本发明提供一种能够形成较薄且特性良好的氧化膜的热处理方法及热处理装置。将硅半导体晶片W搬入到腔室6内，在氮气体氛围中，通过来自卤素灯HL的光照射开始半导体晶片W的预加热。当在预加热的中途半导体晶片W的温度达到特定的切换温度时，对腔室6内...

本发明提供一种代表色确定方法、检查装置、检查方法以及记录介质。在检查装置中，准备表示印刷配线基板的参照图像数据和在印刷配线基板的制造中使用的CAM数据(步骤S11、S12)。基于CAM数据，确定与印刷配线基板上的各个种类的区域组对应的设...

本发明是一种对基板供给处理液的基板处理装置，包括：喷嘴管(412)，朝基板喷出处理液；送液管(411)，连接于喷嘴管(412)，并朝喷嘴管(412)输送处理液；以及抽吸管(413)，在比送液管(411)更靠下游侧处连接于喷嘴管(412)...

在开始进行成为批次的最初的处理对象的半导体晶片的处理前，将虚设晶片搬入至腔室(6)内，形成包含具有较高热传导率的氦气的环境。通过来自卤素灯的光照射而加热虚设晶片，由此自升温的虚设晶片以氦气为热介质向上侧腔室窗及下侧腔室窗产生热传导。在将...

基板处理方法，其是向形成有图案的基板表面供给药液而对基板进行处理的方法，所述基板处理方法包括：基板保持工序，对基板进行保持；药液供给工序，向基板的至少前述表面供给前述药液；低导电性液体供给工序，在前述药液供给工序之前，为了对基板进行除电...

【问题】本发明提供一种防止吐出口中的液滴下落的处理液吐出配管、及包括所述处理液吐出配管的基板处理装置。【解决手段】处理液吐出配管41在内部具有供处理液流通的流路44，且将在流路44中流通的处理液自吐出口41A朝基板表面吐出。流路44包括...

本发明提供一种适于从通过OCT成像得到的数据求出定量性的信息的数据处理方法。本发明的图像处理方法具备：获取与所培养的胚胎的三维像对应的原图像数据的工序，其中原图像数据是对胚胎进行光学相干断层成像得到的(S102)；和基于原图像数据将三维...

本发明将通过OCT拍摄而获得的信息以特别是对于有效地辅助胚胎的评价作业有用的形态向用户提示。本发明的图像处理方法具备如下工序：获取原信号数据的工序(S102)，该原信号数据是对所培养的胚胎进行光学相干断层拍摄而求出的，表示来自包括胚胎的...

在形成有潜影图像的印刷物中，能够良好地读取潜影图像。作为印刷物的片剂(9)具有被印刷对象物、基底层(93)、和潜影图像层(92)。基底层(93)形成于所述被印刷对象物的表面，并含有具有吸收特定波长的不可见光的性质的锐钛型氧化钛(第一物质...

本发明提供一种图案形成装置，该装置通过以喷墨方式向布线基板(9)喷出阻焊剂的油墨的液滴，从而在布线基板(9)上形成阻焊膜(92a)的图案。以吸引的方式而保持布线基板(9)，由此，在通孔中产生吸引流。在产生吸引流的通孔即吸引孔(91a)的...

本发明提供能够改善图案倒塌及颗粒问题的衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法包括下述工序：表面改性工序，针对在表面具有氧化物的衬底的表面，实施将该表面的粗糙加以改善的改性；表面清洗工序，向上述衬底的经改性的上述表面供给处理液，通过该处...

本发明提供片剂检查方法以及片剂检查装置。片剂检查方法具备工序(a)～工序(c)。在工序(a)中，拍摄片剂，生成映现有片剂的第1主面以及侧面这两者的拍摄图像。在工序(b)中，在拍摄图像中确定出第1主面以及侧面分别占据的主面区域以及侧面区域...

本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。本发明的课题在于确实地防止矫正构件与检测部发生干扰，所述矫正构件对载置于平台的基板进行矫正，所述检测部一边在沿着平台的上表面的第一方向上移动一边对已矫正的基板的上表面的表面状态进行检测。包括退避...

本发明涉及一种液体处理装置及液体处理方法。在显影装置中，使由旋转夹头吸附保持的衬底以水平姿势旋转。从具有在一方向上连续延伸的一个喷出口的显影液喷嘴将显影液喷出到衬底上。此时，以如下方式固定显影液喷嘴的姿势，即，对通过衬底的旋转中心的衬底...

缩短从具有互不相同的照射方向的N(N为2以上自然数)个光源各自依次向对象物照射光的状态下获取每个光源的对象物的图像所需的时间。具备：移动部，使对象物沿第1方向移动；拍摄部，具有沿与第1方向正交的第2方向呈带状延伸的拍摄区域，拍摄对象物中...

片剂印刷方法包括：输送工序，输送片剂；第一拍摄工序，对片剂的一面进行拍摄；第二拍摄工序，对另一面进行拍摄；第一印刷工序，利用第一印刷部对另一面进行印刷处理；第二印刷工序，利用第二印刷部对一面进行印刷处理；印刷控制工序，基于由第一拍摄工序...

本发明提供一种抑制涂布不均的涂布装置及涂布方法。本发明的课题在于在通过涂布平台而一边使基板以上浮的状态移动一边对所述基板的上表面供给处理液来进行涂布的涂布装置中抑制涂布不均，所述涂布平台包含朝向上方具有气体的喷出口的多个开口部与具有所述...

本发明涉及一种衬底处理装置、载具搬送方法及载具缓冲装置。载具搬送机构(51)在2个开启机构(9、10)的载置台(13)与多个载具保管架(53)之间搬送载具(C)。多个载具保管架(53)及载具搬送机构(51)分别搭载在第1处理块(3)之上...

本发明提供一种能在短时间内将腔室内构造物调温到稳定温度的热处理方法及热处理装置。在先行批组的处理结束后，开始加温处理。在加温处理中，通过来自卤素灯的光照射，将基座等腔室内构造物保温于固定的保温温度。当在执行加温处理的过程中接收到意为移出...

本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置，在基板处理中，向被保持为水平状态的基板(9)的上表面(91)供给第一处理液，形成覆盖整个上表面(91)的第一处理液的液膜(81)。另外，对基板(9)进行加热，在上表面(91)上的第一处理液的液...