狭缝喷嘴及基板处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种狭缝喷嘴及基板处理装置，能够在狭缝喷嘴的吐出口的两端部扩大开口尺寸的可调整范围而提高膜厚的均匀性。狭缝喷嘴包括：第一本体部，沿吐出口的长度方向延伸设置；第二本体部，以与第一本体部相向的方式配置而形成吐出口；中央调整机构，在长度方向上的第二本体部的中央区域使第二本体部的前端部相对于第一本体部位移而调整在吐出口的中央区域的开口尺寸；以及两端调整机构，在长度方向上的第二本体部的两端区域使第二本体部的前端部相对于第一本体部位移而调整在吐出口的两端区域的开口尺寸；并且通过两端调整机构而使第二本体部的前端部位移的位移能力高于通过中央调整机构而使第二本体部的前端部位移的位移能力。

Slit nozzle and base plate treatment device

【技术实现步骤摘要】
狭缝喷嘴及基板处理装置
本技术涉及一种在前端部具有狭缝状的吐出口的狭缝喷嘴以及使用所述狭缝喷嘴对基板供给处理液的基板处理装置。再者，在所述基板中，包含半导体基板、光掩模用基板、液晶显示用基板、有机电致发光(Electroluminescence，EL)显示用基板、等离子体显示用基板、场发射显示器(FieldEmissionDisplay，FED)用基板、光碟用基板、磁碟用基板、磁光碟用基板等。
技术介绍
在半导体装置或液晶显示装置等的电子零件等的制造工序中，是使用对基板的表面供给处理液，将所述处理液涂布于基板上的基板处理装置。基板处理装置是一边在使基板悬浮的状态下运送所述基板，一边将处理液供给至狭缝喷嘴并从狭缝喷嘴的吐出口吐出至基板的表面而在大致整个基板上涂布处理液。并且，其他基板处理装置一边在平台上吸附保持着基板，一边在从狭缝喷嘴的吐出口向基板的表面已吐出从泵供给而来的处理液的状态下，相对于基板相对移动而在大致整个基板上涂布处理液。近年来伴随着产品的高质量化，提高通过基板处理装置而涂布的处理液的膜厚的均匀性变得重要。因此，在专利文献1所述的装置中，是设置对狭缝喷嘴的吐出口的开口尺寸(狭缝喷嘴的相对移动方向上的吐出口的开口宽度)进行调整的调整元件，遍及狭缝喷嘴的整个长度方向而调整吐出口的开口尺寸。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利第4522726号
技术实现思路
[技术所要解决的问题]然而，在涂布膜厚厚的情况或处理液的粘度低的情况下，由涂布后的运送所引起的液体流动的影响大，特别是在吐出口的长度方向上的端部，容易强烈受到所述影响。并且，关于因处理液的弹起所引起的溅液，也容易产生于长度方向上的端部。因此，当将长度方向上的吐出口的开口尺寸设定为相同时，在长度方向上涂布膜的膜厚在中央区域及两端区域内不同，膜厚会变得不均匀。为了应对此现象，有效的应对措施之一是扩大长度方向之中在吐出口的两端部的开口尺寸的可调整范围。但是，专利文献1所述的装置的主要目的是在整个长度方向上使吐出口的开口尺寸均匀化，从而难以采用所述应对措施。本技术是鉴于所述问题而完成的，其目的在于提供一种能够在吐出口的两端部扩大开口尺寸的可调整范围而提高膜厚的均匀性的狭缝喷嘴、以及能够利用所述狭缝喷嘴将良好的处理液的膜形成于基板上的基板处理装置。[解决问题的技术手段]本技术的一实施例是一种狭缝喷嘴，其在前端部具有狭缝状的吐出口，狭缝喷嘴包括：第一本体部，沿吐出口的长度方向延伸设置；第二本体部，以与第一本体部相向的方式配置而形成吐出口；中央调整机构，在长度方向上的第二本体部的中央区域使第二本体部的前端部相对于第一本体部位移而调整在吐出口的中央区域的开口尺寸；以及两端调整机构，在长度方向上的第二本体部的两端区域使第二本体部的前端部相对于第一本体部位移而调整在吐出口的两端区域的开口尺寸；并且通过两端调整机构而使第二本体部的前端部位移的位移能力高于通过中央调整机构而使第二本体部的前端部位移的位移能力。在本技术的一实施例的狭缝喷嘴中，中央调整机构及两端调整机构均是设置成能够通过相对于第二本体部的调整螺钉的旋入量来调整第二本体部的前端部的位移量，在吐出口的开口尺寸方向上，将第二本体部的两端区域精加工成薄于第二本体部的中央区域。在本技术的一实施例的狭缝喷嘴中，中央调整机构及两端调整机构均是设置成能够通过相对于第二本体部的调整螺钉的旋入量来调整第二本体部的前端部的位移量，在第二本体部上，在两端区域与中央区域的边界上设置有切口。在本技术的一实施例的狭缝喷嘴中，中央调整机构及两端调整机构均是设置成能够通过相对于第二本体部的调整螺钉的旋入量来调整第二本体部的前端部的位移量，第二本体部包括：中央相向构件，以与长度方向上的第一本体部的中央区域相向的方式而配置；第一端部相向构件，在长度方向上的一侧，以一边与中央相向构件邻接，一边与第一本体部的第一端部区域相向的方式而配置；以及第二端部相向构件，在长度方向上的另一侧，以一边与中央相向构件邻接，一边与第一本体部的第二端部区域相向的方式而配置；并且第一端部相向构件、中央相向构件及第二端部相向构件是相互分离而配置。在本技术的一实施例的狭缝喷嘴中，中央调整机构及两端调整机构均包括沿从第二本体部的前端部向后端部的高度方向排列而将第二本体部与第一本体部加以紧固的多个螺钉，多个螺钉之中至少位于前端部侧的螺钉或位于后端部侧的螺钉作为调整螺钉而发挥功能。并且，本技术的另一实施例是一种基板处理装置，其中包括：狭缝喷嘴，在前端部具有狭缝状的吐出口；移动机构，一边使基板的表面与吐出口相向，一边使基板在与吐出口的长度方向正交的方向上相对移动；以及处理液供给机构，对狭缝喷嘴供给处理液而使处理液从吐出口向基板的表面吐出；并且狭缝喷嘴包括：第一本体部，沿长度方向延伸设置；第二本体部，以与第一本体部相向的方式配置而形成吐出口；中央调整机构，在长度方向上的第二本体部的中央区域使第二本体部的前端部相对于第一本体部位移而调整在吐出口的中央区域的开口尺寸；以及两端调整机构，在长度方向上的第二本体部的两端区域使第二本体部的前端部相对于第一本体部位移而调整在吐出口的两端区域的开口尺寸；并且通过两端调整机构而使第二本体部的前端部位移的位移能力高于通过中央调整机构而使第二本体部的前端部位移的位移能力。在如上所述而构成的技术中，作为调整吐出口的开口尺寸的机构，设置有中央调整机构及两端调整机构，而且使第二本体部的前端部位移的位移能力在中央调整机构与两端调整机构之间不同。更具体而言，两端调整机构所具有的位移能力高于中央调整机构所具有的位移能力，长度方向之中在吐出口的两端部的开口尺寸的可调整范围大于吐出口的中央区域。因此，能够考虑到因液体流动的影响或处理液的弹起而引起的溅液等，将吐出口的两端部的开口尺寸调整成大于中央区域的范围。[技术的效果]如以上所述，根据本技术，通过两端调整机构而使第二本体部的前端部位移的位移能力高于通过中央调整机构而使第二本体部的前端部位移的位移能力，因此在吐出口的两端部，开口尺寸的可调整范围扩大，可以提高膜厚的均匀性。附图说明图1是示意性地表示本技术的基板处理装置的一实施方式即涂布装置的整体结构的图。图2是示意性地表示图1的涂布装置中所使用的狭缝喷嘴的第一实施方式的主要结构的分解组装图。图3是图2所示的狭缝喷嘴的正视图。图4是将第一本体部与第二本体部加以紧固的状态的狭缝喷嘴的XZ平面上的剖面图。图5是示意性地表示本技术的狭缝喷嘴的第二实施方式的主要结构的分解组装图。图6是图5所示的狭缝喷嘴的正视图。图7是示意性地表示本技术的狭缝喷嘴的第二实施方式的主要结构的分解组装图。图8是图7所示的狭缝喷嘴的正视图。[符号的说明]1：涂布装置(基板处理装置)2：输入移载部3：悬浮平台本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种狭缝喷嘴，其特征在于：在前端部具有狭缝状的吐出口，所述狭缝喷嘴包括：/n第一本体部，沿所述吐出口的长度方向延伸设置；/n第二本体部，以与所述第一本体部相向的方式配置而形成所述吐出口；/n中央调整机构，在所述长度方向上的所述第二本体部的中央区域使所述第二本体部的前端部相对于所述第一本体部位移而调整在所述吐出口的中央区域的开口尺寸；以及/n两端调整机构，在所述长度方向上的所述第二本体部的两端区域使所述第二本体部的前端部相对于所述第一本体部位移而调整在所述吐出口的两端区域的开口尺寸；并且/n通过所述两端调整机构而使所述第二本体部的前端部位移的位移能力高于通过所述中央调整机构而使所述第二本体部的前端部位移的位移能力。/n

