基板处理装置、基板处理装置的清洗方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及的基板处理装置具备：贮存处理液、浸渍基板的处理槽；向所述处理槽供给所述处理液的处理液供给机构；成为所述处理液从所述处理槽向装置外被排液时的流路的排液配管；具备对所述处理液进行过滤的过滤器，且至少一端与所述处理槽连通的循环配管；将所述循环配管与所述排液配管连通，并且成为经所述过滤器过滤的所述处理液在不返回至所述处理槽的情况下被排液时的流路的旁通配管；对从所述处理槽排出的所述处理液的流路进行切换的开闭阀；和对所述开闭阀进行控制的控制机构。

Cleaning method of substrate treatment device and substrate treatment device

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板处理装置、基板处理装置的清洗方法
本专利技术涉及使用处理液对基板进行处理的基板处理装置及基板处理方法，更具体而言，涉及在对基板进行基于处理液的处理之后，对处理槽、配管、过滤器、泵等处理液所接触的装置各部进行清洗的技术。需要说明的是，本说明书中提及的基板例如包括半导体晶片、液晶显示器用基板、等离子体显示器用基板、有机EL用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等。
技术介绍
在使用药液、纯水等处理液进行基板处理的这种装置中，将处理液贮存于处理槽、使其在处理液循环用的配管与处理槽之间循环，从而进行基板的处理。另外，上述循环用的配管配置有对处理液进行压送的泵、将混合在处理液中的金属等颗粒除去的过滤器、处理液的温度调节用的加热器等。在使用上述这样的构成的装置进行基板处理的情况下，在将处理液排出后，在处理槽内、配管内(尤其是过滤器、泵等)残留有颗粒、包含其的处理液。因此，以往以来，在基板处理后，使用纯水对处理槽内、配管内进行清洁。例如，专利文献1中记载的基板处理装置具备：由内槽和外槽形成的处理槽；将内槽与外槽连通连接，用于使处理液循环的循环配管；向上述外槽供给纯水的纯水供给部；将贮存于上述内槽的纯水排出的排液配管，并且，专利文献1中记载了下述内容，即，从上述纯水供给部向外槽供给纯水，利用上述循环配管将贮存于上述外槽的纯水移送至上述内槽，将贮存于上述内槽的纯水排出至上述排液配管，通过将上述供给、上述移送、上述排出中的全部或它们中的至少两者同时且连续地执行，由此在使纯水在上述内槽、上述外槽、上述循环配管中流通的同时进行清洗，在规定的清洗时间经过后、或供给了规定量的纯水后，使来自所述纯水供给部的纯水的供给停止。通过这样的构成，从纯水供给部供给的纯水在由外槽、循环配管、内槽、排液配管构成的成为一条路的通路中流通，因此，能够一边使纯水流通一边将各部用纯水进行清洗。然而，基于上述那样的构成，在配管内流通的纯水暂时经由处理槽而被排液，因此，残留于配管内(尤其是过滤器)的颗粒被用于清洗的纯水搬运至处理槽内。因此，存在无法将处理槽内的颗粒完全除去的课题。另外，若使用纯水进行清洗，则纯水将残留于处理槽及配管内。像这样，若处于残留有纯水的状态，则由此会使得下次用于基板处理的药液被稀释，故而，在严格要求药液的浓度管理的情况下，本质上存在难以用纯水来对处理槽及配管内进行清洗的情况。因此，可考虑代替纯水而使用洁净的药液(以下，也称为“新液”)来进行处理槽及配管内清洗，而在使用药液的情况下，与纯水同样地无法进行排液。即，对于使用后的药液(以下，也称为“废液”)而言，为了防止因废弃对环境带来的不良影响而需要进行规定的处理，但无法向用于实施该处理的设备输送刚刚进行了基板处理之后的高温废液。因此，需要将用于基板处理而经加热的废液暂时回收至冷却罐，在冷却至规定温度的情况下，输送至后续工序。因此，当冷却罐中无空余容量的情况下，无法对药液进行排液，尤其是在刚刚完成基板处理之后，冷却罐处于收纳有大量高温废液的状态，因此，无法为了对处理槽及配管内进行清洗而一次使大量的药液流通、排液。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2016-63204号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本专利技术鉴于上述问题，其目的在于提供下述技术，即在对使用处理液进行基板处理的基板处理装置的处理槽及配管内进行清洗的情况下，将对所述配管内进行清洗后的清洗液在不经由处理槽的情况下进行排液。用于解决课题的手段为了实现上述目的，本专利技术采用以下的构成。