基板处理装置以及基板处理方法制造方法及图纸

提供一种能够拍摄喷出到基板的端部的液柱状的处理液的基板处理装置。基板处理装置具有基板保持部20、杯构件40、升降机构44、第一喷嘴31以及相机70。基板保持部20保持基板W并使基板W旋转。杯构件40包围基板保持部20的外周。升降机构44以使杯构件40的上端部位于比基板保持部20保持的基板W高的上端位置的方式，使杯构件40上升。第一喷嘴31在比上端位置低的位置具有喷出口，从喷出口向基板W的端部喷出第一处理液。相机70拍摄从基板W的上方的拍摄位置观察的拍摄区域，该拍摄区域包含从第一喷嘴31的喷出口喷出的第一处理液。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板处理装置以及基板处理方法
本专利技术涉及一种基板处理装置以及基板处理方法。
技术介绍
作为对基板进行处理的装置，使用一边使基板在水平面内旋转一边从喷出喷嘴对该基板的表面喷出处理液的基板处理装置。从喷出喷嘴着落至基板的大致中央的处理液通过伴随着基板的旋转的离心力而扩展至基板的整个表面，并从基板的周缘向外侧飞散。通过使处理液扩展至基板的整个表面，能够使处理液作用于基板的整个表面。作为处理液，采用与对基板的处理相应的药液或者清洗液等。在这样的基板处理装置中，提出有一种设置有相机以监视处理液是否适当地喷出的技术(专利文献1～5)。此外，在半导体基板的制造工序中，残留在基板的周缘端部上的各种膜有时会对基板的器件(device)面产生不良影响。因此，以往，提出有一种用于从基板的周缘端部除去该膜的斜面(bevel)处理。在斜面处理中，一边使基板在水平面内旋转，一边从喷出喷嘴向该基板的端部喷出除去用的处理液，通过该处理液除去基板的周缘端部的膜。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2015-173148号公报专利文献2：日本特开2017-29883号公报专利文献3：日本特开2015-18848号公报专利文献4：日本特开2016-122681号公报专利文献5：日本特开2008-135679号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题在斜面处理中，由于只要仅向基板的端部供给处理液即可，因此该处理液的流量变少。也就是说，从喷出喷嘴喷出的液柱状的处理液变细。因此，该液柱状的处理液容易受到伴随着基板的旋转的气流以及周围所产生的静电等各种因素的影响，其喷出状态容易变动。具体而言，可能会因为该各种因素导致处理液相对于基板的着落位置偏移，或者可能会产生液体飞溅。由于着落位置的偏移以及液体飞溅的产生会对工艺造成不良影响，因此希望能够监视处理液的喷出状态。然而，在斜面处理中，由于喷出喷嘴与基板之间的间隔狭窄，因此为了拍摄从喷出喷嘴喷出的液柱状的处理液需要耗费工夫。因此，本专利技术的目的在于，提供一种能够拍摄喷出到基板的端部的液柱状的处理液的基板处理装置。用于解决问题的手段基板处理装置的第一形态，具有：基板保持部，保持基板，并使所述基板旋转；杯构件，包围所述基板保持部的外周；升降机构，以使所述杯构件的上端部位于比被所述基板保持部保持的所述基板高的上端位置的方式，使所述杯构件上升；第一喷嘴，在比所述上端位置低的位置具有喷出口，从所述喷出口向所述基板的端部喷出第一处理液；以及相机，拍摄从所述基板的上方的拍摄位置观察的拍摄区域，在所述拍摄区域中包括从所述第一喷嘴的所述喷出口喷出的第一处理液。基板处理装置的第二形态，在第一形态的基板处理装置中，具有移动机构，所述移动机构使所述相机移动至所述基板的上方的所述拍摄位置，所述拍摄位置是所述相机的受光面的下端的高度位置与所述杯构件的所述上端位置相同的位置，或者是所述相机的受光面的下端的高度位置比该上端位置低的位置。基板处理装置的第三形态，在第一形态的基板处理装置中，具有镜以及使所述镜移动的移动机构，所述相机配置在所述基板的上方以外的区域，所述移动机构使所述镜移动至所述基板的上方的所述拍摄位置，使来自所述拍摄区域的光从所述镜向所述相机反射。基板处理装置的第四形态，在第三形态的基板处理装置中，所述移动机构使所述镜移动至所述镜的反射面的下端与所述杯构件的所述上端位置相同的位置，或者移动至所述镜的反射面的下端比该上端位置低的位置。基板处理装置的第五形态，在第一形态至第四形态中的任一形态的基板处理装置中，所述拍摄位置是相对于所述第一喷嘴在所述基板的旋转方向的上游侧的位置。基板处理装置的第六形态，在第一形态的基板处理装置中，具有移动机构，所述移动机构使所述相机移动至所述基板的上方的所述拍摄位置，所述第一处理液包含氢氟酸，所述相机的下部被耐化学性树脂或金属覆盖。基板处理装置的第七形态，在第一形态至第六形态中的任一形态的基板处理装置中，具有：固定构件，固定所述第一喷嘴，以及移动机构，使所述固定构件移位来使所述第一喷嘴移动至所述基板的所述端部的上方；所述相机固定于所述固定构件。基板处理装置的第八形态，在第一形态至第六形态中的任一形态的基板处理装置中，还具有：第二喷嘴，向所述基板喷出第二处理液，固定构件，固定所述第二喷嘴，以及移动机构，使所述固定构件移位来使所述第二喷嘴移动至所述基板的上方；所述相机固定于所述固定构件。基板处理装置的第九形态，在第一形态至第八形态中的任一形态的基板处理装置中，所述拍摄区域是沿着比所述基板的径向靠近周向的方向观察的拍摄区域。基板处理方法的第一形态，在第一形态至第九形态中的任一形态的基板处理装置中，具有：保持工序，通过所述基板保持部保持基板；基板旋转工序，使保持所述基板的所述基板保持部旋转；斜面处理工序，从所述第一喷嘴向所述基板的端部喷出所述第一处理液；以及斜面监视工序，基于所述相机拍摄所述拍摄区域所获得的拍摄图像，监视所述第一处理液的喷出状态。基板处理方法的第二形态，在第一形态的基板处理方法中，在所述斜面处理工序中，从两个以上的喷出口向所述基板喷出所述第一处理液。基板处理方法的第三形态，在第一形态或第二形态的基板处理方法中，在所述斜面监视工序中，基于所述拍摄图像中的位于所述第一喷嘴的正下方且横向的长度比纵向的长度长的区域内的像素的亮度值，求出从所述第一喷嘴的前端喷出的处理液的喷出状态量，所述喷出状态量为所述处理液的液柱宽度或喷出位置。基板处理方法的第四形态，在第三形态的基板处理方法中，所述斜面监视工序具有：求出所述喷出状态量的中央值或平均值作为基准值的工序；以及在所述喷出状态量与所述基准值之差为规定值以上时判定所述第一处理液发生了异常的工序。基板处理方法的第五形态，在第三形态或第四形态的基板处理方法中，所述区域设定在所述拍摄图像中的包含通过镜面反射而映现在基板的上表面的所述第一处理液的一部分的位置。基板处理方法的第六形态，在第五形态的基板处理方法中，所述相机的曝光时间设定为基板旋转一圈所需要的时间以上。基板处理方法的第七形态，在第五形态的基板处理方法中，基于对在基板旋转一圈所需要的时间以上的时间内由所述相机获得的多个拍摄图像进行积分或平均而得到的拍摄图像中的所述区域内的像素的亮度值，求出所述喷出状态量。基板处理方法的第八形态，在第一形态或第二形态的基板处理方法中，在所述斜面监视工序中，通过经机器学习的分类器，将所述拍摄图像分类为从所述第一喷嘴的前端喷出的处理液的液柱宽度或喷出位置无异常的类别以及从所述第一喷嘴的前端喷出的处理液的液柱宽度或喷出位置有异常的类别中的任一个类别。基板处理方法的第九形态，在第八形态的基板处理方法中，在所述斜面监视工序中，从所述拍摄图像中切出位于所述第一喷嘴的正下方且横向的长度比纵向的长度长的区域，并将所切出的区域的图像输入所述分类器。基板处理方法本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其中，具有：/n基板保持部，保持基板，并使所述基板旋转；/n杯构件，包围所述基板保持部的外周；/n升降机构，以使所述杯构件的上端部位于比被所述基板保持部保持的所述基板高的上端位置的方式，使所述杯构件上升；/n第一喷嘴，在比所述上端位置低的位置具有喷出口，从所述喷出口向所述基板的端部喷出第一处理液；以及/n相机，拍摄从所述基板的上方的拍摄位置观察的拍摄区域，在所述拍摄区域中包括从所述第一喷嘴的所述喷出口喷出的第一处理液。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181005 JP 2018-1899801.一种基板处理装置，其中，具有：
基板保持部，保持基板，并使所述基板旋转；
杯构件，包围所述基板保持部的外周；
升降机构，以使所述杯构件的上端部位于比被所述基板保持部保持的所述基板高的上端位置的方式，使所述杯构件上升；
第一喷嘴，在比所述上端位置低的位置具有喷出口，从所述喷出口向所述基板的端部喷出第一处理液；以及
相机，拍摄从所述基板的上方的拍摄位置观察的拍摄区域，在所述拍摄区域中包括从所述第一喷嘴的所述喷出口喷出的第一处理液。


