基板保持装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板保持装置，能够避免使装置整体大型化且高成本而将基板从基板保持架抬起。基板保持装置具备：保持基板(W)的基板保持架(3)；使基板保持架(3)旋转的旋转机构(10)；多个升降销(P)，在位于比基板保持架(3)的基板载置面(3a)靠下方处的退避位置(x)与从该基板载置面(3a)突出的突出位置(y)之间升降移动；及动力传递机构(20)，介于旋转机构(10)与升降销(P)之间设置，将旋转机构(10)的使基板保持架(3)旋转的动力变换为使升降销(P)在退避位置(x)与突出位置(y)之间移动的动力而向升降销(P)传递。

【技术实现步骤摘要】
基板保持装置
本专利技术涉及用于离子束照射装置等的基板保持装置。
技术介绍
在例如将离子束照射后的基板从被称为压板的基板保持架抬起时，如专利文献1所示，使用了构成为通过使多个销从基板的下方上升来抬起基板的多个位置的装置。然而，在上述的结构中，如果为了使多个销上升而例如设置电动机等动力源，则装置整体变得大型化。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特表2012－524417号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题因此本专利技术为解决上述的问题而做出，其主要课题为能够避免装置整体大型化地将基板从基板保持架抬起。用于解决课题的技术方案即本专利技术的基板保持装置的特征在于，具备：基板保持架，对基板进行保持；旋转机构，使所述基板保持架旋转；多个升降销，在位于比所述基板保持架的基板载置面靠下方处的退避位置与从该基板载置面突出的突出位置之间升降移动；和动力传递机构，介于所述旋转机构与所述升降销之间设置，将所述旋转机构的使所述基板保持架旋转的动力变换为使所述升降销在所述退避位置与所述突出位置之间移动的动力而向所述升降销传递。根据这样构成的基板保持装置，能够通过动力传递机构将例如用于调整扭转角等的现有的旋转机构的动力变换为使升降销移动的动力。由此，能够不再需要用于使升降销移动的电动机等动力源，从而能够避免装置整体大型化地从基板保持架抬起基板。优选的是，所述动力传递机构具备：一体旋转构件，安装于所述基板保持架而与该基板保持架一起旋转；相对旋转构件，能够绕所述一体旋转构件的旋转轴相对于该一体旋转构件相对地旋转；斜槽，设置于所述一体旋转构件和所述相对旋转构件中的一方；和滑块，设置于所述一体旋转构件和所述相对旋转构件中的另一方并在所述斜槽中滑动，并且与所述升降销一体地设置。如果是这样的结构，由于在斜槽内滑动的滑块与升降销一体地设置，因此能够通过组入该动力传递机构而将旋转机构的动力简单地变换为使升降销移动的动力并传递。优选的是，所述基板保持装置构成为所述基板保持架能够在倾倒状态和立起状态之间移动，其中，所述基板保持装置还具备传递状态切换机构，该传递状态切换机构在传递状态和非传递状态之间切换，所述传递状态是能够进行基于所述动力传递机构的向所述升降销的动力传递的状态，所述非传递状态是无法进行基于所述动力传递机构的向所述升降销的动力传递的状态，在所述基板保持架从所述倾倒状态移动为所述立起状态的情况下，所述传递状态切换机构从所述传递状态切换为所述非传递状态，在所述基板保持架从所述立起状态移动为所述倾倒状态的情况下，所述传递状态切换机构从所述非传递状态切换为所述传递状态。如果是这样的结构，能够在使基板从基板保持架分离时，进行基于动力传递机构的向升降销的动力传递，并能够在进行向基板照射离子束等的处理时，不向升降销传递动力地进行已知的基板处理。专利技术效果根据这样构成的本专利技术，能够避免使装置整体大型化而从基板保持架抬起基板。附图说明图1是示出本实施方式的离子束照射装置的整体结构的示意图。图2是示出同一实施方式的基板保持架的动作的示意图。图3是示出同一实施方式的处于退避位置的升降销的示意图。图4是示出同一实施方式的处于突出位置的升降销的示意图。图5是示出同一实施方式的动力传递机构的外观的示意图。图6是示出同一实施方式的动力传递机构的内部构造的示意图。图7是示出同一实施方式的动力传递机构的动作的示意图。图8是示出同一实施方式的动力传递机构的施力构件的示意图。图9是示出同一实施方式的传递状态切换机构的动作的示意图。图10是示出同一实施方式的控制装置的动作的流程图。