本专利技术涉及的基板处理装置为用处理液对基板进行处理的基板处理装置，上述基板处理装置具有：处理槽，其贮存上述处理液、浸渍基板；处理液供给机构，其向上述处理槽供给上述处理液；排液配管，其成为上述处理液从上述处理槽向装置外被排液时的流路；循环配管，其具备对上述处理液进行过滤的过滤器，且至少一端与上述处理槽连通；旁通配管，其将上述循环配管与上述排液配管连通，并且成为经上述过滤器过滤的上述处理液在不返回至上述处理槽的情况下被排液时的流路；开闭阀，其对从上述处理槽排出的上述处理液的流路进行切换；和控制机构，其控制上述开闭阀。通过上述构成，通过使用开闭阀对处理液的流路进行切换，由此，能够将从处理槽排出且从循环配管通过的处理液在不返回至处理槽的情况下经由旁通配管进行排液。因此，在使用处理液对配管内进行清洗的情况下，能够在残留于包括过滤器的配管内的废液及颗粒不返回至处理槽的情况下，对配管内进行清洗。另外，也可以是，上述循环配管的一端连接于上述处理槽、另一端连接于排液配管，上述开闭阀包括一通排液阀，上述一通排液阀对从上述处理槽排出的上述处理液仅通过上述排液配管而被排液的流路、与从上述处理槽排出的上述处理液自上述排液配管向上述循环配管流动的流路进行切换，在从上述处理槽排出的上述处理液自上述排液配管向上述循环配管流动的情况下，上述循环配管与上述处理槽之间形成上述处理液能够循环的流路。通过上述构成，在使处理液循环时，能够将排液配管作为循环的流路的一部分而应用。另外，也可以是，上述排液配管的一端连接于上述处理槽，在该配管内的上游具备对是否从上述处理槽排出上述处理液进行切换的处理槽排液阀，上述循环配管的一端与上述处理槽连通、另一端连接于上述排液配管的比上述处理槽排液阀更靠下游的位置，上述循环配管具备位于上述过滤器与上述处理槽之间的处理槽循环阀，上述旁通配管的一端在上述过滤器与上述处理槽循环阀之间与上述循环配管连接、另一端在比连接上述循环配管的位置更靠下游处与上述排液配管连接，上述旁通配管具备对上述旁通配管内的流路进行开闭的循环排液阀，上述控制机构通过对上述处理槽排液阀、一通排液阀、处理槽循环阀、循环排液阀中的各阀进行开闭控制，由此进行下述循环排液处理：从上述处理槽排出的上述处理液在上述循环配管的一部分及上述旁通配管中流通，在不返回至上述处理槽的情况下被排液。根据上述构成，能够简单地构成配管及阀的组合。另外，即使在不针对各个阀而单独地进行开闭指示，也能够通过控制机构所进行的处理，而使处理液不返回至处理槽的情况下进行配管内的清洗。需要说明的是，本说明书中，所谓上游、下游，以排液配管的处理槽排液阀侧为上游，按照从处理槽排出的处理液的流动来定义。另外，也可以是，还具有废液回收罐，其对从上述处理槽排出的处理液进行回收，上述排液配管的一端连接于上述处理槽、另一端连接于上述废液回收罐，上述控制机构获取上述废液回收罐的剩余容量的信息，在上述废液回收罐中存在规定的剩余容量的情况下，将该规定的剩余容量以下的处理液从上述处理槽排出，进行上述循环排液处理。根据上述构成，在废液回收罐具有空余的情况下，能够使用药液来对配管内进行清洗。由此，在下一次的基板处理时，能够在不因残留于处理槽及配管内的纯水而使得药液的浓度被稀释的情况下对配管内进行处理。需要说明的是，若在配管内一次通液的液量过少时，则会对配管内的有效清洗造本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.基板处理装置，其为用处理液对基板进行处理的基板处理装置，所述基板处理装置具有：/n处理槽，其贮存所述处理液、浸渍基板；/n处理液供给机构，其向所述处理槽供给所述处理液；/n排液配管，其成为所述处理液从所述处理槽向装置外被排液时的流路；/n循环配管，其具备对所述处理液进行过滤的过滤器，且至少一端与所述处理槽连通；/n旁通配管，其将所述循环配管与所述排液配管连通，并且成为经所述过滤器过滤的所述处理液在不返回至所述处理槽的情况下被排液时的流路；/n开闭阀，其对从所述处理槽排出的所述处理液的流路进行切换；和/n控制机构，其对所述开闭阀进行控制。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171023 JP 2017-2046711.基板处理装置，其为用处理液对基板进行处理的基板处理装置，所述基板处理装置具有：
处理槽，其贮存所述处理液、浸渍基板；
处理液供给机构，其向所述处理槽供给所述处理液；
排液配管，其成为所述处理液从所述处理槽向装置外被排液时的流路；
循环配管，其具备对所述处理液进行过滤的过滤器，且至少一端与所述处理槽连通；
旁通配管，其将所述循环配管与所述排液配管连通，并且成为经所述过滤器过滤的所述处理液在不返回至所述处理槽的情况下被排液时的流路；
开闭阀，其对从所述处理槽排出的所述处理液的流路进行切换；和
控制机构，其对所述开闭阀进行控制。


