一种提高蚀刻过程产品均匀性的工作台制造技术

本实用新型专利技术公开了一种提高蚀刻过程产品均匀性的工作台，包括往复式驱动装置、衔接式均匀喷洒装置、传送带、支撑架和支撑柱，所述支撑柱设于传送带底部，所述支撑架设于传送带两侧，所述往复式驱动装置设于支撑架内侧，所述衔接式均匀喷洒装置设于往复式驱动装置上，所述衔接式均匀喷洒装置包括转盘放置腔、旋转转盘、旋转电机、衔接推动杆、滑动槽和喷洒头。本实用新型专利技术属于蚀刻技术领域，具体是一种以固定形态的设置即能产生逐个依次喷洒的旋转喷洒的效果，避免了蚀刻液喷洒不匀及剂量不同而造成的蚀刻尺寸产生差异，提高了产品质量的提高蚀刻过程产品均匀性的工作台。

【技术实现步骤摘要】
一种提高蚀刻过程产品均匀性的工作台
本技术属于蚀刻
，具体是指一种提高蚀刻过程产品均匀性的工作台。
技术介绍
蚀刻又称为光化学蚀刻，是把材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术，可分为湿蚀刻和干蚀刻两种类型,通常所指蚀刻也称光化学蚀刻，指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果,最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工,经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术；而在蚀刻过程中，由于板面所接触蚀刻液时间不同，剂量也不同，进而造成蚀刻不均匀产生尺寸偏差。
技术实现思路
针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本技术提供一种以固定形态的设置即能产生逐个依次喷洒的旋转喷洒的效果，相互衔接且不会产生间隙，避免了蚀刻液喷洒不匀及剂量不同而造成的蚀刻尺寸产生差异，提高了产品质量的提高蚀刻过程产品均匀本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种提高蚀刻过程产品均匀性的工作台，其特征在于：包括往复式驱动装置、衔接式均匀喷洒装置、传送带、支撑架和支撑柱，所述支撑柱设于传送带底部，所述支撑架设于传送带两侧，所述往复式驱动装置设于支撑架内侧，所述衔接式均匀喷洒装置设于往复式驱动装置上，所述衔接式均匀喷洒装置包括转盘放置腔、旋转转盘、旋转电机、衔接推动杆、滑动槽和喷洒头，所述转盘放置腔设于往复式驱动装置上，所述旋转转盘可旋转设于转盘放置腔内，所述旋转电机设于转盘放置腔内且输出端设于旋转转盘上，所述旋转转盘上偏心设有连接转头，所述衔接推动杆铰接于连接转头上，所述滑动槽沿旋转转盘四周设于转盘放置腔内，所述衔接推动杆上铰接有喷洒控制滑块，所...

【技术特征摘要】
1.一种提高蚀刻过程产品均匀性的工作台，其特征在于：包括往复式驱动装置、衔接式均匀喷洒装置、传送带、支撑架和支撑柱，所述支撑柱设于传送带底部，所述支撑架设于传送带两侧，所述往复式驱动装置设于支撑架内侧，所述衔接式均匀喷洒装置设于往复式驱动装置上，所述衔接式均匀喷洒装置包括转盘放置腔、旋转转盘、旋转电机、衔接推动杆、滑动槽和喷洒头，所述转盘放置腔设于往复式驱动装置上，所述旋转转盘可旋转设于转盘放置腔内，所述旋转电机设于转盘放置腔内且输出端设于旋转转盘上，所述旋转转盘上偏心设有连接转头，所述衔接推动杆铰接于连接转头上，所述滑动槽沿旋转转盘四周设于转盘放置腔内，所述衔接推动杆上铰接有喷洒控制滑块，所述喷洒控制滑块可滑动设于滑动槽内，所述喷洒头设于各滑动槽底端且位于转盘放置腔底壁。


2.根据权利要求1所述的一种提高蚀刻过程产品均...

【专利技术属性】
技术研发人员：谭巨华，赵建平，
申请(专利权)人：东莞市钜升金属科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44