基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术的课题在于基板处理装置的维护作业变得容易。基板处理装置包括：保持面，对基板进行保持；多个升降销，从保持面突出；框构件，从下方支撑升降销且在俯视时与保持面重叠地配置；以及升降销驱动部，在俯视时配置于框构件的外周部，通过使框构件升降来使升降销升降，升降销驱动部包括：驱动源；驱动力传递机构，沿框构件的周向延伸地配置；以及多个升降机构，连结于驱动力传递机构与框构件的外周部，并使框构件升降。并使框构件升降。并使框构件升降。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置


[0001]本申请说明书中所公开的技术涉及一种基板处理装置。作为处理对象的基板中例如包含半导体晶片、液晶显示装置用玻璃基板、有机电致发光(electroluminescence，EL)显示装置等平板显示器(flat panel display，FPD)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用玻璃基板、陶瓷基板、场发射显示器(field emission display，即，FED)用基板、或太阳能电池用基板等。

技术介绍

[0002]在基板处理装置中，设置有用于在基板的搬入时或搬出时等使基板升降的多个升降销。
[0003]多个升降销通过从设置于基板的保持面的多个贯通孔向上方突出并支撑基板，而使基板上升，另外，通过收容于所述贯通孔而使基板下降并配置于保持面(例如，参照专利文献1)。
[0004][现有技术文献][0005][专利文献][0006][专利文献1]日本专利特开2010
‑
114175号公报

