在本发明的基板处理方法中，对具有包含凹部(92)的图案(PT)的基板(W)进行处理。基板处理方法包括处理步骤(S1)、去除步骤(S2)、及蚀刻步骤(S3)。在处理步骤(S1)中，利用处理液处理基板(W)。在处理步骤(S1)之后，在去除步...

本发明涉及一种进行升华干燥的衬底处理方法及衬底处理装置，在使溶剂从包含覆盖衬底表面的升华性物质的干燥前处理液的液膜蒸发而在衬底表面上形成包含升华性物质的凝固体，且使凝固体升华，由此，从衬底表面上将液膜排除的干燥前处理液膜排除工序中，产生...

目的在于提供一种技术，在作为液体处理的第一处理后，适当地决定开始后续的第二处理的时机。为了实现上述目的，在停止供给第一处理液后，通过照相机拍摄基板的上表面。在通过照相机取得的拍摄图像的判断区域内检测亮度(光强度)的径向上的极值点，由此检...

相机(70)通过连续拍摄在处理区间(PS1)内移动的喷嘴(30)来获取摄影图像。基准图像登记部(90)对通过拍摄位于处理区间(PS1)的第一端(TE1)及第二端(TE2)的喷嘴(30)而获得的第一基准图像及第二基准图像(RP1、RP2)...

基板处理方法具有第一工序至第六工序。保持基板(第一工序)。开始利用相机进行拍摄，从而生成拍摄图像(第二工序)。开始从第一喷嘴向基板喷出处理液(第三工序)。停止从第一喷嘴喷出处理液，开始从第二喷嘴喷出处理液(第四工序)。基于针对拍摄图像的...

差异运算部(92)计算基准图像(80)中的各卡盘销(26)的位置与对象图像(82)中的各卡盘销(26)的位置之间的差异。判定区域设定部(932)在对象图像(82)中设定用于检测喷嘴(30)的位置的判定区域(DR)。此时，判定区域设定部(...

本发明提供一种能够有效率地进行利用了处理液的氧化力的基板处理的基板处理方法以及基板处理装置。在基板(SB)上形成含有硫酸、硫酸盐、过氧硫酸及过氧硫酸盐中的至少任一种的处理液或含有过氧化氢的处理液的液膜(LQ)。对液膜(LQ)照射等离子体...

本发明提供一种基板处理装置，能够向处理单元供给颗粒含量少的净化地处理液。基板处理装置(1)包括：药液罐(30)；与药液罐连接的第一循环配管(31)；泵，向第一循环配管(31)送出药液罐内的药液；第二循环配管(32)，与第一循环配管(31...

本发明提供一种学习装置、检查装置、学习方法以及检查方法，可减少学习用数据集容量，并实现高精度的基板检查。在学习装置中，第二输入部输入根据真缺陷的有无对第一数据中的假定缺陷图像进行了再分类的第二数据。学习部在第二数据中进行对于假定缺陷图像...

本发明提供一种片剂处理装置及片剂处理方法，降低消费者看到封入于PTP包装体的多个片剂时的违和感。片剂处理装置1具备片剂输送机构(30)、片材输送机构(70)、片剂交接机构(80)以及第一印刷部(41)。片剂输送机构(30)是循环带状，在...

本发明要制作包含季铵氢氧化物、水及阻碍由季铵氢氧化物产生的氢氧离子与蚀刻对象物P1～P3接触的阻碍物质的碱性蚀刻液。通过将所制作的蚀刻液供给至包含多晶硅的蚀刻对象物P1～P3及与蚀刻对象物P1～P3不同的非蚀刻对象物O1～O3露出的衬底...

本发明提供一种可生成与吐出喷嘴的吐出状态相应的教师数据的教师数据生成方法。生成教师数据的方法，包括：保持步骤、处理液吐出步骤、摄像步骤及教师数据生成步骤。在保持步骤中，将基板大致水平地保持于基板保持机构。在处理液吐出步骤中，自吐出喷嘴向...

本发明能够抑制因一台分度器机械手的动作状况导致的生产量的降低。优选使用与处理区(7)的上段(UF)和下段(DF)对应的上段翻转路径单元(33)和下段翻转路径单元(35)中的靠近上段(UF)和下段(DF)的边界的搁板。这样，通过改进从一台...

本发明提供一种基板处理装置，对基板进行清洗处理，所述基板处理装置包括：分度器区，具有分度器机械手；处理区，作为处理单元，具有表面清洗单元以及背面清洗单元；以及翻转路径区，具有载置基板的多层搁板，并且具有翻转功能，所述分度器机械手具有导轨...

提供一种涂布装置及涂布方法，通过使清洁构件以适当的按压力按压喷嘴来确保清洁能力，并有效地防止因摩擦而产生的细粉混入涂布层。在该涂布方法中，执行多次从喷嘴喷出涂布液来对被涂布物进行涂布的涂布工序，所述喷嘴设置有以狭缝状开口喷出口，该涂布方...

提供一种获得能够以更高的膜厚精度形成薄膜的成膜对象物的运送速度的技术。成膜方法以横穿靶的方式相对于靶相对地运送成膜对象物，并通过对靶进行溅射的连续溅射，在成膜对象物上形成膜。成膜方法具有测量工序、保存工序、速度确定工序以及成膜工序。在测...

本发明提供一种用处理液处理基板的基板处理装置，所述装置包括：形成多个贯通口的旋转构件；以非密封结构安装于多个所述贯通口，用于将基板分离并支撑该基板的多根支撑销；对基板供给处理液的供给喷嘴；在所述旋转构件的下方分离地配置的罩；驱动所述旋转...

本发明提供一种能够合适地处理基板的基板处理装置。基板处理装置(1)具有处理单元(14)和控制部(18)。处理单元(14)对基板(W)进行处理。控制部(18)控制处理单元(14)。处理单元(14)具有板(32)、旋转驱动部(45)、固定销...

本发明的目的在于提供一种能够合适地搬运基板的基板处理装置以及基板搬运方法。本发明涉及一种基板处理装置(1)以及基板搬运方法。手部(61)具有基座部(65)、吸引部(68)、第一接受部(82)、第二接受部(83)以及接受部驱动部(86)。...

本发明的目的在于提供一种能够合适地处理基板的基板处理装置。基板处理装置(1)具有第一处理单元(7A)和第二处理单元(7B)。第一处理单元(7A)具有第一基板保持部(91A)和第一旋转驱动部(92A)。第一基板保持部91A具有第一板(10...