本发明提供一种学习完成的模型生成方法、异常主要原因推定装置、基板处理装置、异常主要原因推定方法、学习方法、学习装置以及学习数据制作方法。学习完成的模型生成方法包括：获取学习数据的步骤；以及通过对学习数据进行机器学习从而生成学习完成的模型...

本发明涉及一种衬底处理方法及衬底处理装置。在使用等离子体去除抗蚀膜时，抑制对衬底造成的损伤并且不需要使用SPM。在等离子体处理(步骤S102)中，执行对抗蚀膜(R)的表面供给自由基(活性种)的自由基供给步序。然后，执行抗蚀剂去除步序，即...

本发明提供一种能够调节细胞悬液的滴加区域和滴加面积的技术。本发明的细胞保持容器(1)的测定面(8)包含：配置有多个工作电极(200)的工作区域(20)；比工作区域(20)更靠外侧的参比电极(500)；在工作区域(20)与参比电极(500...

本发明提供一种能缩短形成低表面张力液体的液膜所需的时间并良好地排除液膜的基板处理方法。该方法包括：基板保持工序，将基板保持为水平；处理液供给工序，向基板供给包含水的处理液；基板旋转工序，使基板旋转；液膜形成工序，使基板以第一旋转速度旋转...

本发明提供一种图案形成装置，该装置通过以喷墨方式向布线基板(9)喷出阻焊剂的油墨的液滴，从而在布线基板(9)上形成阻焊膜(92a)的图案。以吸引的方式而保持布线基板(9)，由此，在通孔中产生吸引流。在产生吸引流的通孔即吸引孔(91a)的...

本发明涉及一种衬底处理液、衬底处理方法及衬底处理装置。以优异的蚀刻速率对衬底实施蚀刻处理，该衬底中形成了沟槽构造的底壁及侧壁的至少一个是包含金属或该金属的化合物的被蚀刻层。本发明中，衬底处理液具备：药液，包含作为蚀刻所述金属的蚀刻剂发挥...

本发明提供一种能以简易的构成降低蚀刻不良的产生率的技术。本发明的基板处理方法具备基板保持工序、带电工序、及蚀刻液供给工序。在基板保持工序中，通过基板保持部保持基板。在带电工序中，使基板绕通过该基板的中央部的旋转轴线旋转，将纯水与添加气体...

本发明的课题在于提高蚀刻轮廓的自由度。本发明的衬底处理方法包括如下工序：使衬底旋转；使用中央喷嘴向旋转的衬底的中央部喷出第1处理液；以及使用边缘喷嘴向旋转的衬底的边缘部喷出第2处理液，俯视时该边缘部包围着中央部；边缘喷嘴从相对于衬底的主...

本发明涉及描画装置(1)，包括：供给部(51)，保持卷绕有长条的基材(9)的供给辊(511)；工作台(52)，将从供给部拉出的基材保持于保持面(521)上；回收部(53)，利用回收辊(531)卷绕通过保持面的基材；搬运部(54)，在非描...

基板处理装置具备膜形成单元、周缘部去除单元和搬送机构，膜形成单元包括：第一旋转保持部，将基板保持为水平姿势并使其旋转；涂敷液喷嘴，向由第一旋转保持部旋转的基板的被处理面喷出含金属涂敷液，周缘部去除单元包括：第二旋转保持部，将基板保持为水...

本发明提供一种衬底处理装置。衬底处理装置(100)具备：衬底保持部(120)、刷(160)、刷保持部(140)及吸引口(152r)。衬底保持部(120)保持衬底(W)。刷保持部(140)具有与刷(160)一起旋转的刷装设部(150)。吸...

本发明提供一种相似度计算装置，即使在创建多个同义词组的情况下，也能够有效地实现术语的统一。相似度计算装置包括：名称获取部，获取属于第一同义词组的各个单词所属的第一组名称和属于第二同义词组的各个单词所属的第二组名称；名称集合生成部，生成第...

本发明提供一种对焦位置检测方法，基于一边使焦点位置沿着光轴变化一边利用拍摄部对拍摄对象物进行拍摄而获取的多个对象图像，检测对焦点位置，能够稳定地检测对焦位置。针对每个对象图像根，从对象图像求出标志焦点的对准情况的对焦度的第二工序包括：分...

本发明的目的在于提供一种能够适当地排出处理壳体的气体的衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理壳体(23A1)、保持部(31)及液体供给部(33)。保持部(31)收容在处理壳体(23A1)中。保持部(31)保持衬底(W)。液体供给部(3...

本发明涉及一种衬底处理装置。所有处理单元中，处理室、药液配管空间及排气室沿着搬送空间排列配置，且从搬送空间侧观察时，在处理室的一侧配置着药液配管空间，并以隔着处理室与药液配管空间对向的方式配置着排气室。由于排气室隔着处理室与药液配管空间...

本发明提供一种快速获得电气元件的布线图案的布线图案生成装置。获取表示配置于基板(W)的电气元件(E)的位置的图像数据(Di)与表示将电力供给至电气元件(E)的电源线(Lv)的布线图案即电源布线图案(Pv)的图案数据(Dp)。基于图像数据...

本发明提供一种参数更新装置，其能够抑制分类精度的降低并对构成层级结构的多个数据项进行分类。参数更新装置具有：输入部，输入训练数据；以及更新部，通过使用神经网络对输入的训练数据的多个数据项进行多任务学习，从而更新用于赋予与各数据项对应的至...

本发明的问题在于在载台上表面以高吸附力保持矩形状基板并稳定进行处理液的涂布。本发明包括：载台，在上表面具有能供矩形状基板载置的基板载置区域；喷嘴，具有喷出处理液的狭缝状喷出口；喷嘴移动部，使喷嘴在载台上方移动；第一负压产生部，自在基板载...

本发明提供一种在向受体移植脏器时能够抑制脏器的温度上升的脏器容纳容器。该脏器容纳容器(1)具有：脏器可通过的开口部(20)；以及袋状的隔热片材(10)，保持经由开口部(20)插入的脏器。隔热片材(10)在内表面具有凹凸形状。通过凹凸形状...

本发明提供一种减轻加热处理后搬送的基板的污染的技术。基板处理装置(1)具有分度部(ID)及处理部(PU)。处理部(PU)具有流体处理部(30)、加热处理部(40)、梭式搬送机构(50)、第一搬送机器人(60)以及第二搬送机器人(70)。...