基板处理装置以及吐出喷嘴制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种基板处理装置以及吐出喷嘴，利用气体吹送及第二处理液供给来将附着于基板的表面的第一处理液除去。在进行清洗时，从覆盖基板的宽度方向上的一端部至另一端部并呈狭缝状地开口的吐出口向基板表面的方向吐出第二处理液，使从吐出口吐出来的第二处理液沿平滑的倾斜面流下，该倾斜面以与吐出口的开口部整体对置的方式设于吐出口的下方并以从搬运方向的上游侧朝向下游侧下降的方式倾斜，从而在倾斜面上形成具有朝向搬运方向的下游侧的方向的成分的薄层状的液流，并从倾斜面的下游侧端部向基板表面流下。倾斜面的下游侧端部与基板表面在搬运方向上的距离比由液流形成于基板表面的液膜的厚度大。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置以及吐出喷嘴
本技术涉及一种清洗表面附着有处理液的基板的基板处理装置以及能够适用于该装置的吐出喷嘴。此外，上述基板包括半导体基板、光掩模用基板、液晶显示用基板、有机EL显示用基板、等离子体显示用基板、FED(FieldEmissionDisplay：电子发射)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板等。
技术介绍
在半导体装置、显示装置等电子器件等的制造工序中，常用如下处理：通过使例如用于加工的处理液作用于基板表面来加工基板、之后用清洗液进行清洗。作为该情况下的处理液，例如可以举出显影液、蚀刻液等。在该情况下，为了在基板表面中获得均匀且良好的处理结果，在利用处理液进行的处理中，需要严格地遵守规定的处理时间。因这一目的，需求在利用处理液进行的处理继续规定时间后立即且可靠地除去处理液并停止处理。例如在日本特开2015-192980号公报(专利文献1)所记载的技术中，在相当于上述的“处理液”的显影液装满在表面的状态下水平搬运基板。对该基板，首先通过吹送帘状的空气来除去显影液，再在其下游侧，向基板表面朝向下游方向地吹送冲洗液并由液膜覆盖基板，从而停止显影的进行。在该技术中，通过利用冲洗液封堵吐出冲洗液的喷嘴的下表面与基板表面之间而成为液密状态，来防止吹送到基板的空气向下游侧侵入而扰乱冲洗液的液膜。
技术实现思路
技术要解决的课题在上述技术中，在形成于基板的液膜中，尤其在液膜中的基板的搬运方向的上游侧端部附近，在处理液体中不可避免地含有融入或者浮游的杂质。在上述现有技术中，使喷嘴下表面与基板表面之间成为液密状态，这样的液体中的杂质会附着于喷嘴或者再析出。尤其若喷嘴的吐出口被附着物局部地堵塞，则在该部分无法向基板供给清洗液，其结果，有在显影等加工处理中产生不均的担忧。本技术是鉴于上述课题而完成的，其目的在于，提供能够适当地清洗表面由处理液处理后的基板并能够抑制产生处理不均的技术。用于解决课题的方案本技术的基板处理装置具备：搬运机构，其将表面附着有第一处理液的基板以上述表面向上的方式在沿水平方向的搬运方向上进行搬运；气体吐出部，其遍及在与上述搬运方向正交的宽度方向上的上述基板的整个区域地向上述表面吹送气体，来从上述表面除去上述第一处理液；以及液体吐出部，其对比吹送来自上述气体吐出部的上述气体的位置更靠上述搬运方向的下游侧的上述表面供给第二处理液。为了实现上述目的，在本技术的基板处理装置的一个方案中，上述液体吐出部具有：吐出口，其覆盖上述基板的从上述宽度方向上的一端部至另一端部并呈狭缝状地开口，向上述表面的方向吐出上述第二处理液；和平滑的倾斜面，其以与上述吐出口的开口部整体对置的方式设于上述吐出口的下方，并以从上述搬运方向的上游侧朝向下游侧下降的方式倾斜，通过使从上述吐出口吐出的上述第二处理液沿上述倾斜面流下，从而在上述倾斜面上形成具有朝向上述搬运方向的下游侧的方向的成分的薄层状的液流，并使该液流从上述倾斜面的上述下游侧端部向上述表面流下，在上述搬运方向上的上述倾斜面的下游侧端部与上述表面的距离比由上述液流形成于上述表面的液膜的厚度大。