提供一种适当地将多个相机与这些相机所拍摄的各被摄区域进行关联的技术。基板处理装置(100)为对基板(W)进行处理的装置。基板处理装置(100)具有：多个清洗处理单元(1)；多个相机(70)，对彼此不同的被摄区域(PA)进行拍摄；图像处理...

本发明提供一种能够在短时间内均匀地使被加热处理的矩形形状的基板降温的冷却技术，并且提供一种能够制造高品质的制造半导体封装的半导体封装的制造方法。本发明包括：冷却板，从下方冷却被定位在冷却位置的基板；升降机构，使基板在铅垂方向上相对于冷却...

本发明提供一种管(1)，其具有挠性，具有筒状的外周面(10)和筒状的内周面(20)。外周面(10)具有向外侧凸出的角部(11)。内周面(20)具有位于角部(11)的内侧且曲率半径大于角部(11)的第一弧状部(21)。当从外部受到压力时或...

该喷墨方式的片剂印刷装置(1)具有：喷头(21)，其在下表面具有多个油墨喷嘴(211)；片剂的输送机构(10)；隔壁(60)，其用于分隔配置有输送机构(10)的印刷空间(A1)和退避空间(A2)；开闭器(72)，其配备于隔壁(60)；移...

本发明提供一种粒状物搬送装置，其具备搬送机构和反转机构。反转机构具有圆锥状的第一倾斜滚筒(71)及第二倾斜滚筒(72)。第一倾斜滚筒(71)将在搬送机构的宽度方向的第一位置(W1)搬送的粒状物(9)一边吸附于第一吸附孔(711)一边旋转...

本发明提供一种基板处理方法、基板处理装置以及配方选择方法。基板处理方法包括：前处理膜形成工序，在具有表面的基板的表面形成前处理膜，所述表面存在互不相同的物质露出的第一区域及第二区域；前处理膜剥离工序，利用剥离液从所述基板的表面剥离所述前...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底搬送方法。第1处理区块具备配置在上下方向上的显影处理层及传递层。因此，传递层能够连结于传载区块。另外，传载区块的衬底搬送机构将衬底从衬底缓冲器的位于特定高度位置的缓冲部朝衬底缓冲器的位于其它高度位置的缓冲...

本发明提供一种较佳地进行基板的蚀刻处理的技术。基板保持台(20)将基板(W)保持于既定位置。蚀刻液供给部(37)及喷嘴(30)将蚀刻液供给至既定位置的基板(W)。旋转马达(22)使基板保持台(20)绕既定的旋转轴线(Ax1)进行旋转。热...

提供一种能够拍摄喷出到基板的端部的液柱状的处理液的基板处理装置。基板处理装置具有基板保持部20、杯构件40、升降机构44、第一喷嘴31以及相机70。基板保持部20保持基板W并使基板W旋转。杯构件40包围基板保持部20的外周。升降机构44...

本发明提供一种基板支撑装置、热处理装置、基板支撑方法、热处理方法，即使在闪光照射而基板变成弯曲形状的情况下，也能够抑制基板破裂。本申请说明书中公开的技术相关的基板支撑装置具备：保持板，用于与通过闪光照射加热而能够弯曲的基板相对；多个基板...

本发明提供带辅助衬垫的膜电极接合体的制造装置以及制造方法，能抑制在附加于膜电极接合体的两面的辅助衬垫膜中产生松弛。衬垫附加装置(100)对在一侧附加有第一辅助衬垫膜的膜电极接合体(85)的另一侧附加第二辅助衬垫膜。衬垫附加装置具有：位置...

本发明提供一种能够防止气环的变色的热处理装置。在腔室(6)的侧壁即腔室侧部(61)的上部安装气环(90)。气环(90)由上部环(91)和下部环(92)重叠而成。上部环(91)和下部环(92)之间的间隙成为处理气体的流路(97)。在流路(...

本发明提供一种带辅助衬垫的膜电极接合体的制造方法以及制造装置、带辅助衬垫的膜电极接合体，能够抑制在带辅助衬垫膜的膜电极接合体中产生褶皱等变形。基材接合体(B3)从一侧到另一侧依次具有第一背片(91a)、第一辅助衬垫膜(92a)、膜电极接...

提供一种能够监视喷出到基板的端部的液柱状的处理液的着落位置的基板处理方法。基板处理方法具有保持工序、旋转工序、上升工序、斜面处理工序、拍摄工序以及监视工序。在保持工序中，使基板保持部保持基板。在旋转工序中，使基板保持部旋转来使基板旋转。...

本发明的基板处理装置(100)具备送液配管(41)、供给配管(43)、回流配管(44)、调整阀(47)、及控制部(3)。控制部(3)能够将调整阀(47)的开度切换为第1开度及第2开度中的任一开度。第1开度表示将由送液配管(41)引导的药...

本发明提供一种能够容易地确认是否按用户需要的规格构成的衬底处理装置。判别部(89)将来自相机(77)的机器信息与来自臂控制部(97)的检测位置信息进行比较，判别机器信息的位置信息与检测位置信息是否一致，以及将来自相机(77)的机器信息与...

本发明的衬底处理方法对正面具有图案的衬底进行处理，且包含：混合干燥辅助物质供给步骤，将混合干燥辅助物质供给至所述衬底的正面，在所述衬底的正面形成所述混合干燥辅助物质的液膜，所述混合干燥辅助物质由作为无极性物质的干燥辅助物质与具有两亲性的...

在基板处理装置(1)中，与沿上下方向排列的多个处理部(31)相比在上方配置有多个集合管(61a～61c)。多个集合管(61a～61c)与多个流体类别分别对应。另外，设有从多个处理部(31)趋向上方、并且供来自多个处理部(31)的排气分别...

本发明的衬底处理装置包含：喷嘴，具有喷出口，且从所述喷出口朝向衬底喷出SPM；混合部，与所述喷出口连通；硫酸含有液供给装置，用来将供给至所述衬底保持单元保持的衬底并从该衬底排出的液体回收，基于所回收的液体制成硫酸含有液，并将制成后的硫酸...

本发明的目的在于，减少在进行基板处理的装置、系统以及方法中使用的数据量。为了达到上述目的，基板处理装置具有：一个以上的处理单元，对基板进行处理；以及一个以上的运算处理部。一个以上的运算处理部通过使用以分别规定与在一个以上的处理单元中对基...