本发明提供一种能防止劣化加重的虚设晶圆的误处理的热处理方法及热处理装置。实施如下虚拟运行：利用卤素灯对虚设晶圆进行预加热处理，且利用闪光灯对虚设晶圆进行闪光加热处理，而调节基座等腔室内构造物的温度。这时，每次进行预加热处理或闪光加热处理...

一种数据处理方法、装置与系统、以及计算器可读取记录介质，在对多个单位处理数据(各单位处理数据包含多种时间序列数据)进行处理的数据处理方法中，包含：单位处理数据选择步骤，从多个单位处理数据中选择两个以上的单位处理数据；第一评价值计算步骤，...

一种数据处理方法、数据处理装置和计算机可读取记录介质在对多个单位处理数据(各单位处理数据包含多种时间序列数据)进行处理的中，包含：评价值分布利用步骤，进行使用评价值分布的处理，所述评价值分布表示通过评价各时间序列数据而获得的评价值的每个...

本发明的数据处理方法包括如下的步骤：为了对包括一个以上的处理单元的基板处理装置中所获得的时序数据进行处理，对时序数据与基准数据进行比较而求出时序数据的分数；将分数分类成多个等级；以及针对处理单元，显示评估结果画面，所述评估结果画面包括表...

本发明提供一种对基板照射光来进行图案的描画的描画装置以及描画方法。描画装置的描画头(31)具备光源(32)、光调制器件(341)和投影光学系统(35)。来自光源(32)的光被引导至光调制器件(341)。投影光学系统(35)将由光调制器件...

本发明提供一种三维形状测量装置、三维形状测量方法，其能够应对在对象物的三维形状测量中产生了数据丢失点的情况。一边使拍摄单元(4)的拍摄范围(F)与对象物(J)重叠，一边执行根据使拍摄单元(4)拍摄拍摄范围(F)而得到的结果来取得表示拍摄...

本发明提供一种印刷装置、印刷系统、印刷方法，能够抑制通过冲刷而喷出的彩色墨水在白色区域中变得醒目。根据印刷数据(Dp)判定印刷介质(M)中的只附着白色墨水的白色区域(Id)、附着彩色墨水的彩色区域(Ia、Ib、Ic)。然后，执行冲刷使得...

本发明涉及一种基板处理装置。在使处理液从在喷嘴的下方设置的喷出口喷出而向基板的上表面供给处理液的基板处理装置中，为了有效地防止由于停电喷嘴落下而与基板的上表面接触，本发明中，将喷嘴在上下方向上升降驱动的升降部具有：具有在上下方向上延伸设...

本发明提供处理装置、处理系统以及处理方法。本发明提供一种技术，当对粘度高的液体进行过滤时，在过滤器的使用开始时，抑制异物从过滤器的脱离。所述处理装置是用于对用来过滤高粘度处理液的过滤器进行处理的处理装置。处理装置包括：循环配管，使处理液...

本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，在基板处理装置中，在使形成有图案的第一主面朝向下方的状态下保持基板(9)，并且对朝向上方的第二主面用处理液进行处理。在与外部的搬运机构交接基板时，由升降部(22)的多个升降支撑面从下方支撑基板...

本发明提供一种能够效率良好地去除粘度高的液体中的溶解气体的供给装置、包括所述供给装置的涂覆装置、以及供给方法。所述供给装置(30)是用于将高粘度的处理液供给至供给目标(22)的供给装置。所述供给装置(30)包括对贮存处理液的槽(31)与...

本发明提供一种能够适当地管理虚设晶片的处理历程的热处理方法及热处理装置。在将收容多个虚设晶片的载具搬入热处理装置中时，将该载具登记为虚设晶片专用的虚设载具。在存储部中保存将所述多个虚设晶片各自的处理历程与该载具建立关联的虚设数据库。在热...

一种检查装置，具备：前端拍摄机构，其拍摄旋转的工件的凸部的前端；上游拍摄机构，其拍摄上游壁面，所述上游壁面是从在工件的旋转方向上在上游侧与凸部相邻的凹部的底部连至凸部的前端的壁面；下游拍摄机构，其拍摄下游壁面，所述下游壁面是从在旋转方向...

本发明提供一种基板处理装置，具有充裕时间且在喷嘴单元的前方侧检测基板上的异物或基板的表面的隆起等基板的异常部位。该装置从喷嘴喷出处理液并使具有该喷嘴的喷嘴单元相对于基板相对移动来向基板供给处理液，在与喷嘴的长度方向正交的行进方向上设置在...

本发明的基板处理装置用以通过处理液进行基板处理，并具备：检查单元，检查用以构成前述基板处理装置的构件的劣化；前述检查单元具备：拍摄单元，取得前述构件的图像数据；颜色信息取得单元，从通过前述拍摄单元所取得的图像数据取得检查对象的构件的颜色...

本发明涉及一种p型氮化镓系半导体的制造方法及热处理方法。本发明提供一种能够使p型掺杂剂以高效率活化的技术。向氮化镓(GaN)衬底注入镁作为p型掺杂剂。在包含氮及氢的气氛中利用来自卤素灯的光照射，将该GaN衬底进行预加热，进而利用来自闪光...

本发明提供一种能够将腔室内以短时间减压的热处理方法。半导体晶片(W)在形成在腔室(6)内的氨气气氛中通过来自卤素灯(HL)及闪光灯(FL)的光照射而进行加热处理。当在腔室(6)内形成氨气气氛时暂时将腔室(6)内减压。另外，在半导体晶片(...

本发明容易地提高曝光装置的二维图案的曝光精度。曝光装置具备发光部、微透镜阵列部以及传感器部。发光部具有发出光的多个发光区域。微透镜阵列部具有有效区域和非有效区域。有效区域包括分别位于多个发光区域分别所发出的光的路径上的多个微透镜。非有效...

本发明的基板处理装置，利用处理液进行基板处理，其具有检查单元，该检查单元检查构成该基板处理装置的涂敷了树脂涂层的金属性部件的劣化，所述检查单元具有测量单元和劣化判断单元，该测量单元测量与检查对象的部件接触的液体中的规定的金属浓度，该劣化...

本发明的基板处理装置，利用处理液进行基板处理，其具有：检查单元，检查构成该基板处理装置的涂敷有树脂涂层的部件的劣化；以及早期劣化部，以比所述部件中应被检查的树脂涂层更容易劣化的方式被涂敷有所述树脂涂层；所述检查单元具有劣化检测单元，该劣...