并且，在另一个方案中，上述液体吐出部具有：吐出口，其覆盖上述基板的从上述宽度方向上的一端部至另一端部并呈狭缝状地开口，向上述表面的方向吐出上述第二处理液；和平滑的倾斜面，其以与上述吐出口的开口部整体对置的方式设于上述吐出口的下方，并以从上述搬运方向的上游侧朝向下游侧下降的方式倾斜，在上述搬运方向上的上述倾斜面的下游侧端部与上述表面的距离比上述吐出口的在与上述宽度方向正交的方向上的开口尺寸大。此外，以下的说明中，为了避免说明变得繁琐，有时将“基板的搬运方向的上游、上游侧、上游方向”分别简称为“上游、上游侧、上游方向”，并且将“基板的搬运方向的下游、下游侧、下游方向”分别简称为“下游、下游侧、下游方向”。在本技术中，以倾斜面中的第二处理液将要供给至基板并通过前的最下游侧的端部比由供给至基板表面的液流而形成于基板表面的液膜的上表面靠上方的方式设定倾斜面的下游侧端部与基板表面的距离。这样，倾斜面的下游侧端部从基板表面离开，并且对从倾斜面向基板表面流下的液流赋予朝向基板的搬运方向的下游侧的方向的成分，因而供给的第二处理液所形成的液膜比倾斜面的下游侧端部靠下游侧且在比其靠下方的位置形成于基板表面。因此，可避免利用第一处理液进行基板处理后的残渣附着于液体吐出部的周边。并且即使第一处理液(或者第一处理液与第二处理液的混合物)的飞沫飞至倾斜面，也会被流下的液流引入而排出。另外，即使从吐出口吐出的第二处理液的宽度方向上的均匀性因附着于吐出口的附着物而降低，也在沿倾斜面流下的期间得以消除。因此，能够使由附着物引起的向基板表面的第二处理液的供给变得均匀，能够抑制基板的处理不均。并且，向基板表面供给时的液流的方向由倾斜面的倾斜规定，因而能够比较自由地设定至吐出口为止的第二处理液的流路。因此，不需要使流路本身从上游侧朝向下游侧，能够使包含流路的液体吐出部构成为小型。由此，能够减小气体吐出部的气体的吹送位置与第二处理液的供给位置的距离，能够向利用气体吹送进行第一处理液除去后的基板表面迅速地供给第二处理液。这也有利于抑制产生处理不均的效果。并且，该技术的吐出喷嘴是吐出处理液的吐出喷嘴，为了实现上述目的，具备：吐出口形成部，其形成沿水平的一个方向呈狭缝状且向下开口并吐出上述处理液的吐出口；和倾斜面形成部，其在上述吐出口的下方形成与上述吐出口的开口部整体对置的倾斜面，上述倾斜面是面的法线矢量与上述一个方向正交并具有铅垂方向向上的成分并使从上述吐出口吐出的上述处理液向与上述一个方向正交的方向流下的平滑的面，上述倾斜面的最下端部是上述倾斜面形成部中的最下端部。这样的结构的吐出喷嘴具有能够特别适用于上述的基板处理装置的构造。具体地，本技术的方案分别如下。方案一是一种基板处理装置，其特征在于，具备：搬运机构，其将表面附着有第一处理液的基板以上述表面向上的方式在沿水平方向的搬运方向上进行搬运；气体吐出部，其遍及在与上述搬运方向正交的宽度方向上的上述基板的整个区域地向上述表面吹送气体，来从上述表面除去上述第一处理液；以及液体吐出部，其对比吹送来自上述气体吐出部的上述气体的位置更靠上述搬运方向的下游侧的上述表面供给第二处理液，上述液体吐出部具有：吐出口，其呈狭缝状地开口，覆盖上述基板的从上述宽度方向上的一端部至另一端部，并向上述表面的方向吐出上述第二处理液；和平滑的倾斜面，其以与上述吐出口的开口部整体对置的方式设于上述吐出口的下方，并以从上述搬运方向的上游侧朝向下游侧下降的方式倾斜，通过使从上述吐出口吐出来的上述第二处理液沿上述倾斜面流下，来在上述倾斜面上形成具有朝向上述搬运方向的下游侧的方向的成分的薄层状的液流，并使该液流从上述倾斜面的上述下游侧端部向上述表面流下，上述倾斜面的下游侧端部与上述表面在上述搬运方向上的距离比由上述液流形成于上述表面的液膜的厚度大。