衬底处理系统及衬底搬送方法技术方案

本发明专利技术涉及一种衬底处理系统及衬底搬送方法。移载传送区块的衬底搬送机构能够对载置在载置台的载体取放衬底(W)。进而，衬底搬送机构在第1处理区块及第2处理区块的位于不同高度位置的例如2个处理层间搬送衬底(W)。因此，无须像现有技术那样在移载传送区块与处理区块之间设置用来使衬底在上下方向的2个处理层间移动的交接区块。因此能够抑制衬底处理系统的占据面积。的占据面积。的占据面积。

【技术实现步骤摘要】
衬底处理系统及衬底搬送方法


[0001]本专利技术涉及一种对衬底进行处理的衬底处理系统及该衬底处理系统的衬底搬送方法。衬底例如可列举半导体衬底、FPD(Flat Panel Display，平板显示器)用衬底、光罩用玻璃衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、陶瓷衬底、及太阳电池用衬底等。FPD例如可列举液晶显示装置、有机EL(electroluminescence，电致发光)显示装置等。

技术介绍

[0002]以往的衬底处理装置(衬底处理系统)具备移载传送区块(以下适当称为“ID(Indexer)区块”)、及处理区块(例如参照日本专利特开2016-201526号公报及日本专利特开平09-045613号公报)。
[0003]处理区块连结于ID区块。在处理区块与ID区块之间设置着用来相互交接衬底的衬底载置部。在ID区块设置着载置载体的载体载置台。载体收纳衬底。ID区块具备移载传送机构。移载传送机构从载置在载体载置台的载体取出衬底，将取出的衬底搬送到衬底载置部。另外，移载传送机构将已利用处理区块进行过处理的衬底从衬底载置部送回载体。
[0004]日本专利特开2016-201526号公报中，公开了具备配置在ID区块与处理区块之间的交接区块的衬底处理系统。交接区块具备在上下方向排列配置的多个衬底载置部(包含缓冲部)、及隔着多个衬底载置部配置的2个移换装置。2个移换装置排列配置在与ID区块及处理区块排列配置的方向(X方向)正交的方向(Y方向)上。2个移换机构通过各自在铅直方向移动，对上下方向排列配置的多个衬底载置部进行衬底的搬入搬出。
[0005]另外，日本专利特开平09-045613号公报中公开了一种衬底处理装置，该衬底处理装置中，涂布处理区块、匣盒台(相当于ID区块)及显影处理区块以该顺序在水平方向上呈直线状连结。匣盒台构成为能配置收容未处理的衬底及已处理的衬底的任一种的4个匣盒。另外，在涂布处理区块与匣盒台的边界部分，设置着衬底的对位用第1衬底载置部，并且在匣盒台与显影处理区块的边界部分设置着衬底的对位用第2衬底载置部。匣盒台的1个搬送机构经由这些衬底载置部向涂布处理区块及显影处理区块搬送衬底。此外，各区块并非在上下方向包含多个处理层而是由单一的处理层构成。

