衬底处理方法技术

本发明专利技术的课题在于提高蚀刻轮廓的自由度。本发明专利技术的衬底处理方法包括如下工序：使衬底旋转；使用中央喷嘴向旋转的衬底的中央部喷出第1处理液；以及使用边缘喷嘴向旋转的衬底的边缘部喷出第2处理液，俯视时该边缘部包围着中央部；边缘喷嘴从相对于衬底的主表面倾斜的方向，顺着衬底的旋转方向喷出第2处理液，且边缘喷嘴向如下位置的衬底的边缘部喷出第2处理液，即，俯视时从连结衬底的中心和中央喷嘴的线，顺着衬底的旋转方向前进半周后的位置。顺着衬底的旋转方向前进半周后的位置。顺着衬底的旋转方向前进半周后的位置。

【技术实现步骤摘要】
衬底处理方法


[0001]本申请说明书中公开的技术涉及一种衬底处理方法。作为处理对象的衬底，例如包含半导体衬底、液晶显示装置用衬底、有机EL(electroluminescence，电致发光)显示装置等平板显示器(FPD，flat panel display)用衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、磁光盘用衬底、光罩用衬底、陶瓷衬底或太阳能电池用衬底等。

技术介绍

[0002]以往，在半导体衬底(以下简称为“衬底”)的制造工序中，会使用衬底处理装置对衬底进行各种处理。该处理包含去除该衬底的上表面的蚀刻处理。
[0003][
技术介绍
文献][0004][专利文献][0005][专利文献1]日本专利6064875号公报

技术实现思路

[0006][专利技术要解决的问题][0007]在所述蚀刻处理中，需要各种蚀刻轮廓。例如，有时需要用来抵消前一工序中的蚀刻不均的蚀刻轮廓。
[0008]于是，业者想到例如在衬底的中央部和边缘部进行蚀刻轮廓差异较大的蚀刻处理，由此，一边抵消蚀刻的不均，一边进行衬底处理。
[0009]本申请说本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种衬底处理方法，包括如下工序：使保持在衬底保持部的衬底旋转；使用中央喷嘴向旋转的所述衬底的中央部喷出第1处理液；使用边缘喷嘴向旋转的所述衬底的边缘部喷出第2处理液，俯视时该边缘部包围着所述中央部；以及所述边缘喷嘴从相对于所述衬底的主表面倾斜的方向，顺着所述衬底的旋转方向喷出所述第2处理液；所述边缘喷嘴向如下位置的所述衬底的边缘部喷出所述第2处理液，即，俯视时从连结所述衬底的中心和所述中央喷嘴的线，顺着所述衬底的旋转方向前进半周后的位置。2.一种衬底处理方法，包括如下工序：使保持在衬底保持部的衬底旋转；使用中央喷嘴向旋转的所述衬底的中央部喷出第1处理液；使用边缘喷嘴向旋转的所述衬底的边缘...

【专利技术属性】
技术研发人员：山口贵大，泽岛隼，东克栄，小林健司，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：