方案二是一种基板处理装置，其特征本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：/n搬运机构，其将表面附着有第一处理液的基板以上述表面向上的方式在沿水平方向的搬运方向上进行搬运；/n气体吐出部，其遍及在与上述搬运方向正交的宽度方向上的上述基板的整个区域地向上述表面吹送气体，来从上述表面除去上述第一处理液；以及/n液体吐出部，其对比吹送来自上述气体吐出部的上述气体的位置更靠上述搬运方向的下游侧的上述表面供给第二处理液，/n上述液体吐出部具有：/n吐出口，其呈狭缝状地开口，覆盖上述基板的从上述宽度方向上的一端部至另一端部，并向上述表面的方向吐出上述第二处理液；和/n平滑的倾斜面，其以与上述吐出口的开口部整体对置的方式设于上述吐出口的下方，并以从上述搬运方向的上游侧朝向下游侧下降的方式倾斜，/n通过使从上述吐出口吐出来的上述第二处理液沿上述倾斜面流下，来在上述倾斜面上形成具有朝向上述搬运方向的下游侧的方向的成分的薄层状的液流，并使该液流从上述倾斜面的上述下游侧端部向上述表面流下，/n上述倾斜面的下游侧端部与上述表面在上述搬运方向上的距离比由上述液流形成于上述表面的液膜的厚度大。/n

【技术特征摘要】
20190315 JP 2019-0479701.一种基板处理装置，其特征在于，具备：
搬运机构，其将表面附着有第一处理液的基板以上述表面向上的方式在沿水平方向的搬运方向上进行搬运；
气体吐出部，其遍及在与上述搬运方向正交的宽度方向上的上述基板的整个区域地向上述表面吹送气体，来从上述表面除去上述第一处理液；以及
液体吐出部，其对比吹送来自上述气体吐出部的上述气体的位置更靠上述搬运方向的下游侧的上述表面供给第二处理液，
上述液体吐出部具有：
吐出口，其呈狭缝状地开口，覆盖上述基板的从上述宽度方向上的一端部至另一端部，并向上述表面的方向吐出上述第二处理液；和
平滑的倾斜面，其以与上述吐出口的开口部整体对置的方式设于上述吐出口的下方，并以从上述搬运方向的上游侧朝向下游侧下降的方式倾斜，
通过使从上述吐出口吐出来的上述第二处理液沿上述倾斜面流下，来在上述倾斜面上形成具有朝向上述搬运方向的下游侧的方向的成分的薄层状的液流，并使该液流从上述倾斜面的上述下游侧端部向上述表面流下，
上述倾斜面的下游侧端部与上述表面在上述搬运方向上的距离比由上述液流形成于上述表面的液膜的厚度大。


2.一种基板处理装置，其特征在于，具备：
搬运机构，其将表面附着有第一处理液的基板以上述表面向上的方式在沿水平方向的搬运方向上进行搬运；
气体吐出部，其遍及在与上述搬运方向正交的宽度方向上的上述基板的整个区域地向上述表面吹送气体，来从上述表面除去上述第一处理液；以及
液体吐出部，其对比吹送来自上述气体吐出部的上述气体的位置更靠上述搬运方向的下游侧的上述表面供给第二处理液，
上述液体吐出部具有：
吐出口，其呈狭缝状地开口，覆盖上述基板的从上述宽度方向上的一端部至另一端部，并向上述表面的方向吐出上述第二处理液；和
平滑的倾斜面，其以与上述吐出口的开口部整体对置的方式设于上述吐出口的下方，并以从上述搬运方向的上游侧朝向下游侧下降的方式倾斜，
上述倾斜面的下游侧端部与上述表面在上述搬运方向上的距离比在与上述宽度方向正交的...

【专利技术属性】
技术研发人员：山冈英人，伊吹征也，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：新型
国别省市：日本;JP