曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种曝光装置，该曝光装置具有：曝光部，在基体材料(9)上曝光图案；工作台(41)，具有与基体材料(9)的一个主面接触的保持板(43)，所述工作台(41)保持基体材料(9)；光学单元(5)，通过经由设置于保持板(43)的开口(432)向基体材料(9)的该主面照射光，使在曝光部曝光图案中所参照的参照标记形成于该主面；以及气体供给部(71)，向光学单元(5)中配置在最靠近保持板(43)侧的透光构件(541)与保持板(43)之间供给规定的气体。由气体供给部(71)供给的气体在透光构件(541)与保持板(43)之间横穿开口(432)而流动。由此，能够抑制不必要物质附着在透光构件(541)的表面。附着在透光构件(541)的表面。附着在透光构件(541)的表面。

【技术实现步骤摘要】
曝光装置


[0001]本专利技术涉及曝光装置。

技术介绍

[0002]以往，利用在印刷基板等基体材料上曝光图案的曝光装置。在曝光装置中，基于预先形成在基体材料上的参照标记(对准标记)，在基体材料上确定曝光图案的位置。另外，在日本特开2008
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292915号公报中，公开了一种曝光描画装置，该曝光描画装置具有：标记形成部，在基板的两个主面上形成对准标记；以及描画部，基于对准标记将电路图案描画在基板上。在该装置中，利用两个主面上的对准标记，来准确对应地描画两个主面上的电路图案。
[0003]此外，在日本专利第5793410号公报中，公开了一种将担载于透明的平板体的一个主面的图案转印于基板的图案形成装置。在该装置中，设置有保持载物台，该保持载物台与平板体的另一个主面抵接，同时真空吸附并保持平板体。在保持载物台上形成有导光孔，在导光孔的内部设置有透明的窗构件。在拍摄部中，为了使平板体与基板对位，经由窗构件对平板体进行拍摄。另外，提高由平板体的另一个主面、窗构件的表面以及导光孔的侧壁面包围的间隙空间内的气压。由此，能防止平板体挠曲到间隙空间内。
[0004]另外，在将基体材料保持在保持板上的曝光装置中，一般认为当在基体材料的第一主面上曝光图案时，在与保持板接触的第二主面上形成参照标记，然后，通过翻转基体材料并参照该参照标记，从而根据第一主面上的图案的位置，在第二主面上曝光图案。在该情况下，用于形成参照标记的开口被设置于保持板，在经由该开口与基体材料相对的位置配置有作为光学单元的标记形成部。r/>[0005]然而，在这样的曝光装置中，在该开口内可能会进入灰尘等不必要物质，从而在标记形成部中配置在最靠近保持板侧的透光构件的表面可能会附着不必要物质。若在该透光构件上附着了不必要物质，则不能合适地形成参照标记。另外，在配置作为其他光学单元的标记拍摄部来代替标记形成部，并通过标记拍摄部对保持板侧的主面上的参照标记进行拍摄，同时在相反的一侧的主面上曝光图案的曝光装置中也会产生相同的问题。

