涂布装置及涂布方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种抑制涂布不均的涂布装置及涂布方法。本发明专利技术的课题在于在通过涂布平台而一边使基板以上浮的状态移动一边对所述基板的上表面供给处理液来进行涂布的涂布装置中抑制涂布不均，所述涂布平台包含朝向上方具有气体的喷出口的多个开口部与具有所述气体的抽吸口的多个开口部。涂布上浮区域、上游侧上浮区域及下游侧上浮区域均在水平面内沿与移动方向正交的列方向排列沿着移动方向排列多个开口部而成的开口行而使基板上浮，在涂布上浮区域、上游侧上浮区域及下游侧上浮区域中的至少一个中，针对每个开口行，构成开口行的多个开口部在列方向上分散配置。

【技术实现步骤摘要】
涂布装置及涂布方法
本专利技术是涉及一种一面使通过涂布平台而上浮的基板移动，一面对所述基板的上表面供给处理液来进行涂布的涂布装置及涂布方法。再者，所述基板包括液晶显示装置或有机电致发光(Electroluminescence，EL)显示装置等的平板显示屏(FlatDisplayPanel，FDP)用玻璃基板、半导体晶片(wafer)、光掩模(photomask)用玻璃基板、彩色滤光片(colorfilter)用基板、记录磁盘用基板、太阳电池用基板、电子纸用基板等精密电子装置用基板、半导体封装用基板。
技术介绍
在半导体装置或液晶显示装置等的电子零件等的制造工序中，使用对基板的上表面供给处理液来进行涂布的涂布装置。例如，专利文献1中所记载的涂布装置是在使基板自平台上浮的状态下一边使所述基板沿平台的长边方向移动，一边自喷嘴的喷出口对所述基板的上表面供给处理液而对基板的大致整体涂布处理液。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利特开2018-43200号公报
技术实现思路
[专利技术所要解决的问题]为了使基板自平台上浮，在平台上设置多个具有喷出气体的喷出口的开口部，自各喷出口向上方喷出高压气体，通过所述气体压力而使基板以水平姿势浮起。而且，配置于平台的宽度方向的两侧的基板移动部对在平台上浮起的基板进行保持并使基板沿平台的长边方向移动。在平台中的位于喷嘴的下方的区域中，为了高精度地规定喷嘴的喷出口与基板的上表面的间隔所谓的涂布间隙，在所述区域也设置多个具有混合存在于所述喷出口而吸入气体的抽吸口的开口部。更详细而言，多个开口部在平台的上表面呈矩阵状有规律地设置。由此，在喷嘴的下方，基板以近接于平台的上表面的状态例如几十微米程度的间隙稳定地上浮。如此，在喷嘴的下方，基板与平台的上表面近接。因此，基板自平台受到热转印而容易产生温度变化。而且，开口部呈将平台的长边方向(基板的移动方向)设为行、将基板的宽度方向设为列的二维矩阵状配置于平台的整个上表面。因此，关于在平台的上表面沿长边方向移动的基板，在连续通过开口部的上方的条纹状的部位中，因喷出口或抽吸口的存在而成为相对较低的温度，另一方面，在除此以外的部位中，自平台强烈受到热转印而成为相对较高的温度。如此，自平台对基板的热影响在基板的宽度方向上偏移，从而产生温度不均。其结果，有时产生沿与基板的移动方向平行的方向延伸的涂布不均。本专利技术是鉴于所述课题而完成的，其目的在于在通过涂布平台而在使基板上浮的状态下一边使所述基板移动一边对所述基板的上表面供给处理液来进行涂布的涂布装置及涂布方法中抑制涂布不均的产生，所述涂布平台包含具有朝向上方喷出气体的喷出口的多个开口部与具有抽吸气体的抽吸口的多个开口部。[解决问题的技术手段]本专利技术的一实施方式为一种涂布装置，包括：涂布平台，包含具有朝向上方喷出气体的喷出口的多个开口部与具有抽吸气体的抽吸口的多个开口部，使基板上浮至多个开口部的上方；基板移动部，使在涂布平台上上浮的基板沿移动方向移动；以及喷嘴，对通过基板移动部而沿移动方向移动的基板的上表面供给处理液来进行涂布；并且涂布平台具有位于喷嘴的下方的涂布上浮区域、在移动方向上位于涂布上浮区域的上游侧的上游侧上浮区域及在移动方向上位于涂布上浮区域的下游侧的下游侧上浮区域，涂布上浮区域、上游侧上浮区域及下游侧上浮区域均在水平面内沿与移动方向正交的列方向排列沿着移动方向排列多个开口部而成的开口行而使基板上浮，在涂布上浮区域、上游侧上浮区域及下游侧上浮区域中的至少一个中，针对每个开口行，构成开口行的多个开口部在列方向上分散配置。另外，本专利技术的另一实施方式为一种涂布方法，包括：第一工序，一边通过上浮平台而使基板上浮至多个开口部的上方，一边使所述基板沿移动方向移动，所述上浮平台包含具有朝向上方喷出气体的喷出口的多个开口部与具有抽吸气体的抽吸口的多个开口部；以及第二工序，自喷嘴对沿移动方向移动的基板的上表面供给处理液来进行涂布；并且在第一工序中，通过上浮平台而使基板上浮，所述上浮平台中，在位于喷嘴的下方的涂布上浮区域、在移动方向上位于涂布上浮区域的上游侧的上游侧上浮区域及在移动方向上位于涂布上浮区域的下游侧的下游侧上浮区域的所有区域中，在水平面内沿与移动方向正交的列方向排列沿着移动方向排列多个开口部而成的开口行，而且在涂布上浮区域、上游侧上浮区域及下游侧上浮区域中的至少一个中，针对每个开口行，在列方向上分散配置构成开口行的多个开口部。在以所述方式构成的专利技术中，在涂布上浮区域、上游侧上浮区域及下游侧上浮区域中的至少一个中，针对每个开口行，构成开口行的多个开口部在列方向上分散配置。因此，上浮平台的上表面中的未设置开口部的区域(以下称为“非开口区域”)与基板近接而自所述非开口区域热转印至基板的机会也分散，列方向(基板的宽度方向)上的热影响的偏移变少。[专利技术的效果]如上所述，在涂布上浮区域、上游侧上浮区域及下游侧上浮区域中的至少一个中，针对每个开口行，构成开口行的多个开口部在列方向上分散配置，因此可抑制温度不均，从而抑制涂布不均的产生。附图说明图1是示意性表示本专利技术的涂布装置的第一实施方式的整体构成的图。图2是自铅垂上方观察基板处理装置的平面图。图3是自图2卸下涂布机构的平面图。图4的(a)栏～(b)栏是示意性表示涂布平台上的开口部的配置结构的图。图5的(a)栏～(b)栏是表示与开口部的配置结构对应的涂布特性的变化的图表。图6是示意性表示本专利技术的涂布装置的第二实施方式的涂布平台上的开口部的配置结构的图。图7是示意性表示本专利技术的涂布装置的第三实施方式的涂布平台上的开口部的配置结构的图。图8是示意性表示本专利技术的涂布装置的第四实施方式的涂布平台上的开口部的配置结构的图。图9是示意性表示本专利技术的涂布装置的第五实施方式的涂布平台上的开口部的配置结构的图。图10是示意性表示本专利技术的涂布装置的第六实施方式的涂布平台上的开口部的配置结构的图。图11是示意性表示本专利技术的涂布装置的第七实施方式的涂布平台上的开口部的配置结构的图。[符号说明]1：涂布装置2：输入移载部3：上浮平台部4：输出移载部5：基板移动部7：涂布机构9：控制单元21、41、101、111：辊子输送机22、42：旋转/升降驱动机构31、入口上浮平台32：涂布平台32A：上游侧上浮区域32B：涂布上浮区域32C：下游侧上浮区域33：出口上浮平台34：顶销驱动机构35：上浮控制机构51：吸盘机构52：吸附/行进控制机构71：喷嘴75：维护单元73：定位机构100：输入输送机102、112：旋转驱动机构110：输出输送机320、321、322：开口部323：开口行513：吸本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种涂布装置，其特征在于，包括：/n涂布平台，包含具有朝向上方喷出气体的喷出口的多个开口部与具有抽吸气体的抽吸口的多个开口部，使基板上浮至所述多个开口部的上方；/n基板移动部，使在所述涂布平台上上浮的所述基板沿移动方向移动；以及/n喷嘴，对通过所述基板移动部而沿所述移动方向移动的所述基板的上表面供给处理液来进行涂布；并且/n所述涂布平台具有位于所述喷嘴的下方的涂布上浮区域、在所述移动方向上位于所述涂布上浮区域的上游侧的上游侧上浮区域及在所述移动方向上位于所述涂布上浮区域的下游侧的下游侧上浮区域，/n所述涂布上浮区域、所述上游侧上浮区域及所述下游侧上浮区域均在水平面内沿与所述移动方向正交的列方向排列沿着所述移动方向排列多个开口部而成的开口行而使所述基板上浮，/n在所述涂布上浮区域、所述上游侧上浮区域及所述下游侧上浮区域中的至少一个中，针对每个所述开口行，构成所述开口行的多个开口部在所述列方向上分散配置。/n

