本发明提供一种基板处理方法、基板处理液及基板处理装置，所述基板处理方法可抑制图案的倒塌并且削减用于基板干燥的升华性物质的使用量。本发明的基板处理方法包括以下步骤：基板处理液供给步骤S13，其对基板的图案形成面供给基板处理液；凝固步骤S1...

一种基板处理装置，包含：吸引单元，用以吸引存在于连通至喷出口的处理液配管的内部的处理液；以及控制装置。所述控制装置执行：吸引步骤，通过所述吸引单元吸引存在于所述处理液配管的内部的处理液。此外，所述控制装置在所述吸引步骤中选择性地执行：第...

本发明的参数设计支援装置(2)具备有存储部(24)及控制部(25)。存储部(24)存储控制基板处理装置(1)的规程。控制部(25)取得至少一个多个控制因子各自的水准值。水准值表示基板处理装置(1)处理基板(11)时的条件。控制部(25)...

本发明提供一种能够将多个基板在装置间统一搬运并在依次处理部及同时处理部适当地进行搬运及处理的基板处理装置。基板处理装置具有接受部、依次处理部、同时处理部和控制部。接受部接受附加有包括识别信息、位置信息和工艺信息的整体基板数据的多个基板。...

本发明提供一种即使在排气量小的情况下，也能够高精度地调节减压速度的技术。在本发明的减压干燥装置中，将腔室(20)内和泵(30)连接的排气配管部(40)具有在腔室和泵之间并列配置的大径配管(44)和小径配管(45)。小径配管的管径比大径配...

本发明的基板处理装置包含：密接强化部(610)，对基板(W)的一面供给包含有机材料的密接强化剂；照射部(620)，对已通过密接强化部(610)供给密接强化剂的基板(W)的一面照射紫外线；及成膜部，通过对已利用照射部(620)照射紫外线的...

本发明提供一种能够在信息区域描画所需的信息的描画装置以及描画方法。将以矢量形式记录的图案数据(PD)转换为光栅形式，进而通过接受基于基板(S)的变形的修正处理，生成修正后描画数据(HD)。将表示曝光信息的指定字符数据(RD)合成到修正后...

同步地执行由第1移动部进行的上游工件向第1交接位置的移动、和由第2移动部进行的下游工件向第2交接位置的移动，同步地执行由第1送给部进行的上游工件从第1交接位置向第2交接位置的送给、和由第2送给部进行的下游工件从第2交接位置向第3交接位置...

根据图像的特征将包含细胞的图像适当地分割为多种区域。为了达到该目的，本发明的图像处理方法包括如下工序：获取包含有培养的细胞的原始图像(步骤S101)；将原始图像分割为由规定数量的像素构成的块，求出各块内的图像所具有的空间频率分量(步骤S...

本发明提供图像记录装置、图像记录方法以及修正信息获取方法。在图像记录装置中，在记录介质记录有图像时，记录介质相对于头部仅通过1次(步骤S26)。在记录图像前，为了减少混色不均匀，而修正图像所包含的至少一部分的像素的颜色成分的值。此时，基...

本发明提供一种液体中等离子体发生装置，其使向液体中供给的气体产生等离子体，并高效且稳定地产生等离子体。液体中等离子体发生装置(3)具备：在内部空间保持液体的框体(31)；在内部空间内具有开口并从该开口向液体中排出气体的气体供给管(32)...

基板处理方法包含有：液体喷出步骤，从喷嘴朝在腔室内被基板保持单元保持的基板的主面中的规定的供给区域喷出液体；加湿气体供给步骤，为了去除在所述基板上带有的电荷而对所述基板的主面供给比所述腔室内的湿度还高的湿度的加湿气体；以及旋转干燥步骤，...

本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，向被施加浮起力并搬运的基板良好地涂敷处理液。涂敷装置(1)具有：搬运机构(5)，使由浮起工作台部(3)被施加浮起力的浮起基板(W)沿着X方向移动；测量器(72)，测量浮起基板(W)的铅垂位置；...

本发明涉及衬底处理方法及衬底处理装置。该衬底处理方法包括：干燥前处理液供给工序，向衬底的表面供给干燥前处理液，所述干燥前处理液包含形成凝固体的凝固体形成物质、和与上述凝固体形成物质互溶的溶解物质，并且所述干燥前处理液具有比上述凝固体形成...

本发明提供能恰当调节向处理液罐返回的处理液的温度的处理液温度调节装置、供给方法及基板处理装置。温度调节装置调节包括：上游路，从供从处理液罐向基板处理单元供给的处理液通过的供给流路分支，而供向处理液罐返回的处理液流入；第一及第二分流路，与...

本发明涉及衬底处理方法、衬底处理装置及干燥前处理液。向形成有图案的衬底的表面供给干燥前处理液，所述干燥前处理液为包含不经液体即变化为气体的升华性物质和与升华性物质互溶的溶剂的溶液。然后，从衬底的表面上的干燥前处理液中蒸发溶剂，由此在衬底...

本发明提供一种无论基座上是否保持有衬底，均能准确地测定基座的温度的热处理装置。在进行作为处理对象的半导体晶圆的热处理前，将虚设晶圆(DW)载置于石英制的基座(74)，从卤素灯(HL)进行光照射而将基座(74)预热。控制部基于通过放射温度...

本发明的描绘装置包括作为检测被工作台保持的基板上的标记的位置的标记位置检测装置的功能。描绘装置在使工作台移动期间，获取表示基板上的包括标记的设计上的位置的第一区域的第一图像(83a)和表示与第一区域仅一部分重叠的第二区域的两个第二图像(...

本实用新型提供一种基板处理装置，能够向施加浮起力而搬运的基板良好地涂敷处理液。作为基板处理装置的涂敷装置1具有：浮起工作台部(3)，向基板(W)施加浮起力；搬运机构(5)，使被施加了浮起力的基板(W)向第一方向D1移动；喷嘴(61)，朝...

本发明涉及衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法包括：处理液供给工序，向具有具备凹凸的图案面的衬底的前述图案面供给处理液；处理膜形成工序，使已被供给至前述图案面的前述处理液固化或硬化，以追随该图案面的凹凸的方式形成保持存在于前述图案面...