基板保持装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板保持装置，能够避免使装置整体大型化且高成本而将基板从基板保持架抬起。基板保持装置具备：保持基板(W)的基板保持架(3)；使基板保持架(3)旋转的旋转机构(10)；多个升降销(P)，在位于比基板保持架(3)的基板载置面(3a)靠下方处的退避位置(x)与从该基板载置面(3a)突出的突出位置(y)之间升降移动；及动力传递机构(20)，介于旋转机构(10)与升降销(P)之间设置，将旋转机构(10)的使基板保持架(3)旋转的动力变换为使升降销(P)在退避位置(x)与突出位置(y)之间移动的动力而向升降销(P)传递。

【技术实现步骤摘要】
基板保持装置
本专利技术涉及用于离子束照射装置等的基板保持装置。
技术介绍
在例如将离子束照射后的基板从被称为压板的基板保持架抬起时，如专利文献1所示，使用了构成为通过使多个销从基板的下方上升来抬起基板的多个位置的装置。然而，在上述的结构中，如果为了使多个销上升而例如设置电动机等动力源，则装置整体变得大型化。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特表2012－524417号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题因此本专利技术为解决上述的问题而做出，其主要课题为能够避免装置整体大型化地将基板从基板保持架抬起。用于解决课题的技术方案即本专利技术的基板保持装置的特征在于，具备：基板保持架，对基板进行保持；旋转机构，使所述基板保持架旋转；多个升降销，在位于比所述基板保持架的基板载置面靠下方处的退避位置与从该基板载置面突出的突出位置之间升降移动；和动力传递机构，介于所述旋转机构与所述升降销之间设置，将所述旋转机构的使所述基板保持架旋转的动力变换为使所述升降销在所述退避位本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板保持装置，其中，具备：/n基板保持架，对基板进行保持；/n旋转机构，使所述基板保持架旋转；/n多个升降销，在位于比所述基板保持架的基板载置面靠下方处的退避位置与从该基板载置面突出的突出位置之间升降移动；和/n动力传递机构，介于所述旋转机构与所述升降销之间设置，将所述旋转机构的使所述基板保持架旋转的动力变换为使所述升降销在所述退避位置与所述突出位置之间移动的动力而向所述升降销传递。/n

【技术特征摘要】
20181227 JP 2018-2442381.一种基板保持装置，其中，具备：
基板保持架，对基板进行保持；
旋转机构，使所述基板保持架旋转；
多个升降销，在位于比所述基板保持架的基板载置面靠下方处的退避位置与从该基板载置面突出的突出位置之间升降移动；和
动力传递机构，介于所述旋转机构与所述升降销之间设置，将所述旋转机构的使所述基板保持架旋转的动力变换为使所述升降销在所述退避位置与所述突出位置之间移动的动力而向所述升降销传递。


2.根据权利要求1所述的基板保持装置，其中，
所述动力传递机构具备：
一体旋转构件，安装于所述基板保持架而与该基板保持架一起旋转；
相对旋转构件，能够绕所述一体旋转构件的旋转轴相对于该一体旋转构件相对地旋转；
斜槽，设...

【专利技术属性】
技术研发人员：西村一平，小野田正敏，
申请(专利权)人：日新离子机器株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP