涂布装置及涂布方法制造方法及图纸

技术编号:25295266 阅读:53 留言:0更新日期:2020-08-18 22:10
本发明专利技术提供一种抑制涂布不均的涂布装置及涂布方法。本发明专利技术的课题在于在通过涂布平台而一边使基板以上浮的状态移动一边对所述基板的上表面供给处理液来进行涂布的涂布装置中抑制涂布不均,所述涂布平台包含朝向上方具有气体的喷出口的多个开口部与具有所述气体的抽吸口的多个开口部。涂布上浮区域、上游侧上浮区域及下游侧上浮区域均在水平面内沿与移动方向正交的列方向排列沿着移动方向排列多个开口部而成的开口行而使基板上浮,在涂布上浮区域、上游侧上浮区域及下游侧上浮区域中的至少一个中,针对每个开口行,构成开口行的多个开口部在列方向上分散配置。

【技术实现步骤摘要】
涂布装置及涂布方法
本专利技术是涉及一种一面使通过涂布平台而上浮的基板移动,一面对所述基板的上表面供给处理液来进行涂布的涂布装置及涂布方法。再者,所述基板包括液晶显示装置或有机电致发光(Electroluminescence,EL)显示装置等的平板显示屏(FlatDisplayPanel,FDP)用玻璃基板、半导体晶片(wafer)、光掩模(photomask)用玻璃基板、彩色滤光片(colorfilter)用基板、记录磁盘用基板、太阳电池用基板、电子纸用基板等精密电子装置用基板、半导体封装用基板。
技术介绍
在半导体装置或液晶显示装置等的电子零件等的制造工序中,使用对基板的上表面供给处理液来进行涂布的涂布装置。例如,专利文献1中所记载的涂布装置是在使基板自平台上浮的状态下一边使所述基板沿平台的长边方向移动,一边自喷嘴的喷出口对所述基板的上表面供给处理液而对基板的大致整体涂布处理液。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利特开2018-43200号公报
技术实现思路
[专利技术所要解决的问题本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种涂布装置,其特征在于,包括:/n涂布平台,包含具有朝向上方喷出气体的喷出口的多个开口部与具有抽吸气体的抽吸口的多个开口部,使基板上浮至所述多个开口部的上方;/n基板移动部,使在所述涂布平台上上浮的所述基板沿移动方向移动;以及/n喷嘴,对通过所述基板移动部而沿所述移动方向移动的所述基板的上表面供给处理液来进行涂布;并且/n所述涂布平台具有位于所述喷嘴的下方的涂布上浮区域、在所述移动方向上位于所述涂布上浮区域的上游侧的上游侧上浮区域及在所述移动方向上位于所述涂布上浮区域的下游侧的下游侧上浮区域,/n所述涂布上浮区域、所述上游侧上浮区域及所述下游侧上浮区域均在水平面内沿与所述移动方向正交的列...

【技术特征摘要】
20190208 JP 2019-0213501.一种涂布装置,其特征在于,包括:
涂布平台,包含具有朝向上方喷出气体的喷出口的多个开口部与具有抽吸气体的抽吸口的多个开口部,使基板上浮至所述多个开口部的上方;
基板移动部,使在所述涂布平台上上浮的所述基板沿移动方向移动;以及
喷嘴,对通过所述基板移动部而沿所述移动方向移动的所述基板的上表面供给处理液来进行涂布;并且
所述涂布平台具有位于所述喷嘴的下方的涂布上浮区域、在所述移动方向上位于所述涂布上浮区域的上游侧的上游侧上浮区域及在所述移动方向上位于所述涂布上浮区域的下游侧的下游侧上浮区域,
所述涂布上浮区域、所述上游侧上浮区域及所述下游侧上浮区域均在水平面内沿与所述移动方向正交的列方向排列沿着所述移动方向排列多个开口部而成的开口行而使所述基板上浮,
在所述涂布上浮区域、所述上游侧上浮区域及所述下游侧上浮区域中的至少一个中,针对每个所述开口行,构成所述开口行的多个开口部在所述列方向上分散配置。


2.根据权利要求1所述的涂布装置,其中,
在所述上游侧上浮区域及所述下游侧上浮区域中的至少一个中,针对每个所述开口行,构成所述开口行的多个开口部在所述列方向上分开配置于相互不同的多个列位置。


3.根据权利要求2所述的涂布装置,其中,
分开配置于所述多个列位置的所述开口行相对于所述移动方向倾斜配置。


4.根...

【专利技术属性】
技术研发人员:富藤幸雄大宅宗明塩田明仁铃木启悟
申请(专利权)人:株式会社斯库林集团
类型:发明
国别省市:日本;JP

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