【技术特征摘要】
20190208 JP 2019-0213501.一种涂布装置，其特征在于，包括：
涂布平台，包含具有朝向上方喷出气体的喷出口的多个开口部与具有抽吸气体的抽吸口的多个开口部，使基板上浮至所述多个开口部的上方；
基板移动部，使在所述涂布平台上上浮的所述基板沿移动方向移动；以及
喷嘴，对通过所述基板移动部而沿所述移动方向移动的所述基板的上表面供给处理液来进行涂布；并且
所述涂布平台具有位于所述喷嘴的下方的涂布上浮区域、在所述移动方向上位于所述涂布上浮区域的上游侧的上游侧上浮区域及在所述移动方向上位于所述涂布上浮区域的下游侧的下游侧上浮区域，
所述涂布上浮区域、所述上游侧上浮区域及所述下游侧上浮区域均在水平面内沿与所述移动方向正交的列方向排列沿着所述移动方向排列多个开口部而成的开口行而使所述基板上浮，
在所述涂布上浮区域、所述上游侧上浮区域及所述下游侧上浮区域中的至少一个中，针对每个所述开口行，构成所述开口行的多个开口部在所述列方向上分散配置。


2.根据权利要求1所述的涂布装置，其中，
在所述上游侧上浮区域及所述下游侧上浮区域中的至少一个中，针对每个所述开口行，构成所述开口行的多个开口部在所述列方向上分开配置于相互不同的多个列位置。


3.根据权利要求2所述的涂布装置，其中，
分开配置于所述多个列位置的所述开口行相对于所述移动方向倾斜配置。


4.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：富藤幸雄，大宅宗明，塩田明仁，铃木启悟，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本;JP