【技术实现步骤摘要】
描画装置和描画方法
本专利技术涉及向基板照射光来描画图案的技术。
技术介绍
以往，已知有将调制后的光照射到载物台上的对象物，并通过在对象物上扫描该光的照射区域来描画图案的直接描画装置(例如日本特开2014-197136号公报(文献1))。在文献1的直接描画装置中，如果支撑描画头的架桥结构或支撑对准用照相机的架桥结构由于装置自身的热而变形，则描画头的基板上的描画位置与对准用照相机的视野位置的位置关系被破坏。因此，通过基于与温度差对应的位置偏移量对描画位置、视野位置间的温度依赖性的位置偏移进行修正，从而抑制描画精度的降低。另一方面，在日本特开2013-210440号公报(文献2)中，公开了利用投影透镜将形成于掩模的图案投影到工件上进行曝光的投影曝光装置。在该投影曝光装置中，通过对形成于掩模的对准标记进行拍摄，来测定因温度的不同而导致的投影透镜的描画位置的变化，并将该变化反映到曝光图案的写入位置来进行曝光。另外，在日本特开2002-195913号公报(文献3)中，公开了使用形成有半导体元件的电路图案的中间掩...
【技术保护点】
1.一种描画装置，其特征在于，对基板照射光来描画图案，所述描画装置具备：/n载物台，保持基板；/n描画头，对所述基板照射调制后的光；/n载物台移动机构，在与所述基板的上表面平行的方向上，使所述载物台相对于所述描画头相对移动；/n压力传感器，对所述描画头的周围的压力进行测定；以及/n头控制部，对所述描画头进行控制，/n所述描画头具备：/n光源；/n光调制器件，引导来自所述光源的光；以及/n投影光学系统，将由所述光调制器件调制后的光引导至所述载物台，/n所述投影光学系统具备：/n物镜组；/n焦点透镜组；以及/n焦点调节机构，通过变更所述焦点透镜组在光轴上的位置来调节所述描画头的...
【技术特征摘要】
20180920 JP 2018-1763751.一种描画装置，其特征在于，对基板照射光来描画图案，所述描画装置具备：
载物台，保持基板；
描画头，对所述基板照射调制后的光；
载物台移动机构，在与所述基板的上表面平行的方向上，使所述载物台相对于所述描画头相对移动；
压力传感器，对所述描画头的周围的压力进行测定；以及
头控制部，对所述描画头进行控制，
所述描画头具备：
光源；
光调制器件，引导来自所述光源的光；以及
投影光学系统，将由所述光调制器件调制后的光引导至所述载物台，
所述投影光学系统具备：
物镜组；
焦点透镜组；以及
焦点调节机构，通过变更所述焦点透镜组在光轴上的位置来调节所述描画头的焦点位置，
所述头控制部基于来自所述压力传感器的输出来控制所述焦点调节机构。
2.根据权利要求1所述的描画装置，其特征在于，
所述描画头还具备对所述投影光学系统的温度进行测定的第一温度传感器，
所述头控制部对所述焦点调节机构的控制还基于来自所述第一温度传感器的输出来进行。
3.根据权利要求1所述的描画装置，其特征在于，
所述描画头还具备距离传感器，该距离传感器测定到所述载物台上的所述基板为止的距离，
在利用所述载物台移动机构使所述载物台相对移动而在所述基板上扫描来自所述描画头的光的照射区域来对所述基板进行描画的期间，所述距离传感器持续测定到所述基板为止的距离，
所述头控制部对所述焦点调节机构的控制还基于来自所述距离传感器的输出来进行，
在对所述基板进行描画的期间，通过所述头控制部对所述焦点调节机构的控制，使所述描画头的所述焦点位置对准所述基板的所述上表面。
4.根据权利要求3所述的描画装置，其特征在于，
所述描画头还具备对所述距离传感器的温度进行测定的第二温度传感器，
所述头控制部对所述焦点调节机构的控制还基于来自所述第二温度传感器的输出来进行。
5.根据权利要求1所述的描画装置，其特征在于，还具备：
夹具，固定于所述载物台；
拍摄部，将所述夹具上的来自所述描画头的光的照射区域与预先形成于所述夹具上的标记一起拍摄；以及
图像处理部，根据由所述拍摄部取得的图像，取得所述描画头的照射位置与设计照射位置的偏差，
在由所述拍摄部进行所述夹具的拍摄时，通过所述头控制部对所述焦点调节机构的控制，使所述描画头的所述焦点位置与所述夹具对准。
6.根据权利要求1所述的描画装置，其特征在于，
通过利用所述载物台移动机构使所述载物台相对移动而使来自所述描画头的光的照射区域在所述基板上在规定的扫描方向上仅进行1次扫描，从而完成对所述基板的描画。
7.根据权利要求1所述的描画装置，其特征在于，
在所述基板上描画的所述图案是电路图案，所述电路图案的L/S的线是7μm～9μm，空间是11μm～13μm。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的描画装置，其特征在于，
所述焦点透镜组通过所述焦点调节机构独...
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