5中任一项所述的衬底洗净装置，其中还包含荷重传感器，该荷重传感器检测从所述第1流体缸对所述第1洗净具朝向上方施加的力；且所述第1缸驱动部基于所述荷重传感器的输出，调整所述第1流体缸对所述第1洗净具施加的力。7.根据权利要求1至6中任一项所述的衬底洗净装置，其中所述第1洗净具包含刷子，该刷子具有与由所述衬底保持部保持的衬底的所述一面对向，并可与衬底的所述一面接触的接触面；且在俯视下，所述刷子的所述接触面中相隔最远的2点之间的长度大于衬底的直径的1/3。8.根据权利要求1至7中任一项所述的衬底洗净装置，其中
还包含异常检测部，该异常检测部在洗净衬底的所述一面时，对所述第1洗净具未与所述一面接触的现象进行检测。9.根据权利要求1至8中任一项所述的衬底洗净装置，其中还包含：第2洗净具，以可与由所述衬底保持部保持的衬底的上表面及下表面中的另一面接触的方式设置；第2流体缸，对所述第2洗净具施加朝向上方的力；及第2缸驱动部，驱动所述第2流体缸；且所述第2缸驱动部在待机时，以对所述第2洗净具施加朝向上方的第3力的方式，驱动...

【专利技术属性】
技术研发人员：篠原敬，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：