衬底处理装置及衬底搬送方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种衬底处理装置及衬底搬送方法。本发明专利技术的衬底处理装置依序配置着ID块(2)、涂布块(3)、显影块(4)及IF块(6)。在ID块(2)上设有载置台(13)，在IF块(6)上设有载置台(47)。以往，仅在ID块上设有载具载置台。因此，在去路及返路这两个路径中，在ID块与IF块之间搬送衬底。根据本发明专利技术，在返路中，将衬底(W)从IF块(6)搬送到显影块(4)之后，不搬送到涂布块(3)，而将衬底(W)从显影块(4)移回到IF块(6)。因此，由于在返路中，削减了利用涂布块(3)进行的搬送工序，结果，能够提高衬底处理装置(1)整体的处理量。

【技术实现步骤摘要】
衬底处理装置及衬底搬送方法
本专利技术涉及一种对衬底进行处理的衬底处理装置及该衬底的搬送方法。衬底例如可以列举半导体衬底、FPD(FlatPanelDisplay，平板显示器)用衬底、光掩模用衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、陶瓷衬底及太阳电池用衬底等。FPD例如可以列举液晶显示装置、有机EL(electroluminescence，电致发光)显示装置等。
技术介绍
以往的衬底处理装置依序具备装载块(以下适当称为“ID块”)、涂布块、显影块、接口块(以下适当称为“IF块”)(例如参照日本专利特开2010-219434号公报)。在ID块上设有载具载置台。ID块从载置在载具载置台上的载具取出衬底，并将所取出的衬底搬送到涂布块。涂布块进行例如抗蚀剂等的涂布处理。显影块对进行了曝光处理的衬底进行显影处理。IF块对曝光装置进行衬底的搬出及搬入。另外，衬底处理装置具备存放装置(载具缓冲装置)(例如参照日本专利特开2011-187796号公报)。存放装置具备用于保管载具的保管架及载具搬送机构。
技术实现思路
[专利技术要解决的问题]然而，所述衬底处理装置存在如下问题。衬底处理装置按照ID块、涂布块、显影块、IF块的顺序(去路)搬送衬底。此时，涂布块对衬底进行涂布处理，但显影块不对衬底进行显影处理。另外，衬底处理装置按照IF块、显影块、涂布块、ID块的顺序(返路)搬送经曝光处理的衬底。此时，涂布块不对衬底进行涂布处理，但显影块对衬底进行显影处理。这种在ID块与IF块之间往复进行的衬底搬送伴有不进行处理而单纯地使衬底通过块的过程。因此，有使去路与返路各自的处理量降低的担忧。本专利技术是鉴于这种情况完成的，目的在于提供一种能够提高处理量的衬底处理装置及衬底搬送方法。[解决问题的技术手段]本专利技术为了达成这种目的，采用如下构成。即，本专利技术的对衬底进行处理的衬底处理装置包含以下要素：多个处理块，配置成一列，且具有至少1个一端侧的处理块及至少1个另一端侧的处理块；装载块，与所述多个处理块中的一端的处理块连结，且设有用于载置能够收纳多个衬底的载具的第1载具载置台；及接口块，与所述多个处理块中的另一端的处理块连结，针对外部装置进行衬底的搬入及搬出，且设有用于载置所述载具的第2载具载置台；所述装载块从载置在所述第1载具载置台上的所述载具取出衬底，并将所取出的衬底输送到所述一端侧的处理块，所述一端侧的处理块对输送来的衬底进行预先设定的处理，所述另一端侧的处理块将由所述一端侧的处理块处理后的衬底输送到所述接口块，所述接口块将由所述一端侧的处理块处理后的衬底搬出到所述外部装置，所述接口块从所述外部装置搬入衬底，且将由所述外部装置处理后的衬底输送到所述另一端侧的处理块，所述另一端侧的处理块对从所述接口块输送来的衬底进行预先设定的处理，所述接口块将由所述另一端侧的处理块处理后的衬底移回到载置在所述第2载具载置台上的所述载具。根据本专利技术的衬底处理装置，在装载块上设有第1载具载置台，在接口块上设有第2载具载置台。以往，仅在装载块上设有载具载置台。因此，在去路及返路这两个路径中，在装载块与接口块之间搬送衬底。根据本专利技术，在返路中，在将衬底从接口块搬送到另一端侧的处理块之后，不将衬底搬送到一端侧的处理块，而将衬底从另一端侧的处理块移回到接口块。因此，由于在返路中，削减了利用一端侧处理块进行的搬送工序，结果，能够提高衬底处理装置整体的处理量。