衬底处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种衬底处理装置。衬底处理装置(100)具备：衬底保持部(120)、刷(160)、刷保持部(140)及吸引口(152r)。衬底保持部(120)保持衬底(W)。刷保持部(140)具有与刷(160)一起旋转的刷装设部(150)。吸引口(152r)设置在刷装设部(150)。在刷(160)与刷装设部(150)之间形成有露出吸引口(152r)的吸引空间(Q)。刷(160)与刷装设部(150)中的一个具有突起部(156)。刷(160)与刷装设部(150)中的另一个具有卡合孔(164q)，当刷(160)装设于刷装设部(150)时，该卡合孔(164q)供突起部(156)插入。

【技术实现步骤摘要】
衬底处理装置
本专利技术涉及一种衬底处理装置。
技术介绍
已知一种对衬底进行处理的衬底处理装置。典型来说，衬底处理装置适宜用于处理半导体衬底。衬底处理装置中，有时在利用处理液等对衬底进行处理之后，利用刷将衬底洗净(参照专利文献1)。专利文献1所记载的衬底处理装置中，利用安装在臂上的刷将半导体晶圆的正面洗净。另外，专利文献1所记载的衬底处理装置中，不仅将晶圆正面洗净，还将背面洗净。该衬底处理装置中，在臂的可动范围内配置有刷洗净装置，且刷洗净装置通过与旋转的刷抵接而将刷洗净。专利文献1的衬底处理装置中，刷臂上设置有安装部，凸缘以自由装卸的方式旋接于该安装部。可制成刷上固定有凸缘的构造，并通过将凸缘旋接于刷臂，从而使得刷以自由装卸的方式安装在刷臂。[
技术介绍
文献][专利文献][专利文献1]日本专利特开2010-283393号公报
技术实现思路
[专利技术要解决的问题]然而，专利文献1的衬底处理装置中，为了更换刷需要解除刷臂与凸缘的旋接状态。要想解除旋接状态，需要进行旋转螺丝零件这一物理作业，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种衬底处理装置，具备：/n衬底保持部，保持衬底；/n刷；/n刷保持部，具有与所述刷一起旋转的刷装设部；及/n吸引口，设置在所述刷装设部；且/n在所述刷与所述刷装设部之间，形成有露出所述吸引口的吸引空间，/n所述刷与所述刷装设部中的一个具有突起部，/n所述刷与所述刷装设部中的另一个具有卡合孔，当所述刷装设于所述刷装设部时，该卡合孔供所述突起部插入。/n

【技术特征摘要】
20200228 JP 2020-0343551.一种衬底处理装置，具备：
衬底保持部，保持衬底；
刷；
刷保持部，具有与所述刷一起旋转的刷装设部；及
吸引口，设置在所述刷装设部；且
在所述刷与所述刷装设部之间，形成有露出所述吸引口的吸引空间，
所述刷与所述刷装设部中的一个具有突起部，
所述刷与所述刷装设部中的另一个具有卡合孔，当所述刷装设于所述刷装设部时，该卡合孔供所述突起部插入。


2.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中所述刷包含：
刷主体，用于将所述衬底洗净；及
底座，其供安装所述刷主体；且
所述底座具有当所述刷装设于所述刷装设部时与所述刷装设部对向的对向面。

【专利技术属性】
技术研发人员：冲田展彬，松冈启充，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本;JP