在旋转保持单元中，通过设置在旋转板上的多个卡盘销以与基板的外周端部抵接的状态保持基板，使旋转板围绕旋转轴旋转。在清洗单元中，通过头移动机构使清洗头一边按压被多个卡盘销保持的基板的背面一边移动，借助清洗头的研磨除去基板的背面的异物。借助辅...

本发明的目的在于提供一种能够提高衬底处理装置的处理量的衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备搬送空间(32)、搬送机构(34a1、34b1)及热处理部(37a1、37b1)。搬送机构(34a1、34b1)设置在搬送空间(32)中。热处理部...

本发明的课题在于在不产生起尘且不对基板导入损伤的情况下，确实地消除基板的翘曲而良好地保持基板的整个区域。一种基板保持装置，包括自下方支撑基板的平台、以及对支撑于平台的基板的翘曲进行矫正的矫正机构，所述基板保持装置利用平台来保持由矫正机构...

本发明提供一种适合于多片基板的同时处理和多片基板的个别处理这两种处理的基板处理装置和基板处理方法。基板处理装置包括上游处理部、下游处理部、第一待机部、第二待机部以及搬送机器人。上游处理部对多片基板逐片依次进行处理。下游处理部可对通过上游...

本发明提供一种基板处理方法和基板处理装置，所述基板处理方法是对具有形成有多个凹部的表面的基板进行处理。基板处理方法包括：处理对象层去除工序，通过向所述基板的表面供给蚀刻液而对所述处理对象层的至少一部分进行蚀刻并加以去除，所述蚀刻液的对以...

向基板的上表面供给包括升华性物质和溶剂的溶液即干燥前处理液。然后，通过使溶剂从基板上的干燥前处理液蒸发，从而在基板上的干燥前处理液中析出升华性物质的固体。然后，使升华性物质的固体的至少一部分溶解于基板上的干燥前处理液。然后，通过使溶剂从...

本发明提供一种能够一边将产品晶圆的处理效率的降低抑制为最小限度一边执行虚设处理的热处理方法及热处理装置。在本发明中，在适当的时点制作规定对产品晶圆的热处理的处理顺序及处理条件的产品制程配方。另外，也制作规定对虚设晶圆的热处理的处理顺序及...

第一分割线照相机拍摄由输送辊输送的多个片剂的一面。当从输送辊向第一输送带交付片剂时，所有的片剂以维持方向性的状态翻转正面背面。第二分割线照相机拍摄由第一输送带输送的多个片剂的另一面。基于由第一分割线照相机和第二分割线照相机获取的多个片剂...

本实用新型提供一种狭缝喷嘴及基板处理装置，能够在狭缝喷嘴的吐出口的两端部扩大开口尺寸的可调整范围而提高膜厚的均匀性。狭缝喷嘴包括：第一本体部，沿吐出口的长度方向延伸设置；第二本体部，以与第一本体部相向的方式配置而形成吐出口；中央调整机构...

提供能够调整飞散至外侧的处理液的流速的基板保持装置。基板保持装置(1)用在对基板(W)供给处理液的基板处理装置(100)中。基板保持装置(1)具备保持部件(10)、环状部件(20)和旋转机构(30)。保持部件(10)将基板(W)保持为水...

通过去除在已设置于基板(W)的凹部(83)的侧面所露出的多晶硅的自然氧化膜来使多晶硅的薄膜(84)在凹部(83)的侧面(83s)露出。在多晶硅的自然氧化膜被去除之后，使液状的IPA接触于多晶硅的薄膜(84)。在IPA接触到多晶硅的薄膜(...

基板处理方法包括：清洗工序，从液滴喷嘴向被保持为水平姿势的基板的上表面上所设定的液滴供给位置喷射处理液液滴，来清洗所述基板的上表面；冲洗工序，在所述清洗工序之后，从冲洗液喷嘴向所述基板的上表面的预定的着液位置喷出连续流动状的冲洗液，用冲...

一种抗蚀剂去除方法以及抗蚀剂去除装置，所述抗蚀剂去除装置(1)的加热板(4)配置于处理空间(20)且被加热至规定的温度。多个升降销(51)在处理空间(20)中保持在上表面(91)上具有抗蚀剂的图案的基板(9)，所述抗蚀剂在表面形成有变质...

提供一种能够抑制医药品、食品等固体制剂的表面的印刷图像的褪色和变色的喷墨用水性油墨组合物、固体制剂的印刷图像的褪色抑制方法和固体制剂。喷墨用水性油墨组合物含有可食用性的色淀颜料、和褪色抑制剂。色淀颜料含有包含染料的特定色淀颜料，前述染料...

本发明提供一种能够防止对产品晶圆误设定虚设制程配方的热处理方法及热处理装置。在适当的时机制成规定对于产品晶圆的热处理的处理顺序及处理条件的产品制程配方。另外，也制成规定对于虚设晶圆的热处理的处理顺序及处理条件的虚设制程配方。将产品制程配...

本发明提供一种能得当地管理针对虚设晶圆的热处理的热处理方法及热处理装置。对虚设晶圆进行如下虚设处理：利用卤素灯等进行加热处理，而调节基座等腔室内构造物的温度。预先编写用于虚设处理的虚设配方，并且设定虚设处理次数的阈值也就是上限值及下限值...

本实用新型提供一种基板处理装置，能够缩短从喷嘴去除剩余的处理液所需的时间，并且能够一边抑制被去除的处理液的飞散一边回收处理液。回收从喷嘴去除的剩余的处理液的处理液回收部具有：容器，呈上方开放且具有比喷出口的长度方向的尺寸大的宽度的箱形，...

对附着有液体的衬底的正面供给包含升华性物质的处理液而形成液膜，使所述液膜凝固而变成凝固体。对形成在衬底正面的凝固体以在衬底的整面每单位面积的流量变成固定的方式供给氮气。在衬底的整面，凝固体均匀地升华，凝固体的气体固体界面朝与衬底正面垂直...

基板处理装置包含：基板保持单元，包含具有上表面的旋转基座以及立设于所述上表面的多个销，用以通过所述多个销保持基板；阻隔构件，具有：基板对向面，与被所述基板保持单元保持的基板的上表面对向；以及内周面，与被所述基板保持单元保持的基板的外周端...

本发明提供一种能够抑制填充材料附着于基板的背面的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置(100)对具有上表面以及背面的基板W进行处理。基板处理装置(100)具有基板保持部(120)、填充材料供给部(150)、第一清洗液供给部(160...