无论会面(两人间的会面)时两者相遇的场地的环境如何，都能够容易使两者相遇。路径引导程序使移动终端装置(10)内包含的计算机作为以下单元而发挥功能，移动终端装置(10)具有将摄影影像显示在显示部的功能；所述单元包含：当前位置检测单元(15...

本发明涉及一种衬底处理系统及衬底搬送方法。移载传送区块的衬底搬送机构能够对载置在载置台的载体取放衬底(W)。进而，衬底搬送机构在第1处理区块及第2处理区块的位于不同高度位置的例如2个处理层间搬送衬底(W)。因此，无须像现有技术那样在移载...

第一及第二反转部(41a、41b)分别具备送出槽、取入槽及反转机构。反转机构一体地反转送出槽及取入槽，由此切换将送出槽配置于下侧的送出姿势与将取入槽配置于下侧的取入姿势。分度器机械手(3)将未处理的基板(9)插入于送出姿势的第一反转部或...

本发明提出一种在将电接地作为目的而安装在辊轴的导电装置以及辊输送装置中，容易组装的结构。本发明的导电装置包括：壳体(100)，具有卡合在辊轴的端部的卡合部位(11)；轴构件(40)，由导电性材料形成，经由设置在壳体的开口而自壳体的内部朝...

本发明抑制焦深的降低等，并且实现所形成的图案形状的微细化。描绘方法具备：相对于感光材料以在至少一部分具有第1位移图案的第2描绘图案照射描绘光的工序；使感光材料显影的工序、以及在基板的上表面形成第1图案形状的工序，第1位移图案是与第1描绘...

本发明提供一种即使形成有多层薄膜也能够正确地测定基板的温度的热处理方法以及热处理装置。设定并输入形成在半导体晶圆的正面的薄膜的膜信息、半导体晶圆的基板信息、以及上部辐射温度计的设置角度。基于所述各种信息来计算形成有多层膜的半导体晶圆的正...

本发明的目的在于提升基板处理装置以及基板处理系统的各个处理单元中的处理的精度。基板处理装置具有多个处理单元、搬运单元、多个传感器部、存储部以及一个以上的控制单元。多个处理单元根据规定处理的条件的规程对基板实施处理。搬运单元将一组基板中的...

本发明提供一种能够避开缺口测量基板周边的位置，并高精度地降低基板的偏心量的技术。在第一工序中使基板(W)旋转。在第二工序中，摄像头依次拍摄基板的周边，获取多个图像(IM1)。在第三工序中，针对多个图像执行缺口检测处理。在第四工序中，将在...

本发明提供一种能够容易地清理腔室内的污染的热处理装置及热处理装置的洗净方法。随着成为产品的半导体晶圆的处理在热处理装置1中进行，污染物质附着在腔室6的内壁面上。当半导体晶圆的处理结束后，向腔室6内供给包含臭氧的气体而形成包含臭氧的氛围。...

本发明提供一种能够准确地测定衬底的正面温度的热处理方法。对半导体晶圆，通过卤素灯进行预加热后，通过来自闪光灯的闪光照射进行加热。即将进行闪光照射之前的半导体晶圆的温度由下部放射温度计测定。因为下部放射温度计对半导体晶圆的接收角为60

在一个认证装置中，通过近距离无线通信从存储介质取得认证信息。判定认证信息是否与设置有该认证装置的一个基板处理装置对应。在认证信息与一个基板处理装置对应的情况下，通过近距离无线通信从认证装置发送接入信息。指示终端通过近距离无线通信接收接入...

本发明是一种通过印刷装置对物品进行印刷的印刷方法，具备：交接搬送步骤，将安装有印刷前的物品的第1固持器搬送至与印刷装置对向的交接位置；去路移动步骤，使第1固持器自交接位置移动至印刷装置，并将物品定位于对准位置；印刷步骤，在将物品定位于对...

本发明提出一种基板处理方法及基板处理装置。在第二液体供给工序中，在基板的上表面形成第二液膜、及包围第二液膜的侧方的第一液膜。而且，在蒸汽层形成工序中，形成通过对基板进行加热而与基板的上表面接触的第二液体蒸发所成的第二蒸汽层，在所述第二蒸...

本发明提供一种追加曝光装置以及图案形成方法，其可避免因产生灰尘而污染基板。追加曝光装置(16B)用于对通过对基板(800)上的感光性树脂膜进行曝光及显影所形成的图案(801)进一步进行曝光。追加曝光装置(16B)具有搬送机构(500)与...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理装置的衬底搬送方法。2个处理区块不以堆积的方式配置，第1处理区块、ID区块、第2处理区块在水平方向上呈直线状连结。因此，能够抑制高度并增加处理层的个数。第1处理区块及第2处理区块分别直接连结于ID区块...

本发明涉及一种衬底处理系统及衬底搬送方法。例如ID区块、第1处理区块及第2处理区块以该顺序配置。为了将由第2处理区块处理过的衬底搬送到移载传送区块，虽然不利用第1处理区块进行处理，也必须通过第1处理区块。然而，第1处理区块及第2处理区块...

该衬底处理方法包括：混合升华性物质供给工序，将混合升华性物质供给到衬底的正面，该混合升华性物质是将具有升华性的第1升华性物质、具有比所述第1升华性物质低的蒸气压且具有升华性的第2升华性物质、及相对于所述第1升华性物质及所述第2升华性物质...

本发明的衬底处理方法包含：混合干燥辅助物质供给步骤，将混合干燥辅助物质供给至衬底的表面，所述混合干燥辅助物质由干燥辅助物质、第1溶剂、以及与所述干燥辅助物质及所述第1溶剂不同的药剂相互混合所得；固化膜形成步骤，通过使所述第1溶剂从存在于...

本发明中，将凝固点低于吸附物质的凝固点的干燥前处理液供给至衬底(W)的表面，使吸附物质吸附于图案(P1)的表面。冷却衬底(W)上的干燥前处理液，由此使衬底(W)上的干燥前处理液的一部分凝固而沿着图案(P1)的表面形成含有吸附物质的凝固膜...

本发明提供一种基板处理装置，有效抑制处理液相对于基板的下表面的蔓延。该基板处理装置具备：保持部，其用于能够旋转地保持基板；旋转驱动部，其用于使上述保持部旋转；以及对置板，其在俯视下包围上述保持部且与上述基板对置，上述对置板具备：第一气体...