本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。本发明提供一种衬底处理装置，包含：分度器块；及处理块，在所述分度器块的横向上相邻，在上下方向积层着多个处理块层。所述分度器块包含：收容器保持部，用来保持收容衬底的衬底收容器；及第1搬送机构，在保...

第一半切部(3)具备：吸附台(30)，吸附具有第一背板(81)、电解质膜(82)、第一催化剂层(83)的电极层基材(8)；圆筒状的旋转模切机(31)，具有沿第一催化剂层(83)的周围的切断对象线(8T)在电极层基材(8)设置切断部(8C...

本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，其可适当地矫正基板的两种翘曲，同时保持基板并对基板进行处理。所述基板处理装置1包括：翘曲计量部、搬送机构、第一载台、以及第二载台。第一载台通过多个吸附槽吸附并保持基板的下表面。第二载台通过包含弹...

细胞电位测定装置(1)具有滴加细胞悬液的测定面(1a)。细胞电位测定装置(1)具备多个作用电极(10)和参照电极(20)。多个作用电极(10)在测定面(1a)中的作用区域(R1)内二维排列。参照电极(20)设置于测定面(1a)中的作用区...

本发明能够抑制不均匀地向在贮存于处理槽中的处理液中浸渍的基板供给处理液以提高处理品质。具有：抑制部，在由基板保持部保持的基板与处理液喷出部之间，遮挡从处理液喷出部喷出并且朝向基板的处理液的液流的至少一部分，来抑制从处理液喷出部向基板直接...

本发明的课题在于改善衬底的表面周缘部上的图案倒塌。本发明涉及一种衬底处理方法及衬底处理装置，该衬底处理方法的特征在于，具备：第1升华工序，向衬底的表面中央部喷出第1气体并使第1气体经由整个凝固体流通至衬底周边而使整个凝固体升华；及第2升...

本发明提供一种基板处理方法及基板处理装置。基板处理方法包括步骤(S51)、步骤(S52)、及步骤(S6)。在步骤(S51)中，在将浸渍于冲洗液(71)中的基板(W)从冲洗液(71)中提起后，使表面张力小于冲洗液(71)的有机溶剂附着于基...

本发明提供一种能够容易地确认气泡供给管的开口的状态的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置(100A)具备处理槽(110)、气泡供给管(180A)、测量部(353)和判定部(12)。处理槽(110)贮留处理液(LQ)并浸渍基板(W)...

本发明提供一种衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备第1搬送部(6a)及第2搬送部(6b)。第2搬送部(6b)设置在第1搬送部(6a)的下方。第1搬送部(6a)具有第1搬送空间(61a)、第1搬送FFU(11、12)及第1地板部(71)。...

本发明提供一种衬底处理装置及衬底搬送方法。衬底处理装置(100)的第2搬送机构(23)具备第1非共用手(H_F)、第2非共用手(H_S)及M个共用手(H_1～H_M)。在1个搬送循环内，M个共用手(H_1～H_M)在不同的时机下支撑处理...

本发明提供一种能够容易地确认气泡供给管的开口的状态的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置(100B)具备处理槽(110)、气泡供给管(180A)、气体供给管(261A)、物理量检测部(253A)和判定部(12)。处理槽(110)贮...

本发明提供一种能够提高基板的清洁度的基板处理方法以及基板处理装置。基板处理方法包含将被稀释化的异丙醇即稀释异丙醇(dIPA)储存在处理槽(3)中的工序(S14)，以及将经憎水化处理的基板(W)浸渍在处理槽(3)内的稀释异丙醇(dIPA)...

本发明提供一种能在短时间内高效率地使腔室内的温度稳定化的热处理方法。在对作为处理对象的半导体晶圆进行处理之前，对多个虚设晶圆进行加热处理，从而将基座等腔室内构造物预热。针对多个虚设晶圆中的前几片虚设晶圆，在通过来自卤素灯的光照射加热到第...

本发明提供一种衬底处理装置。衬底处理装置(10)具备：衬底处理单元(100)，对衬底(W)进行处理；循环流路(330)，配置有对被供给到衬底处理单元(100)中的处理液进行加热的加热器(313)，且供处理液进行循环；吐出流路(132)，...

基板处理装置包括：对置构件，其具备具有从上方与由基板保持单元保持的基板相对置的对置面的圆板部、以及从所述圆板部向以所述铅垂轴线为中心的径向上的外方延伸的延设部；在俯视下包围由所述基板保持单元保持的基板的环状构件；以及对置构件升降单元，其...

基板处理方法包括：处理液供给工序，将处理液供给至基板的表面，处理膜形成工序，使所述基板的表面上的所述处理液固化或硬化，形成保持存在于所述基板的表面的除去对象物的处理膜，以及除去工序，通过向所述基板的表面供给除去液，在使所述处理膜保持有所...

本发明的课题在于基板处理装置的维护作业变得容易。基板处理装置包括：保持面，对基板进行保持；多个升降销，从保持面突出；框构件，从下方支撑升降销且在俯视时与保持面重叠地配置；以及升降销驱动部，在俯视时配置于框构件的外周部，通过使框构件升降来...

使中央部由旋转卡盘5支承的衬底W绕旋转轴线A1旋转。在外周部蚀刻工序中，从处理液喷嘴6的排出口6a向设置于旋转的衬底W的上表面外周部102的着液位置105排出蚀刻液。在外周部蚀刻工序中，监视上表面外周部102的高度(上表面外周部102的...

本实用新型的课题在于在狭缝喷嘴及包括所述狭缝喷嘴的基板处理装置中，能够在吐出口的中央部与端部之间有效率地进行用于使吐出量均匀化的作业。本实用新型的狭缝喷嘴包括：喷嘴本体，通过一对唇部隔开间隙地相互相向，形成呈狭缝状开口的吐出口；以及调整...

基于图案的表面为亲水性还是疏水性来选择升华性物质。在图案的表面为亲水性的情况下，选择对水的溶解度比所选择的升华性物质小的亲水用的溶剂，在图案的表面为疏水性的情况下，选择对油的溶解度比所选择的升华性物质小的疏水用的溶剂。使所选择的升华性物...