使中央部由旋转卡盘5支承的衬底W绕旋转轴线A1旋转。在外周部蚀刻工序中，从处理液喷嘴6的排出口6a向设置于旋转的衬底W的上表面外周部102的着液位置105排出蚀刻液。在外周部蚀刻工序中，监视上表面外周部102的高度(上表面外周部102的高度应变HD)，基于求出的上表面外周部102的高度应变HD使着液位置105在径向RD上移动(高度应变监视工序(S6)&着液位置移动工序(S7))。由此，由被供给到着液位置105的蚀刻液形成的液膜LF的内周位置LFa被调整为接近期望位置。近期望位置。近期望位置。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】衬底处理方法及衬底处理装置
[0001]本申请主张基于2019年5月29日提出的日本专利申请2019
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100238号的优先权，该申请的全部内容通过引用并入本文。
[0002]本专利技术涉及衬底处理方法及衬底处理装置。成为处理对象的衬底的例子包括半导体晶片、液晶显示装置用衬底，有机EL(Electroluminescence)显示装置等FPD(Flat Panel Display)用衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、光磁盘用衬底、光掩模用衬底、陶瓷衬底、太阳能电池用衬底等。
技术介绍
[0003]在半导体装置、液晶显示装置等的制造工序中，对半导体晶片、液晶显示装置用玻璃衬底等衬底的外周部进行使用蚀刻液的处理(外周部蚀刻)。逐片对衬底进行处理的单片式的衬底处理装置，例如具备水平地保持衬底并使其旋转的旋转卡盘、和向被保持于旋转卡盘的衬底的上表面外周部排出蚀刻液的处理液喷嘴(参照下述专利文献1)。
[0004]有时在被支承于旋转卡盘的衬底会产生翘曲。当衬底产生翘曲时，衬底的外周部相对于衬底的中央部(在该情况下为衬底的中心附近)在上下方向上位移。换言之，衬底的外周部的高度位置相对于衬底的中央在上下方向上位移。如果衬底的表面外周部的高度位置偏离所期望的高度位置，则衬底的表面外周部处的蚀刻宽度恐会偏离所期望的宽度。
[0005]在下述专利文献1中记载有：为了使实际的蚀刻宽度与期望宽度一致，根据衬底的上表面外周部的各部的高度应变的大小，变更从排出口排出的处理液的排出方向(设置于衬底的上表面外周部的着液位置处的入射角度)。
[0006]现有技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1:日本特开20018
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46105号公报
技术实现思路
[0009]专利技术所要解决的课题
[0010]然而，着液位置处的入射角度被设定为能够将外周部蚀刻后的微粒性能保持为最佳的角度。因此，若如专利文献1那样，对衬底的表面外周部的各部分的高度应变的大小进行检测，并根据检测出的各部分的高度变动来变更着液位置处的入射角度，则虽能保持蚀刻宽度(即，处理宽度)的均匀性，但另一方面，恐无法将外周部处理(外周部蚀刻)后的微粒性能保持为最佳。
[0011]本专利技术是在这样的背景下完成的，提供能够精密地对衬底的表面外周部处的处理宽度进行控制、且能够抑制或防止外周部处理后的向衬底的表面外周部的微粒附着的衬底处理方法和衬底处理装置。
[0012]用于解决课题的手段
[0013]本专利技术的一实施方式提供一种衬底处理方法，其包括：衬底旋转工序，使由衬底保
持单元保持的衬底绕通过所述衬底的中央部的旋转轴线旋转；外周部处理工序，其与所述衬底旋转工序并行，相对于设置于所述衬底的表面外周部的着液位置，从配置于所述衬底的旋转半径方向的内侧的排出口，向所述着液位置排出处理液，使用处理液对所述表面外周部进行处理；高度应变获取工序，获取所述衬底的所述表面外周部的高度应变；以及内周位置调整工序，一边将从所述排出口排出的处理液的排出方向保持恒定，一边基于通过所述高度应变获取工序获取到的高度应变而对被供给到所述着液位置的处理液的内周位置进行调整。
[0014]根据该方法，基于获取到的表面外周部的高度应变，对被供给到着液位置的处理液(以下，有时仅称为“着液处理液”)的内周位置进行调整。因此，能够将着液处理液的内周位置调整为与衬底的翘曲状况相应的位置。通过该调整，能够精密地控制由着液处理液形成的液膜的宽度(以下仅称为“液宽”)。
[0015]另外，由于一边将处理液的排出方向保持恒定，一边调整着液处理液的内周位置，所以能够将从排出口排出的处理液入射于着液位置时的入射角度持续保持为微粒性能高的最佳角度附近的角度。因此，能够抑制或防止外周部处理后的向衬底的表面外周部的微粒附着。
[0016]由此，能够提供能够精密地控制衬底的表面外周部处的处理宽度、且能够抑制或防止外周部处理后的向衬底的表面外周部的微粒附着的衬底处理方法。
[0017]所述高度应变获取工序包括：在从所述排出口排出的处理液被供给到所述衬底的所述表面外周部之前，获取所述衬底的所述表面外周部的高度应变的“处理前”高度应变获取工序；和在所述排出口向所述衬底的所述表面外周部排出处理液时，获取所述衬底的所述表面外周部的高度应变的“处理中”高度应变获取工序、中的至少一方。