【技术特征摘要】
20180921 JP 2018-1768161.一种狭缝喷嘴，其特征在于：在前端部具有狭缝状的吐出口，所述狭缝喷嘴包括：
第一本体部，沿所述吐出口的长度方向延伸设置；
第二本体部，以与所述第一本体部相向的方式配置而形成所述吐出口；
中央调整机构，在所述长度方向上的所述第二本体部的中央区域使所述第二本体部的前端部相对于所述第一本体部位移而调整在所述吐出口的中央区域的开口尺寸；以及
两端调整机构，在所述长度方向上的所述第二本体部的两端区域使所述第二本体部的前端部相对于所述第一本体部位移而调整在所述吐出口的两端区域的开口尺寸；并且
通过所述两端调整机构而使所述第二本体部的前端部位移的位移能力高于通过所述中央调整机构而使所述第二本体部的前端部位移的位移能力。


2.根据权利要求1所述的狭缝喷嘴，其特征在于，
所述中央调整机构及所述两端调整机构均是设置成能够通过相对于所述第二本体部的调整螺钉的旋入量来调整所述第二本体部的前端部的位移量，
在所述吐出口的开口尺寸方向上，将所述第二本体部的两端区域精加工成薄于所述第二本体部的中央区域。


3.根据权利要求1所述的狭缝喷嘴，其特征在于，
所述中央调整机构及所述两端调整机构均是设置成能够通过相对于所述第二本体部的调整螺钉的旋入量来调整所述第二本体部的前端部的位移量，
在所述第二本体部上，在所述两端区域与所述中央区域的边界上设置有切口。


4.根据权利要求1所述的狭缝喷嘴，其特征在于，
所述中央调整机构及所述两端调整机构均是设置成能够通过相对于所述第二本体部的调整螺钉的旋入量来调整所述第二本体部的前端部的位移量，
所述第二本体部包括：中央相向构件，以与所述长度方向上的所述第一本体...

【专利技术属性】
技术研发人员：安陪裕滋，高村幸宏，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：新型
国别省市：日本;JP