2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述循环配管的一端连接于所述处理槽、另一端连接于排液配管，
所述开闭阀包括一通排液阀，所述一通排液阀对从所述处理槽排出的所述处理液仅通过所述排液配管而被排液的流路、与从所述处理槽排出的所述处理液自所述排液配管向所述循环配管流动的流路进行切换，
在从所述处理槽排出的所述处理液自所述排液配管向所述循环配管流动的情况下，所述循环配管与所述处理槽之间形成所述处理液能够循环的流路。


3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
所述排液配管的一端连接于所述处理槽，在所述配管内的上游具备对是否从所述处理槽排出所述处理液进行切换的处理槽排液阀，
所述循环配管的一端与所述处理槽连通、另一端连接于所述排液配管的比所述处理槽排液阀更靠下游的位置，所述循环配管具备位于所述过滤器与所述处理槽之间的处理槽循环阀，
所述旁通配管的一端在所述过滤器与所述处理槽循环阀之间与所述循环配管连接、另一端在比连接所述循环配管的位置更靠下游处与所述排液配管连接，所述旁通配管具备对所述旁通配管内的流路进行开闭的循环排液阀，
所述控制机构通过对所述处理槽排液阀、一通排液阀、处理槽循环阀、循环排液阀中的各阀进行开闭控制，由此进行下述循环排液处理：从所述处理槽排出的所述处理液在所述循环配管的一部分及所述旁通配管中流通，在不返回至所述处理槽的情况下被排液。


4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，
还具有废液回收罐，其对从所述处理槽排出的处理液进行回收，
所述排液配管的一端连接于所述处理槽、另一端连接于所述废液回收罐，
所述控制机构获取所述废液回收罐的剩余容量的信息，在所述废液回收罐中存在规定的剩余容量的情况下，将所述规定的剩余容量以下的处理液从所述处理槽排出，进行所述循环排液处理。


5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，
所述处理槽具备浸渍基板的内槽、和以围绕内槽的周围的方式配置的外槽，
所述排液配管具备与所述内槽连接的内槽排液配管部、及与所述外槽连接的外槽排液配管部，
所述废液回收罐的规定的剩余容量设定为所述外槽的容积以上，
所述控制机构获...

【专利技术属性】
技术研发人员：杉冈真治，岸田拓也，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本;JP