另外，在所述衬底处理装置中，优选所述多个处理块具备进行第1处理的第1处理块及进行第2处理的第2处理块，所述装载块与所述第1处理块连结，所述接口块与所述第2处理块连结，所述第2处理块与所述第1处理块连结，所述装载块从载置在所述第1载具载置台上的所述载具取出衬底，并将所取出的衬底输送到所述第1处理块，所述第1处理块对输送来的衬底进行所述第1处理，且将进行了所述第1处理的衬底输送到所述第2处理块，所述第2处理块将进行了所述第1处理的衬底输送到所述接口块，所述接口块将进行了所述第1处理的衬底搬出到所述外部装置，所述接口块从所述外部装置搬入衬底，且将由所述外部装置进行了第3处理的衬底输送到所述第2处理块，所述第2处理块对从所述接口输送来的衬底进行所述第2处理，且将进行了所述第2处理的衬底输送到所述接口块，所述接口块将由所述第2处理块处理后的衬底移回到载置在所述第2载具载置台上的所述载具。根据本专利技术，在返路中，在将衬底从接口块搬送到第2处理块之后，不将衬底搬送到第1处理块，而将衬底从第2处理块移回到接口块。因此，由于在返路中，削减了利用第1处理块进行的搬送工序，结果，能够提高衬底处理装置整体的处理量。另外，本专利技术的对衬底进行处理的衬底处理装置包含以下要素：多个处理块，配置成一列，且具有至少1个一端侧的处理块及至少1个另一端侧的处理块；装载块，与所述多个处理块中的一端的处理块连结，且设有用于载置能够收纳多个衬底的载具的第1载具载置台；及接口块，与所述多个处理块中的另一端的处理块连结，针对外部装置进行衬底的搬入及搬出，且设有用于载置所述载具的第2载具载置台；所述接口块从载置在所述第2载具载置台上的所述载具取出衬底，并将所取出的衬底输送到所述另一端侧的处理块，所述另一端侧的处理块对从所述接口块输送来的衬底进行预先设定的处理，所述接口块将由所述另一端侧的处理块处理后的衬底搬出到所述外部装置，所述接口块从所述外部装置搬入衬底，且将由所述外部装置处理后的衬底输送到所述另一端侧的处理块，所述另一端侧的处理块将由所述外部装置处理后的衬底输送到所述一端侧的处理块，所述一端侧的处理块对从所述另一端侧的处理块输送来的衬底进行预先设定的处理，所述装载块将由所述一端侧的处理块处理后的衬底移回到载置在所述第1载具载置台上的所述载具。根据本专利技术的衬底处理装置，在装载块上设有第1载具载置台，在接口块上设有第2载具载置台。以往，仅在装载块上设有载具载置台。因此，在去路及返路这两个路径中，在装载块与接口块之间搬送衬底。根据本专利技术，在将衬底从接口块搬送到另一端侧的处理块之后，不将衬底搬送到一端侧的处理块，而将衬底从另一端侧的处理块移回到接口块。因此，由于削减了利用一端侧的处理块进行的搬送工序，结果，能够提高衬底处理装置整体的处理量。另外，在所述衬底处理装置中，优选所述多个处理块具备进行第1处理的第1处理块及进行第2处理的第2处理块，所述装载块与所述第1处理块连结，所述接口块与所述第2处理块连结，所述第2处理块与所述第1处理块连结，所述接口块从载置在所述第2载具载置台上的所述载具取出衬底，并将所取出的衬底输送到所述第2处理块，所述第2处理块对从所述接口块输送来的衬底进行所述第2处理，所述接口块将进行了所述第2处理的衬底搬出到所述外部装置，所述接口块从所述外部装置搬入衬底，且将由所述外部装置进行了第3处理的衬底输送到所述第2处理块，所述第2处理块将进行了所述第3处理的衬底输送到所述第1处理块，所述第1处理块对从所述第2处理块输送来的衬底进行所述第1处理，所述装载块将进行了所述第1处理的衬底移回到载置在所述第1载具载置台本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种衬底处理装置，对衬底进行处理，且包含以下要素：/n多个处理块，配置成一列，且具有至少1个一端侧的处理块及至少1个另一端侧的处理块；/n装载块，与所述多个处理块中的一端的处理块连结，且设有用于载置能够收纳多个衬底的载具的第1载具载置台；及/n接口块，与所述多个处理块中的另一端的处理块连结，针对外部装置进行衬底的搬入及搬出，且设有用于载置所述载具的第2载具载置台；/n所述装载块从载置在所述第1载具载置台上的所述载具取出衬底，并将所取出的衬底输送到所述一端侧的处理块，/n所述一端侧的处理块对输送来的衬底进行预先设定的处理，/n所述另一端侧的处理块将由所述一端侧的处理块处理后的衬底输送到所述接口块，/n所述接口块将由所述一端侧的处理块处理后的衬底搬出到所述外部装置，/n所述接口块从所述外部装置搬入衬底，且将由所述外部装置处理后的衬底输送到所述另一端侧的处理块，/n所述另一端侧的处理块对从所述接口块输送来的衬底进行预先设定的处理，/n所述接口块将由所述另一端侧的处理块处理后的衬底移回到载置在所述第2载具载置台上的所述载具。/n

