在伴随多个搬送机构对基板向多个腔室的搬送的基板处理装置中，第一搬送部(4)承担未处理的基板(S)的向第一腔室(31)的搬入及处理后的基板(S)的从第二腔室(32)的搬出，另一方面，第二搬送部(34)承担基板(S)的从第一腔室(31)向第...

用液膜覆盖基板表面的状态下搬送基板的基板处理装置(1)，为了防止因搬送中的振动或液体的挥发等而导致的基板表面的露出，而具备：第1处理部(11A)，其向基板(S)供给液体并用液膜覆盖基板的表面；搬送机构(15)，其搬送担载液膜的基板；第2...

基板处理方法包括：以朝向上下方向的中心轴为中心使基板旋转的工序(步骤S11)；向旋转中的基板的上表面以及下表面中的一个主面的中央部供给气体，并且以第1流量向基板的另一个主面的中央部供给冲洗液并使该冲洗液向一个主面的周缘区域绕流，由此，在...

本发明提供一种用于抑制处理液的混合及随之发生的颗粒产生的技术。基板处理装置具备：多个配管，其用于供给用于进行基板处理的处理液；基板处理部，其与多个配管连接，且用于使用处理液处理基板；和配管配置部，其以彼此接近的方式配置多个配管，配管配置...

本发明提供一种基板处理方法，即使在形成于基板的表面的微细构造物的相互间的间隙中也能去除有机物。基板处理方法具备基板保持工序以及紫外线照射工序。在基板保持工序中，保持在表面形成有微细构造物的基板。在紫外线照射工序中，隔着处理空间与基板的表...

本发明是在开关阀从打开状态要切换到关闭状态时，连续地对步进电动机供给驱动脉冲。通过步进电动机响应于驱动脉冲而旋转，阀体向阀座移动。响应于步进电动机的旋转而从编码器输出检测脉冲。因步进电动机停止旋转，而未从编码器输出连续的规定数的检测脉冲...

本实用新型提供一种可在具有狭缝状的吐出口的狭缝喷嘴、及包括所述狭缝喷嘴并将处理液涂布在基板上的基板处理装置中，比以往更细致地调整吐出口的开口尺寸的技术。本实用新型的狭缝喷嘴包括：喷嘴本体，通过设置在第一唇部的第一平坦面与设置在第二唇部的...

本发明提供一种脏器容纳容器，在向受体移植脏器时，能够进一步抑制脏器的温度上升，并且能够抑制脏器的损伤。该脏器容纳容器包括具有伸缩性且具有开口(21)的袋状的主体部(20)。在无负荷状态下，开口的最大宽度(D3)小于主体部的最大宽度(D1...

本发明提供一种在利用处理流体在腔室内对基板进行处理的基板处理装置中，能够有效防止杂质对基板的污染，并良好地进行处理的技术。在腔室(100)内设置有从腔室外接收处理流体并将其导入处理空间的导入流路(17)。导入流路经由截面形状与由处理空间...

本发明提供在利用处理流体在腔室内对基板进行处理的基板处理装置中，能够有效防止从密封构件混入的杂质污染基板的技术。腔室(100)内设置有从腔室外接收处理流体并将其导入处理空间的导入流路(17)，从开口部观察，导入流路在所述处理空间中比处理...

光学装置(12)包括照明光学系统(21)、光调制器(22)以及投影光学系统(23)。照明光学系统(21)包括：光束整形器(213)，将激光(L31)的短轴方向和长轴方向上的强度分布从高斯分布进行变换，并使光调制器的调制面上的平行光束(L...

本发明提供一种可抑制因由同时处理部处理的基板的片数发生变动而引起的工序偏差的基板处理系统及基板处理方法。第一平流处理部PF1对多个制品基板WP逐片进行处理。同时处理部PC1对包含制品基板WP的多个基板W以N片(N≧2)为单位同时进行处理...

在通过一个油墨循环回路向多个油墨循环型喷头供给油墨的情况下，可靠地使供给至多个油墨循环型喷头的油墨的温度和流量保持均匀。在一个油墨循环装置中，在喷头(HD1)～(HD5)的IN侧和OUT侧分别设置IN歧管(111)和OUT歧管(112)...

基板处理方法包含：第一蚀刻工序，其一边使基板(W)旋转，一边将第一磷酸液(L1)供给至基板(W)而蚀刻多个叠层，前述基板(W)具有包含氮化硅层的多个叠层隔着间隙而相对的三维层叠结构；中断工序，其在残留有氮化硅层的状态下中断通过第一蚀刻工...

基板处理装置(100)将基板(W)浸渍于作为贮存于内槽(112)的处理液(L)的贮存处理液(L1)进行基板(W)的处理。基板处理装置(100)具备气泡供给部(130)和循环部(160)。气泡供给部(130)向贮存处理液(L1)供给气泡(...

本发明涉及一种衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法包含：亲水化步骤，使衬底的表面亲水化；处理液供给步骤，向已亲水化的所述衬底的表面供给处理液；处理膜形成步骤，使供给至所述衬底的表面的所述处理液固化或硬化，在所述衬底的表面形成保持所述...

本发明提供一种曝光装置，该曝光装置具有：曝光部，在基体材料(9)上曝光图案；工作台(41)，具有与基体材料(9)的一个主面接触的保持板(43)，所述工作台(41)保持基体材料(9)；光学单元(5)，通过经由设置于保持板(43)的开口(4...

本发明提供一种能使用来处理衬底的处理液的浓度快速达到目标值的处理液调温方法、衬底处理方法、处理液调温装置及衬底处理系统。处理液调温方法包括：步骤(S1)，将用来处理衬底(W)的处理液(LQ)加热到处理液(LQ)的标准沸点以上；步骤(S2...

数据处理装置生成表示以初始网格宽度对初始描画数据所表示的初始描画区域进行分割而得到的多个第一网格区域的各描画内容的第一分割数据，基于第一基板的对准标记的位置，根据重新配置后的各第一网格区域的位置，对各第一网格区域的描画内容进行合成，生成...

本发明提供在布线基板上形成适当厚度的阻焊膜的图案形成装置、图案形成方法以及喷出数据生成方法。图案形成装置具有：保持部，保持布线基板；头部，以喷墨方式向布线基板的表面喷出阻焊剂的墨水液滴；移动机构，使所述头部沿着与布线基板的表面平行的方向...