技术实现思路

[0007][专利技术所要解决的问题][0008]在专利文献1所示的技术中，用于使升降销升降的驱动机构配置于框构件的正下方。因此，例如在进行所述驱动机构的维护的情况下，需要作业者潜入框构件的下方来进行作业，从而存在作业空间狭小而难以作业的问题。
[0009]本申请说明书中所公开的技术是鉴于如以上所记载那样的问题而成，且是用于使基板处理装置的维护作业变得容易的技术。
[0010][解决问题的技术手段][0011]本申请说明书中所公开的技术的第一实施例涉及一种基板处理装置，其包括：保持面，用于在上表面保持基板；多个升降销，经由形成于所述保持面的多个贯通孔分别向所述保持面的所述上表面突出；框构件，从下方支撑所述多个升降销，且在俯视时与所述保持面重叠地配置；以及升降销驱动部，在俯视时配置于所述框构件的外周部，且用于通过使所述框构件升降来使所述多个升降销升降，且所述升降销驱动部包括：驱动源；驱动力传递机构，沿所述框构件的周向延伸地配置，且用于传递所述驱动源的驱动力；以及多个升降机构，连结于所述驱动力传递机构与所述框构件的外周部，且用于使所述框构件升降。
[0012]本申请说明书中所公开的技术的第二实施例涉及第一实施例，其中所述升降销驱动部在俯视时不与所述框构件重叠。
[0013]本申请说明书中所公开的技术的第三实施例涉及第一实施例或第二实施例，其中所述升降销驱动部在俯视时不与所述保持面重叠。
[0014]本申请说明书中所公开的技术的第四实施例涉及第一实施例至第三实施例中的任一实施例，其中所述驱动力传递机构沿所述框构件的不同的两个周向延伸地配置。
[0015][专利技术的效果][0016]根据本申请说明书中所公开的技术的至少第一实施例，由于可将升降销驱动部配置于在俯视时充分远离基板的中心的位置，因此在进行基板处理装置的维护作业时作业变得容易。
[0017]另外，通过以下所示的详细说明与附图，与本申请说明书中所公开的技术相关联的目的、特征、方面与优点变得更清楚。
附图说明
[0018]图1是示意性地表示与实施方式相关的基板处理装置的立体图。
[0019]图2是用于对图1中例示的设置于基板处理装置的保持面的下方的升降销、框构件及升降销驱动部进行说明的图。
[0020]图3是详细地表示图2中例示的升降销、框构件及升降销驱动部的结构的立体图。
[0021]图4是表示升降销驱动部的驱动力传递机构及升降机构的结构的例子的图。
[0022]图5是表示升降销的升降动作的例子的剖面图。
[0023]图6是表示升降销的升降动作的例子的剖面图。
[0024]图7是表示驱动力传递机构及升降机构的结构的例子的图。
[0025][符号的说明][0026]1：基板处理装置
[0027]2：狭缝喷嘴
[0028]3：基板
[0029]4：平台
[0030]5：涂布处理部
[0031]6：升降销
[0032]7：框构件
[0033]8：升降销驱动部
[0034]8A：驱动源
[0035]8B、80B：驱动力传递机构
[0036]8C、80C：升降机构
[0037]21：吐出口
[0038]31：上表面
[0039]41：保持面
[0040]51：喷嘴支撑体
[0041]52：导轨
[0042]53：狭缝喷嘴移动部
[0043]54：线性马达
[0044]55：线性编码器
[0045]70：控制部
[0046]82：轴
[0047]82A：小齿轮
[0048]82B：联动夹具
[0049]84：联动部
[0050]86：齿条
[0051]88：滑动孔
[0052]88A、88B：端部
[0053]90：贯通孔
[0054]100：喷嘴调整区域
具体实施方式
[0055]以下，参照随附的附图对实施方式进行说明。在以下的实施方式中，为了说明技术还示出了详细的特征等，但这些是例示，且这些并非均是为了使实施方式能够实施所必需的特征。
[0056]再者，附图是概要性地示出，且为了便于说明，适宜在附图中进行结构的省略、或结构的简化。另外，不同的附图中分别示出的结构等的大小及位置的相互关系未必准确地记载，可适宜变更。另外，在并非剖面图的平面图等附图中，为了容易理解实施方式的内容，有时也标注阴影线。
[0057]另外，在以下所示的说明中，对同样的构成元件标注相同的符号来图示，对于它们的名称与功能也同样。因此，为了避免重复，有时省略关于它们的详细说明。
[0058]另外，在以下所记载的说明中，在记载为“包括”、“包含”或“具有”某一构成元件等的情况下，只要无特别说明，则并非排除其他构成元件的存在的排他性的表达。
[0059]另外，在以下所记载的说明中，即便在使用意指“上”、“下”、“左”、“右”、“侧”、“底”、“表”或“背”等特定的位置或方向的用语的情况下，这些用语也是为了便于容易理解实施方式的内容而使用，且与实际所实施时的位置或方向无关。
[0060]＜实施方式＞
[0061]以下，对与本实施方式相关的基板处理装置进行说明。
[0062]＜关于基板处理装置的结构＞
[0063]图1是示意性地表示与本实施方式相关的基板处理装置1的立体图。
[0064]基板处理装置1为使用狭缝喷嘴2向基板3的上表面31涂布涂布液的狭缝涂布机。基板处理装置1中，作为其涂布液，能够使用作为耐蚀刻被膜的光致抗蚀剂液、彩色滤光片用的光致抗蚀剂液、聚酰亚胺前体(聚酰胺酸)、包含硅、纳米金属油墨或导电性材料的浆料(糊料)等各种涂布液。再者，所谓“基板3的上表面31”，是指基板3的两主面中用来涂布涂布液一侧的主表面。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，包括：保持面，用于在上表面保持基板；多个升降销，经由形成于所述保持面的多个贯通孔分别向所述保持面的所述上表面突出；框构件，从下方支撑所述多个升降销，且在俯视时与所述保持面重叠地配置；以及升降销驱动部，在俯视时配置于所述框构件的外周部，且用于通过使所述框构件升降来使所述多个升降销升降，且所述升降销驱动部包括：驱动源；驱动力传递机构，沿所述框构件的周向延伸地配置，且用于传递所述驱动源...

【专利技术属性】
技术研发人员：中根慎悟，池田文彦，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：