【技术特征摘要】
20181228 JP 2018-2487351.一种衬底处理装置，对衬底进行处理，且包含以下要素：
多个处理块，配置成一列，且具有至少1个一端侧的处理块及至少1个另一端侧的处理块；
装载块，与所述多个处理块中的一端的处理块连结，且设有用于载置能够收纳多个衬底的载具的第1载具载置台；及
接口块，与所述多个处理块中的另一端的处理块连结，针对外部装置进行衬底的搬入及搬出，且设有用于载置所述载具的第2载具载置台；
所述装载块从载置在所述第1载具载置台上的所述载具取出衬底，并将所取出的衬底输送到所述一端侧的处理块，
所述一端侧的处理块对输送来的衬底进行预先设定的处理，
所述另一端侧的处理块将由所述一端侧的处理块处理后的衬底输送到所述接口块，
所述接口块将由所述一端侧的处理块处理后的衬底搬出到所述外部装置，
所述接口块从所述外部装置搬入衬底，且将由所述外部装置处理后的衬底输送到所述另一端侧的处理块，
所述另一端侧的处理块对从所述接口块输送来的衬底进行预先设定的处理，
所述接口块将由所述另一端侧的处理块处理后的衬底移回到载置在所述第2载具载置台上的所述载具。


2.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中
所述多个处理块具备进行第1处理的第1处理块及进行第2处理的第2处理块，
所述装载块与所述第1处理块连结，
所述接口块与所述第2处理块连结，
所述第2处理块与所述第1处理块连结，
所述装载块从载置在所述第1载具载置台上的所述载具取出衬底，并将所取出的衬底输送到所述第1处理块，
所述第1处理块对输送来的衬底进行所述第1处理，且将进行了所述第1处理的衬底输送到所述第2处理块，
所述第2处理块将进行了所述第1处理的衬底输送到所述接口块，
所述接口块将进行了所述第1处理的衬底搬出到所述外部装置，
所述接口块从所述外部装置搬入衬底，且将由所述外部装置进行了第3处理的衬底输送到所述第2处理块，
所述第2处理块对从所述接口输送来的衬底进行所述第2处理，且将进行了所述第2处理的衬底输送到所述接口块，
所述接口块将由所述第2处理块处理后的衬底移回到载置在所述第2载具载置台上的所述载具。


3.根据权利要求1或2所述的衬底处理装置，其还具备载具搬送机构，
该载具搬送机构在所述第1载具载置台与所述第2载具载置台之间搬送所述载具。


4.根据权利要求3所述的衬底处理装置，其中
所述载具搬送机构搭载在所述第1处理块及所述第2处理块之上。


5.根据权利要求3所述的衬底处理装置，其还具备载具保管架，
该载具保管架搭载在所述第1处理块及所述第2处理块中的至少一个之上，
所述载具搬送机构在所述第1载具载置台、所述第2载具载置台及所述载具保管架之间搬送所述载具。


6.一种衬底处理装置，对衬底进行处理，且包含以下要素：
多个处理块，配置成一列，且具有至少1个一端侧的处理块及至少1个另一端侧的处理块；
装载块，与所述多个处理块中的一端的处理块连结，且设有用于载置能够收纳多个衬底的载具的第1载具载置台；及
接口块，与所述多个处理块中的另一端的处理块连结，针对外部装置进行衬底的搬入及搬出，且设有用于载置所述载具的第2载具载置台；
所述接口块从载置在所述第2载具载置台上的所述载具取出衬底，并将所取出的衬底输送到所述另一端侧的处理块，
所述另一端侧的处理块对从所述接口块输送来的衬底进行预先设定的处理，
所述接口块将由所述另一端侧的处理块处理后的衬底搬出到所述外部装置，
所述接口块从所述外部装置搬入衬底，且将由所述外部装置处理后的衬底输送到所述另一端侧的处理块，
所述另一端侧的处理块将由所述外部装置处理后的衬底输送到所述一端侧的处理块，
所述一端侧的处理块对从所述另一端侧的处理块输送来的衬底进行预先设定的处理，
所述装载块将由所述一端侧的处理块处理后的衬底移回到载置在所述第1载具载置台上的所述载具。


7.根据权利要求6所述的衬底处理装置，其中
所述多个处理块具备进行第1处理的第1处理块及进行第2处理的第2处理块，所述装载块与所述第1处理块连结，
所述接口块与所述第2处理块连结，
所述第2处理块与所述第1处理块连结，
所述接口块从载置在所述第2载具载置台上的所述载具取出衬底，并将所取出的衬底输送到所述第2处理块，<...

【专利技术属性】
技术研发人员：桑原丈二，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本;JP