标号说明100…离子束照射装置W…基板IB…离子束3…基板保持架4…搬运臂200…基板保持装置10…旋转机构(扭转角调整机构)P…升降销3h…贯通孔20…动力传递机构30…传递状态切换机构具体实施方式以下，参照附图对本专利技术的基板保持装置的一种实施方式进行说明。本实施方式的基板保持装置例如用于离子注入装置等的离子束照射装置，在照射离子束时等的多种时刻，将基板保持为所期望的姿态。首先，对离子束照射装置简单地进行说明。如图1所示，离子束照射装置100将从离子源1引出的离子束IB通过质量分析仪2进行质量分析之后，向由被称作压板的基板保持架3保持的基板W照射而注入所期望的离子种类。更具体而言，如图1所示，离子束照射装置100构成为，通过搬运臂4将基板W移送至基板保持架3的上方并载置，通过静电吸盘等将该基板W保持于基板保持架3，并且在使基板保持架3扫描的同时向基板W照射离子束IB。需要说明的是，基板W在此大于基板保持架3的作为基板载置面的上表面，且基板W例如是硅晶圆等半导体晶圆等。需要说明的是，在图1中为了便于理解，图示了在基板保持架3上载置了基板W时的状态和向基板W照射离子束IB时的状态。另外，基板保持架3的扫描方向在本实施方式中虽然是横向，但也可以是纵向。如图2所示，本实施方式的离子束照射装置100构成为能够使基板保持架3绕多个轴旋转。具体而言，具备使基板保持架3绕沿基板保持架3的扫描方向的轴(沿图2中的Y方向的轴)旋转的负载角调整机构作为第一旋转机构。该负载角调整机构使基板保持架3在倾倒状态和立起状态之间旋转。倾倒状态是载置基板W或抬起被载置的基板W时的基板保持架3的状态，例如为水平的姿态。另外，立起状态是向基板W照射离子束IB时的基板保持架3的状态，例如为沿铅垂方向立起的姿态。另外，离子束照射装置100具备使基板保持架3绕与基板载置面3a正交的轴(沿图2中的Z方向的轴)旋转的扭转角调整机构作为第二旋转机构。该扭转角调整机构用于将基板的结晶轴与离子束的照射方向设定为规定的角度，并在基板处于离子束的非照射位置时，使处于立起状态的基板保持架3旋转。进一步地，离子束照射装置100具备使基板保持架3绕与扭转角调整机构的旋转轴及负载角调整机构的旋转轴正交的轴(沿图2中的X轴方向的轴)旋转的倾斜角调整机构作为第三旋转机构。接下来，对基板保持装置200进行说明。需要说明的是，以下为了便于说明，如图3及图4所示，使处于倾倒状态的基板保持架3的基板载置面3a侧为上方，使其相反侧为下方。如图3及图4所示，基板保持装置200具备基板保持架3、使基板保持架3绕与基板载置面3a正交的轴S旋转的旋转机构10、在形成于基板保持架3的贯通孔3h内升降移动的多个升降销P。需要说明的是，为了说明的方便，在图3及图4中基板W未图示。如图3及图4所示，旋转机构10具备连接于基板保持架3的轴11和连接于轴11的作为动力源的电动机12。该旋转机构10是利用了用于使基板保持架3绕与基板载置面3a正交的轴S旋转的现有的机构，在此为上述的作为第二旋转机构的扭本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板保持装置，其中，具备：/n基板保持架，对基板进行保持；/n旋转机构，使所述基板保持架旋转；/n多个升降销，在位于比所述基板保持架的基板载置面靠下方处的退避位置与从该基板载置面突出的突出位置之间升降移动；和/n动力传递机构，介于所述旋转机构与所述升降销之间设置，将所述旋转机构的使所述基板保持架旋转的动力变换为使所述升降销在所述退避位置与所述突出位置之间移动的动力而向所述升降销传递。/n

【技术特征摘要】
20181227 JP 2018-2442381.一种基板保持装置，其中，具备：
基板保持架，对基板进行保持；
旋转机构，使所述基板保持架旋转；
多个升降销，在位于比所述基板保持架的基板载置面靠下方处的退避位置与从该基板载置面突出的突出位置之间升降移动；和
动力传递机构，介于所述旋转机构与所述升降销之间设置，将所述旋转机构的使所述基板保持架旋转的动力变换为使所述升降销在所述退避位置与所述突出位置之间移动的动力而向所述升降销传递。


2.根据权利要求1所述的基板保持装置，其中，
所述动力传递机构具备：
一体旋转构件，安装于所述基板保持架而与该基板保持架一起旋转；
相对旋转构件，能够绕所述一体旋转构件的旋转轴相对于该一体旋转构件相对地旋转；
斜槽，设...

【专利技术属性】
技术研发人员：西村一平，小野田正敏，
申请(专利权)人：日新离子机器株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP