基板处理装置(100)包括温度检测部(17)及控制部(30)。温度检测部(17)在预分配处理执行中的处理液的温度到达目标温度(Tt)之前，对处理液的温度进行检测。控制部(30)基于目标温度预测时间(tP)，来设定预分配处理中的处理液的喷...

基板处理装置在支承于升降部的基板W的下方与处理槽1的底面之间具有狭缝板(31)。21个狭缝(33)的与中央区域(ARC)的宽度(WD1)相比，第一外区域(AR1)以及第二外区域(AR2)中的宽度(WD2、WD3)被设为更大。因此，在从一...

本发明提供印刷版定位装置、图像记录装置以及印刷版定位方法，使用旋转的定位销高精度地对印刷版进行定位。定位机构(80)具备在第2方向(D2)上隔开间隔地配置的两个定位销(83、83)和检测定位销(83、83)之间的导通的导通检测部(84)...

本实用新型提供一种基板处理装置以及吐出喷嘴，利用气体吹送及第二处理液供给来将附着于基板的表面的第一处理液除去。在进行清洗时，从覆盖基板的宽度方向上的一端部至另一端部并呈狭缝状地开口的吐出口向基板表面的方向吐出第二处理液，使从吐出口吐出来...

该片剂印刷装置(1)具备：环状输送机构(20)、印刷部(30)、以及翻转机构(70)。环状输送机构(20)将片剂(9)吸附保持并沿着环状的输送路径输送片剂(9)。印刷部(30)在环状输送机构(20)的输送路径上的处理位置向片剂(9)的表...

提供一种涂布装置及涂布方法，以优异的品质将涂布液涂布到基板上。本发明构成为，具有：处理台，使基板浮起，基板运送部，将在处理台上浮起的基板在运送方向上运送，以及喷嘴，向由基板运送部运送的基板的上表面供给处理液；处理台具有：供给浮起区域，位...

通过将TMAH、过氧化氢与水混合，从而制备包含TMAH、过氧化氢和水、但不含氟化氢化合物的碱性蚀刻液。将制备的蚀刻液供给至露出了多晶硅膜和氧化硅膜的衬底，在抑制氧化硅膜的蚀刻的同时对多晶硅膜进行蚀刻。

本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。根据本发明的基板处理装置，通过从低表面张力液体供给单元向基板的表面统计低表面张力液体，在基板的表面形成低表面张力液体的液膜。通过从惰性气体供给单元向处于旋转状态的基板的旋转中心位置供给惰性气体，...

本发明提供一种印刷装置以及印刷方法，印刷装置(1)具有输送机构(10)、拍摄机构(20)以及喷头(30)。输送机构(10)在第一位置(P1)与第二位置(P2)之间往复输送作为粒状物的片剂(9)。拍摄机构(20)在第一位置(P1)与第二位...

本发明提供一种能够容易地剥离含碳的薄膜的热处理方法及热处理装置。进行氢气退火，即，将成膜有包含掺杂剂及碳的薄膜的半导体晶片在包含氢气的氛围中加热至退火温度T1。之后，将腔室内从氢气氛围置换成氧气氛围，并在氧气氛围中将半导体晶片预加热至预...

本发明提供一种能够对在规定位置交付基板进行可靠检测的基板搬运装置以及基板搬运方法。基板搬运装置包括：保持基板的保持部；使所述保持部相对于规定位置往复移动的往复机构；光学传感器，其在通过所述往复机构使所述保持部移动的路径上形成传感器区；以...

本发明提供一种减少通过了溶解模块的处理液中的粒子量的技术。处理液供给单元3是将已由过滤器31a～过滤器31d过滤的处理液供给至多个处理单元2中的装置。供给阀33插装于与过滤器31a～过滤器31d连接的一次侧供给配管32上。另外，在一次侧...

在移送路径内产生了粒状物的桥的情况下，通过消除该桥，抑制粒状物损伤，而且也抑制粒状物的供给的吞吐量的下降。粒状物供给装置(23)具备移送路径(231)和搂起部件。移送路径(231)以螺旋状卷绕线材而形成，且在上下方向上具有伸缩性。上述搂...

首先，在腔室内执行作为预处理的第一处理。当第一处理结束后，通过热成像照相机(70)来测定腔室内的规定的对象区域(A)的温度。接着，基于所获取的测定温度信息(T1)来判断能否开始对基板(W)的第二处理。结果，在判断为能够开始第二处理的情况...

本发明提供一种基板处理装置。在基板处理装置(100)中，在基板搬送部(120)，设置在索引部(110)与基板处理部(130)之间搬送基板(W)的搬送机器人(122)。搬送风扇过滤单元(126)设置在基板搬送部(120)的上部。排气口(1...

本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法及半导体制造方法。基板处理装置包括基板保持部、腔室、第一气体供给部、第二气体供给部及控制部。腔室包括侧壁部及顶壁部，收容基板保持部。第一气体供给部配置于顶壁部，朝向基板保持部所处的一侧供给第一气体...

提高基于拍摄进行的对象物的外观检查的精度。检查装置具备：能够向对象物(2)照射光的至少一个照明(106、108)；拍摄被照明照射光的对象物且生成对象物的图像数据的拍摄部(102)；以及基于对象物的图像数据进行对象物的外观检查的检查部(3...

本发明提供对表面具有金属层的基板进行处理的基板处理方法及基板处理装置。基板处理方法包括：氧化金属层形成工序，通过向基板的表面供给氧化流体而在金属层的表层形成包含1个原子层或多个原子层的氧化金属层；及氧化金属层去除工序，通过向基板的表面供...

本发明提供一边在使浮起量呈阶段状地变化的状态下浮起搬运基板一边向该基板上表面供给处理液的基板处理技术，良好地向基板供给处理液。处理工作台具有：供给浮起区域，位于喷嘴的下方并使基板以适于供给处理液的供给用浮起量浮起；上游侧浮起区域，在搬运...

本发明提供一种在印刷基板的检查装置中，在被检查的印刷基板是镜像基板的情况下，能够不依赖基板上设置的贯通孔来告知操作人员印刷基板的方向有误的技术。该检查装置(1)具有控制部(10)、拍摄部(32)、(52)及检查处理部(70)。控制部基于...