2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
具有移动机构，所述移动机构使所述相机移动至所述基板的上方的所述拍摄位置，
所述拍摄位置是所述相机的受光面的下端的高度位置与所述杯构件的所述上端位置相同的位置，或者是所述相机的受光面的下端的高度位置比该上端位置低的位置。


3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
具有镜以及使所述镜移动的移动机构，
所述相机配置在所述基板的上方以外的区域，
所述移动机构使所述镜移动至所述基板的上方的所述拍摄位置，使来自所述拍摄区域的光从所述镜向所述相机反射。


4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，
所述移动机构使所述镜移动至所述镜的反射面的下端与所述杯构件的所述上端位置相同的位置，或者移动至所述镜的反射面的下端比该上端位置低的位置。


5.根据权利要求1至4中的任一项所述的基板处理装置，其中，
所述拍摄位置是相对于所述第一喷嘴在所述基板的旋转方向的上游侧的位置。


6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
具有移动机构，所述移动机构使所述相机移动至所述基板的上方的所述拍摄位置，
所述第一处理液包含氢氟酸，
所述相机的下部被耐化学性树脂或金属覆盖。


7.根据权利要求1至6中的任一项所述的基板处理装置，其中，具有：
固定构件，固定所述第一喷嘴，以及
移动机构，使所述固定构件移位来使所述第一喷嘴移动至所述基板的所述端部的上方；
所述相机固定于所述固定构件。


8.根据权利要求1至6中的任一项所述的基板处理装置，其中，还具有：
第二喷嘴，向所述基板喷出第二处理液，
固定构件，固定所述第二喷嘴，以及
移动机构，使所述固定构件移位来使所述第二喷嘴移动至所述基板的上方；
所述相机固定于所述固定构件。


9.根据权利要求1至8中的任一项所述的基板处理装置，其中，
所述拍摄区域是沿着比所述基板的径向靠近周向的方向观察的拍摄区域。


10.一种基板处...

【专利技术属性】
技术研发人员：犹原英司，冲田有史，角间央章，增井达哉，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本;JP