【技术实现步骤摘要】
基板处理装置、搬运模块及连结模块
本专利技术涉及对基板进行处理的基板处理装置。作为处理对象的基板例如包含半导体基板、液晶显示装置及有机EL(Electroluminescence:电致发光)显示装置等FPD(FlatPanelDisplay:平板显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板、印刷基板等。
技术介绍
半导体器件的制造工艺中,使用具有对基板进行逐张处理的单片式处理单元的基板处理装置。另外,为了提高生产效率,使用将多个处理单元合并而成的基板处理装置。专利文献1的图1中公开的基板处理装置作为对基板进行搬运的搬运机械手包括分度盘机械手、第1主机械手和第2主机械手。这些机械手沿着一个方向依次配置。在分度盘机械手与第1主机械手之间、第1及第2主机械手之间分别设有载置基板的第1及第2载置部。在第1及第2主机械手各自的两侧设有处理单元。分度盘机械手从盒中取出未处理的基板并向第1载置部搬运。第1主机械手从第1载置部取出基板并向其周围的处理单元或第2载置部搬运。第2主机械手 ...
【技术保护点】
1.一种基板处理装置,其对基板进行处理,所述基板处理装置的特征在于,包括:/n第1处理模块,其具有针对所述基板进行规定处理的第1规定处理单元及临时保持所述基板的第1交接部;/n基板供给部,其配置在所述第1处理模块的第1方向侧,从所述第1方向侧向所述第1交接部供给所述基板;以及/n搬运模块,其配置在所述第1处理模块的与所述第1方向相反的第2方向侧,具有从所述第1交接部沿所述第2方向搬出所述基板并搬入至所述第1规定处理单元的第1搬运装置,/n所述搬运模块包含:/n框架,其规定供所述第1搬运装置载置于内部的载置空间;/n第1底板部,其配置在所述载置空间的内侧,并设置有所述第1搬运 ...
【技术特征摘要】
20181228 JP 2018-2474331.一种基板处理装置,其对基板进行处理,所述基板处理装置的特征在于,包括:
第1处理模块,其具有针对所述基板进行规定处理的第1规定处理单元及临时保持所述基板的第1交接部;
基板供给部,其配置在所述第1处理模块的第1方向侧,从所述第1方向侧向所述第1交接部供给所述基板;以及
搬运模块,其配置在所述第1处理模块的与所述第1方向相反的第2方向侧,具有从所述第1交接部沿所述第2方向搬出所述基板并搬入至所述第1规定处理单元的第1搬运装置,
所述搬运模块包含:
框架,其规定供所述第1搬运装置载置于内部的载置空间;
第1底板部,其配置在所述载置空间的内侧,并设置有所述第1搬运装置的基台部;
第2底板部,其在所述载置空间的内侧,相比于所述第1底板部而配置在作为与所述第1方向正交的水平方向的第3方向侧;以及
出入口部,其相比于所述第2底板部而设置在所述第3方向侧,使所述载置空间与所述框架的外部连通。
2.根据权利要求1的基板处理装置,其特征在于,
所述第1搬运装置包括:
保持所述基板的手部;以及
铅垂驱动部,其包含使所述手部沿铅垂方向移动的铅垂马达。
3.根据权利要求2的基板处理装置,其特征在于,
所述第1底板部相比于所述第2底板部而设置在铅垂方向的下方。
4.根据权利要求2或3的基板处理装置,其特征在于,
所述第1搬运装置包含水平驱动部,该水平驱动部包含使所述手部相对于基台部在水平方向上向远离或接近的方向移动的移动马达,
所述第1底板部相比于所述第1交接部而设置在与所述第3方向相反一侧。
5.根据权利要求4的基板处理装置,其特征在于,
所述第1规定处理单元具有向所述基板供给流体的喷嘴。
6.根据权利要求5的基板处理装置,其特征在于,
还具有向所述喷嘴供给所述流体的供给配管,该供给配管横跨所述搬运模块及所述第1处理模块而配置。
7.根据权利要求6的基板处理装置,其特征在于,
还具有在内侧供所述供给配管穿插...
【专利技术属性】
技术研发人员:高山祐一,桥本光治,菊本宪幸,
申请(专利权)人:株式会社斯库林集团,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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