技术实现思路

[0006][专利技术要解决的问题][0007]然而，以往的装置具有以下问题。即，以往的装置如日本专利特开2016-201526号公报所记载，具备上下方向排列配置的2个处理层。移换装置为了在2个处理层间移动衬底，利用在上下方向排列配置的多个衬底载置部来移换衬底。这里，移换装置及多个衬底载置部设置在配置于ID区块与处理区块之间的交接区块。因此，交接区块使衬底处理系统的占据面积变大。
[0008]本专利技术是鉴于这种情况而完成，目的在于提供一种能够抑制占据面积的衬底处理系统及衬底搬送方法。
[0009][解决问题的技术手段][0010]本专利技术为了达成这种目的，采用如下构成。即，本专利技术的衬底处理系统具备：移载传送区块，设置着用来载置能收纳衬底的载体的载置台；第1处理装置，具有配置在上下方向的多个处理层；及第2处理装置，具有配置在上下方向的多个处理层。所述第1处理装置、所述移载传送区块及所述第2处理装置以该顺序在水平方向连结。所述移载传送区块能够对载置在所述载置台的载体取放衬底，在内部具有搬送衬底的第1移载传送机构、及载置多个衬底的衬底缓冲区。所述第1移载传送机构在所述第1处理装置及所述第2处理装置的位于不同高度位置的2个处理层间搬送衬底。
[0011]根据本专利技术的衬底处理系统，能够抑制衬底处理系统的占据面积。即，移载传送区块的第1移载传送机构能够对载置在载置台的载体取放衬底。进而，第1移载传送机构在第1处理装置及第2处理装置的位于不同高度位置的2个处理层间搬送衬底。因此，可以无须像现有技术那样在移载传送区块与处理区块之间设置用于在上下方向的2个处理层间移动衬底的交接区块。因此，能够抑制衬底处理系统的占据面积。
[0012]另外，所述衬底处理系统中，优选以如下方式构成。所述第1处理装置及所述第2处理装置各自的处理层具备搬送衬底的衬底搬送机构、及对衬底进行规定处理的处理单元。当所述第1处理装置及所述第2处理装置的位于相同高度位置的2个处理层间搬送衬底时，位于各处理层的衬底搬送机构经由所述衬底缓冲区交接衬底。另外，当所述第1处理装置及所述第2处理装置的位于不同高度位置的2个处理层间搬送衬底时，所述第1移载传送机构在位于与各处理层对应的高度位置的所述衬底缓冲区的2个缓冲部间搬送衬底。
[0013]在横穿移载传送区块，当在位于相同高度位置的2个处理层间搬送衬底时，能够不使用第1移载传送机构而是使用衬底缓冲区进行衬底的交接。另外，当在位于不同高度位置的2个处理层间搬送衬底时，能够使用第1移载传送机构及衬底缓冲区进行衬底的交接。此外，如果能够不使用第1移载传送机构搬送衬底，便能够减轻第1移载传送机构的负担。
[0014]另外，所述衬底处理系统中，优选以如下方式构成。所述第1处理装置及所述第2处理装置各自的处理层具备搬送衬底的衬底搬送机构、及对衬底进行规定处理的处理单元。当在所述第1处理装置及所述第2处理装置的位于不同高度位置的2个处理层间搬送衬底时，所述第1移载传送机构不经由所述衬底缓冲区而是在所述2个处理层的2个处理单元间直接搬送衬底。
[0015]由此，第1处理装置的处理层的衬底搬送机构能够省略从第1处理装置内的处理单元取出衬底，将取出的衬底搬送到衬底缓冲区的动作。另外，第2处理装置的处理层的衬底搬送机构能够省略从第2处理装置内的处理单元取出衬底，将取出的衬底搬送到衬底缓冲区的动作。因此，能够减轻2个处理层的衬底搬送机构的负担。
[0016]另外，所述衬底处理系统中，优选当在所述第1处理装置及所述第2处理装置的位于相同高度位置的2个处理层间搬送衬底时，位于各处理层的衬底搬送机构经由所述衬底缓冲区交接衬底。由此，当在横穿移载传送区块在位于相同高度位置的2个处理层间搬送衬底的时，能够不使用第1移载传送机构搬送衬底。因此，能够减轻第1移载传送机构的负荷。
[0017]另外，所述衬底处理系统中，优选所述第1移载传送机构不经由所述衬底缓冲区，而是从载置在所述载置台的载体向所述第1处理装置及所述第2处理装置的至少一个的处理层的处理单元直接搬送衬底。由此，处理层的衬底搬送机构能够省略从衬底缓冲区取出
衬底，将取出的衬底搬送到处理层的处理单元的动作。因此，能够减轻处理层的衬底搬送机构的负担。
[0018]另外，所述衬底处理系统中，优选所述第1移载传送机构从载置在所述载置台的载体同时取出多片衬底，不经由所述衬底缓冲区，而向所述第1处理装置及所述第2处理装置的至少一个的处理层的处理单元逐片地直接搬送衬底。第1移载传送机构从载体同时取出2片衬底。通过将这2片衬底逐片地搬送到处理单元，能够减少载体到处理单元的往返移动次数。因此，能够提升衬底的搬送效率。
[0019]另外，所述衬底处理系统中，优选所述第1移载传送本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种衬底处理系统，其特征在于，具备：移载传送区块，设置着用来载置能收纳衬底的载体的载置台；第1处理装置，具有配置在上下方向的多个处理层；及第2处理装置，具有配置在上下方向的多个处理层；所述第1处理装置、所述移载传送区块及所述第2处理装置以该顺序在水平方向上连结，所述移载传送区块能够对载置在所述载置台的载体取放衬底，在内部具有搬送衬底的第1移载传送机构、及载置多个衬底的衬底缓冲区，所述第1移载传送机构在所述第1处理装置及所述第2处理装置的位于不同高度位置的2个处理层间搬送衬底。2.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其特征在于，所述第1处理装置及所述第2处理装置各自的处理层具备搬送衬底的衬底搬送机构、及对衬底进行规定处理的处理单元，当在所述第1处理装置及所述第2处理装置的位于相同高度位置的2个处理层间搬送衬底时，位于各处理层的衬底搬送机构经由所述衬底缓冲区交接衬底，当在所述第1处理装置及所述第2处理装置的位于不同高度位置的2个处理层间搬送衬底时，所述第1移载传送机构在位于与各处理层对应的高度位置的所述衬底缓冲区的2个缓冲部间搬送衬底。3.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其特征在于，所述第1处理装置及所述第2处理装置各自的处理层具备搬送衬底的衬底搬送机构、及对衬底进行规定处理的处理单元，当在所述第1处理装置及所述第2处理装置的位于不同高度位置的2个处理层间搬送衬底时，所述第1移载传送机构不经由所述衬底缓冲区而是在所述2个处理层的2个处理单元间直接搬送衬底。4.根据权利要求3所述的衬底处理系统，其特征在于，当在所述第1处理装置及所述第2处理装置的位于相同高度位置的2个处理层间搬送衬底时，位于各处理层的衬底搬送机构经由所述衬底缓冲区交接衬底。5.根据权利要求1至4中任一项所述的衬底处理系统，其特征在于，所述第1移载传送机构不经由所述衬底缓冲区，而是从载置在所述载置台的载体向所述第1处理装置及所述第2处理装置的至少一个的处理层的处理单元直接搬送衬底。6.根据权利要求5所述的衬底处理系统，其特征在于，所述第1移载传送机构从载置在所述载置台的载体同时取出多片衬底，不经由所述衬...

【专利技术属性】
技术研发人员：桑原丈二，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：