本发明提供一种图案形成装置，该装置通过以喷墨方式向布线基板喷出阻焊剂的油墨的液滴，从而，在布线基板上形成阻焊膜(92)的图案。此时，将布线基板上的导电图案(91)的边缘附近区域(951)的每单位面积的油墨的喷出量设定为多于未形成有导电图...

本发明提供一种能够实现处理单元的增设且容易进行搬运机械手的维护的技术。第1处理模块(3A)具有处理单元(SP1～SP6)及第1交接部(PS1)。分度盘部分(2)配置在第1处理模块的‑X侧，向第1交接部(PS1)供给基板(W)。搬运模块(...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底搬送方法。在第1ID块(2)上设有载置台(13)，在第2ID块(4)上设有载置台(47)。以往，仅在第1ID块(2)上设有载具载置台。因此，在去路及返路这两个路径中，在第1ID块(2)与IF块(6)之间搬...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底搬送方法。本发明的衬底处理装置依序配置着ID块(2)、涂布块(3)、显影块(4)及IF块(6)。在ID块(2)上设有载置台(13)，在IF块(6)上设有载置台(47)。以往，仅在ID块上设有载具载置台。因...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底搬送方法。第1 ID块(2)从载置在载置台(13)上的载具(C)取出衬底(W)，并将所取出的衬底(W)输送到6个处理层(3A～3F)中的任一个。另外，第2 ID块(4)例如将从处理层(3A)输送来的衬底(...

本发明涉及一种衬底处理装置及该衬底的搬送方法。在第1ID块(2)设有载置台(13)，在第2ID块(4)设有载置台(74)。以往，仅在第1ID块(2)设有载具载置台。因此，在去路及返路这两条路径中，在第1ID块(2)与第2处理块(5)之间...

本发明提供一种能够确认形成在衬底表面的薄膜的膜种类及膜厚的热处理方法及热处理装置。将针对形成有多种膜种类及膜厚的薄膜的硅衬底通过模拟所求出的多个理论反射率与膜种类及膜厚建立关联地预先注册于数据库。将收容着构成批次的多个半导体晶圆的载具搬...

向在表面露出有硅氧化膜和硅氮化膜的衬底供给含有硅的磷酸水溶液、选择性地将硅氮化膜蚀刻的衬底处理方法。该方法包括下述工序：将含有规定硅浓度范围的硅的磷酸水溶液贮存于罐的工序；将罐内的磷酸水溶液供给至喷嘴，并从喷嘴向衬底供给磷酸水溶液而对衬...

本实用新型提供一种载物台测定夹具及涂敷装置。浮起载物台(3)对由搬运往复装置(5)沿规定的搬运方向(D1)搬运的基板(W)施加浮起力。浮起载物台(3)的各上表面(31S～33S)形成有喷出空气的多个孔。载物台测定夹具(8)具有：五个载物...

本发明提供一种基板处理方法及装置，该基板处理方法包括：处理液供给工序，将具有溶质以及溶剂的处理液朝向基板的表面供给，处理膜形成工序，使供给至所述基板的表面的所述处理液固化或硬化，在所述基板的表面形成保持存在于所述基板的表面的去除对象物的...

本发明提供一种基板处理装置(100)及基板处理方法。基板处理装置(100)包括：腔室(1)、喷嘴(3)、供给配管(5)、阀(7)、温度检测部(9)、及控制部(11)。喷嘴(3)向基板(W)喷出处理液。供给配管(5)对喷嘴(3)供给处理液...

通过将溶剂阀关闭，而将通过了溶剂阀的IPA中的最先通过溶剂阀的IPA以外的IPA保持于前端流路内。通过开启溶剂阀，而利用通过了溶剂阀的IPA将预先保持于前端流路内的IPA向下游推送，由此使喷出口仅将该IPA朝向基板喷出。通过关闭溶剂阀，...

本发明涉及的基板处理装置具备：贮存处理液、浸渍基板的处理槽；向所述处理槽供给所述处理液的处理液供给机构；成为所述处理液从所述处理槽向装置外被排液时的流路的排液配管；具备对所述处理液进行过滤的过滤器，且至少一端与所述处理槽连通的循环配管；...

本发明的脏器容纳器(1)具有柔软的膜(11、12)和管保持部(24)。膜(11、12)与脏器(9)的表面接触并保持脏器(9)。管保持部(24)对在膜(11、12)内的脏器(9)与膜(11、12)的外部之间延伸的管(91、92)进行保持。...

本实用新型提供一种加热装置，能够在不限制基板的表面中的有效区域的情况下良好地加热基板，所述加热装置具有：加热板，从下方加热以表面朝向上方的面朝上状态定位在加热位置的基板；升降机构，使基板相对于加热板在上下方向上在高于加热位置的待机位置与...

本发明提供一种处理腔室，具有可装卸的盖部，用于对被处理基板实施加热处理，其能够抑制盖部下表面中的面向腔室内部空间的部分的温度降低。处理腔室(10)具有：腔室主体(11)，在上部具有开口(111)，用于容纳被处理基板(S)和对被处理基板进...

本发明提供一种处理腔室，具有可装卸的盖部，用于对被处理基板实施加热处理，其能够抑制盖部下表面中的面向腔室内部空间的部分的温度降低。处理腔室具有：腔室主体，在上部具有开口，用于容纳被处理基板和对被处理基板进行加热的热源；盖部，相对于开口能...

本发明的课题在于提供一种能够容易地进行热处理条件的条件设定的热处理方法及热处理装置。将收容构成批次的多个半导体晶圆的载具搬入至热处理装置之后，对各半导体晶圆设定规定了处理顺序及处理条件的制程配方。接着，测定收容于载具的各半导体晶圆的反射...

本发明提供一种可顺畅地进行向自下方施加浮力来支撑基板的平台搬送基板且防止基板的搬送不良或损伤的基板搬送装置及涂布装置。在本发明的基板搬送装置中，在将与基板的搬送方向正交的水平方向设为宽度方向时，基板支撑平台在俯视时与搬送辊在宽度方向上不...

基板处理装置，其通过在包含一种以上的药液及纯水的处理液中浸渍基板从而对该基板进行规定的处理，所述基板处理装置具备：处理槽，其贮留有用于对基板进行规定的处理的处理液；处理液更换部，当处理槽中的处理液的使用期到期时，对处理液进行更换；检测部...