[0018]同样，所述内周位置调整工序包括：在从所述排出口排出的处理液被供给到所述衬底的所述表面外周部之前，一边将从所述排出口排出的处理液的排出方向保持恒定，一边基于通过所述高度应变获取工序获取到的高度应变对向所述着液位置供给的处理液的内周位置进行调整的“处理前”内周位置调整工序；和在所述排出口向所述衬底的所述表面外周部排出处理液时，一边将从所述排出口排出的处理液的排出方向保持恒定，一边基于通过所述高度应变获取工序获取到的高度应变对向所述着液位置供给的处理液的内周位置进行调整的“处理中”内周位置调整工序、中的至少一方。
[0019]在本专利技术的一实施方式中，所述内周位置调整工序包括一边将所述排出方向保持恒定，一边使所述着液位置在沿着所述衬底的表面的方向且与该着液位置处的切线方向相交叉的移动方向上移动的工序。
[0020]根据该方法，基于获取到的表面外周部的高度应变，着液位置在移动方向上移动。通过着液位置向移动方向的移动，能够比较容易地对着液处理液的内周位置进行调整。由此，能够比较容易地实现着液处理液的内周位置的精密控制。
[0021]在本专利技术的一实施方式中，所述内周位置调整工序包括一边将所述排出方向保持恒定一边变更从所述排出口排出的处理液的流量的工序。
[0022]根据该方法，基于获取到的表面外周部的高度应变，变更处理液的排出流量。通过处理液的排出流量的变更，能够比较容易地对着液处理液的内周位置进行调整。由此，能够比较容易地实现着液处理液的内周位置的精密控制。
[0023]在本专利技术的一实施方式中，所述内周位置调整工序包括一边将所述排出方向保持恒定，一边变更从所述衬底的旋转半径方向的内侧向处于所述表面外周部的处理液喷射的气体的流量的工序。
[0024]根据该方法，基于获取到的表面外周部的高度应变，变更从衬底的旋转半径方向的内侧向着液处理液喷射的气体的喷射流量。通过喷射流量的变更，能够比较容易地对着液处理液的内周位置进行调整。由此，能够比较容易地实现着液处理液的内周位置的精密控制。
[0025]在本专利技术的一实施方式中，所述高度应变获取工序包括获取在所述衬底的圆周方向上分离的、所述表面外周部内的多个位置的各处的高度应变的平均作为高度应变的工序。
[0026]被保持于衬底保持单元的衬底的翘曲状况、翘曲方向有时在衬底的圆周周方向上发生偏差。
[0027]根据该方法，获取表面外周部的圆周方向上的多个位置处的高度应变的平均作为衬底的表面外周部的高度应变。因此，即使在衬底的翘曲状况、翘曲方向在衬底本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.衬底处理方法，其包括：衬底旋转工序，使由衬底保持单元保持的衬底绕通过所述衬底的中央部的旋转轴线旋转；外周部处理工序，其与所述衬底旋转工序并行，相对于设置于所述衬底的表面外周部的着液位置，从配置于所述衬底的旋转半径方向的内侧的排出口向所述着液位置排出处理液，使用处理液对所述表面外周部进行处理；高度应变获取工序，获取所述衬底的所述表面外周部的高度应变；以及内周位置调整工序，一边将从所述排出口排出的处理液的排出方向保持恒定，一边基于通过所述高度应变获取工序获取到的高度应变而对被供给到所述着液位置的处理液的内周位置进行调整。2.根据权利要求1所述的衬底处理方法，其中，所述内周位置调整工序包括一边将所述排出方向保持恒定、一边使所述着液位置在沿着所述衬底的表面的方向且与该着液位置处的切线方向相交叉的移动方向上移动的工序。3.根据权利要求1或2所述的衬底处理方法，其中，所述内周位置调整工序包括一边将所述排出方向保持恒定一边变更从所述排出口排出的处理液的流量的工序。4.根据权利要求1～3中任一项所述的衬底处理方法，其中，所述内周位置调整工序包括一边将所述排出方向保持恒定、一边变更从所述衬底的旋转半径方向的内侧向处于所述表面外周部的处理液喷射的气体的流量的工序。5.根据权利要求1～4中任一项所述的衬底处理方法，其中，所述高度应变获取工序包括获取在所述衬底的圆周方向上分离的、所述表面外周部内的多个位置的各处的高度应变的平均作为高度应变的工序。6.根据权利要求1～5中任一项所述的衬底处理方法，其中，所述衬底处理方法进一步包括与所述衬底旋转工序和所述外周部处理工序并行地对所述衬底中的至少外周部进行加热的衬底加热工序，所述高度应变获取工序包括获取由与所述衬底加热工序的进行相伴的所述衬底的翘曲所引起的高度应变的工序。7.根据权利要求6所述的衬底处理方法，其中，所述衬底加热工序包括将加热器配置于能从所述衬底的背面侧至少利用辐射热对该衬底进行加热的加热位置的加热器配置工序。8.根据权利要求6或7所述的衬底处理方法，其中，所述高度应变获取工序包括与所述衬底加热工序并行地对所述表面外周部的高度应变进行监视的高度应变监视工序，所述内周位置调整工序包括与所述衬底旋转工序和所述外周部处理工序并行地、基于所...
【专利技术属性】
技术研发人员：石井弘晃，高冈诚，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：
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