技术实现思路

[0006]本专利技术涉及一种曝光装置，其目的在于，抑制不必要物质附着在光学单元中的透光构件的表面。
[0007]本专利技术的一个优选方式的曝光装置，曝光部，在板状或薄膜状的基体材料上曝光图案；工作台，具有与所述基体材料的一个主面接触的保持板，所述工作台保持所述基体材料；光学单元，通过经由设置于所述保持板的开口向所述基体材料的所述主面照射光，使在所述曝光部曝光图案中所参照的参照标记形成于所述主面，或者，经由所述开口对形成于所述基体材料的所述主面的参照标记进行拍摄；以及气体供给部，向所述光学单元中配置在最靠近所述保持板侧的透光构件与所述保持板之间供给规定的气体，由所述气体供给部
供给的所述气体在所述透光构件与所述保持板之间横穿所述开口而流动。
[0008]在曝光装置中，能够抑制不必要物质附着在光学单元中的透光构件的表面。
[0009]优选地，在所述透光构件与所述保持板之间，设置有在沿着所述保持板的一个方向上延伸并且供所述气体流动的气体流路。
[0010]优选地，所述气体流路的流路面积小于所述开口的面积。
[0011]优选地，所述保持板是通过与负压空间连接的多个吸引口来吸附保持所述基体材料的吸附板，横穿所述开口的所述气体流入所述负压空间。
[0012]优选地，所述光学单元是在所述基体材料的所述主面上形成所述参照标记的标记形成部，在所述曝光部在保持于所述工作台的所述基体材料的另一主面上曝光图案时，所述光学单元在所述主面上形成所述参照标记，所述曝光部在所述主面上曝光图案时，参照所述参照标记。
[0013]优选地，所述曝光装置还具有其他光学单元，所述其他光学单元具有与所述光学单元相同的结构，经由设置于所述保持板的其他开口在基体材料上形成参照标记，或者，对基体材料的参照标记进行拍摄，
[0014]对一种基体材料利用所述光学单元，对其他种类的基体材料利用所述其他光学单元。
[0015]本专利技术的其他优选方式的曝光装置具有：曝光部，在板状或薄膜状的基体材料上曝光图案；工作台，具有与所述基体材料的一个主面接触的保持板，所述工作台保持所述基体材料；光学单元，通过经由设置于所述保持板的开口向所述基体材料的所述主面照射光，使在所述曝光部曝光图案中所参照的参照标记形成于所述主面；以及气体供给部，通过向在所述光学单元中配置在最靠近所述保持板侧的透光构件与所述保持板之间供给规定的气体，从而将所述开口的内部变为正压。在曝光装置中，能够抑制不必要物质附着在光学单元中的透光构件的表面。
[0016]根据以下参照附图对本专利技术的详细说明，进一步明确上述的目的以及其他目的、特征、方式以及优点。
附图说明
[0017]图1是表示曝光装置的结构的图。
[0018]图2是表示工作台单元的俯视图。
[0019]图3是表示工作台单元的内部的图。
[0020]图4是工作台单元的剖视图。
[0021]图5是工作台单元的剖视图。
[0022]图6是放大表示环状盖部的附近的图。
[0023]图7是表示在基体材料上曝光图案的动作的流程的图。
[0024]图8是表示工作台单元上的基体材料的图。
[0025]图9是表示工作台单元上的基体材料的图。
[0026]图10是表示曝光装置的其他例子中的工作台单元的图。
[0027]图11是表示工作台单元上的基体材料的图。
[0028]图12是表示工作台单元上的基体材料的图。
[0029]附图标记的说明：
[0030]1：曝光装置
[0031]3：曝光部
[0032]5：标记形成部
[0033]5a：标记拍摄部
[0034]9：基体材料
[0035]41：工作台
[0036]43：保持板
[0037]71：气体供给部
[0038]91：第一主面
[0039]92：第二主面
[0040]421：负压空间
[0041]431：吸引口
[0042]432：板开口
[0043]541：最外透镜
[0044]583：槽部
[0045]911：图案
[0046]921：参照标记
具体实施方式
[0047]图1是表示本专利技术的一个实施方式的曝光装置1的结构的图。在图1中，将相互正交的3个方向用箭头表示为X方向、Y方向以及Z方向。(在其他图中也相同)。在图1的例子中，X方向以及Y方向为水平方向，Z方向为铅垂方向。在以下的说明中，虽然将Z方向称为“上下方向”，但根据曝光装置1的设计，Z方向也可以是相对于铅垂方向倾斜的方向等。
[0048]曝光装置1是向基体材料9上的感光材料照射光，并在该感光材料上描画布线等图案的直接描画装置。基体材料9是印刷基板等，例如是板状。曝光装置1具有：控制部2、曝光部3、工作台单元4、工作台升降机构本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光装置，其中，具有：曝光部，在板状或薄膜状的基体材料上曝光图案；工作台，具有与所述基体材料的一个主面接触的保持板，所述工作台保持所述基体材料；光学单元，通过经由设置于所述保持板的开口向所述基体材料的所述主面照射光，使在所述曝光部曝光图案中所参照的参照标记形成于所述主面，或者，经由所述开口对形成于所述基体材料的所述主面的参照标记进行拍摄；以及气体供给部，向所述光学单元中配置在最靠近所述保持板侧的透光构件与所述保持板之间供给规定的气体，由所述气体供给部供给的所述气体在所述透光构件与所述保持板之间横穿所述开口而流动。2.如权利要求1所述的曝光装置，其中，在所述透光构件与所述保持板之间，设置有在沿着所述保持板的一个方向上延伸并且供所述气体流动的气体流路。3.如权利要求2所述的曝光装置，其中，所述气体流路的流路面积小于所述开口的面积。4.如权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其中，所述保持板是通过与负压空间连接的多个吸引口来吸附保持所述基体材料的吸附板，横穿所述开口的所述气体流入所述负压空间。5.如权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：神田宽行，原望，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：