本发明专利技术涉及一种下表面刷、刷基座及衬底清洗装置。下表面刷具备基台部、第1清洗部及第2清洗部。第1清洗部从基台部的上表面朝上方突出，且以俯视时通过基台部的几何中心在一个方向延伸的方式，设置在基台部的上表面。第2清洗部从基台部的上表面朝上方突出，且以沿基台部的外缘的方式，设置在基台部的上表面。或者，一对或多对第2清洗部也可从基台部的上表面朝上方突出，且以隔着第1清洗部对向的方式，设置在基台部的上表面。基台部的上表面。基台部的上表面。
【技术实现步骤摘要】
下表面刷、刷基座及衬底清洗装置
[0001]本专利技术涉及一种清洗衬底的下表面的下表面刷、刷基座及衬底清洗装置。
技术介绍
[0002]为了对用于液晶显示裝置或有机EL(Electro Luminescence：电致发光)显示裝置等的FPD(Flat Panel Display：平板显示器)用衬底、半导体衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、磁光盘用衬底、光罩用衬底、陶瓷衬底或太阳能电池用衬底等各种衬底进行各种处理，可使用衬底处理装置。为了清洗衬底，使用衬底清洗装置。
[0003]例如，日本专利特开2017
‑
139442号公报所记载的衬底清洗装置中，通过设置在旋转板的多根夹盘销保持衬底的外周端部抵接的状态，使旋转板绕旋转轴旋转。此外，具有大致圆柱形状的清洗刷的上表面与旋转的衬底的背面接触。在所述状态下，使清洗刷在衬底的背面的中心部与周缘部之间移动，由此清洗整个衬底背面，去除附着在衬底背面的污染物。
技术实现思路
[0004]衬底清洗装置中，如果清洗刷的直径较小，那么产能降低。然而，如果增大清洗刷的直径，那么清洗刷与衬底的接触面积变大。所述情况下，由于每单位面积的清洗刷的荷重变小，所以污染物的去除效率降低。另一方面，增大清洗刷的荷重的情况下，由于衬底发生翘曲，所以污染物的去除效率降低。此外，如果增大清洗刷的荷重，那么衬底会从夹盘销等保持部脱落。
[0005]本专利技术的目的在于提供一种能效率良好地清洗衬底的下表面的下表面刷、刷基座及衬底清洗装置。
[0006](1)依照本专利技术的一个态样的下表面刷能用来清洗衬底的下表面，且具备：基台部，具有第1上表面；第1清洗部，从基台部的第1上表面朝上方突出，且以俯视时通过基台部的几何中心在一个方向延伸的方式，设置在基台部的第1上表面；及第2清洗部，从基台部的第1上表面朝上方突出，且以沿基台部的外缘的方式，设置在基台部的第1上表面。
[0007]所述下表面刷中，将能清洗的区域维持得较大，且减少衬底的下表面与下表面刷的接触面积。因此，即使施加在下表面刷的荷重相对较小的情况下，衬底的下表面与下表面刷也以足够的荷重接触。由此，能效率良好地清洗衬底的下表面。
[0008](2)依照本专利技术的另一个态样的下表面刷能用来清洗衬底的下表面，且具备：基台部，具有第1上表面；第1清洗部，从基台部的第1上表面朝上方突出，且以俯视时通过基台部的几何中心在一个方向延伸的方式，设置在基台部的第1上表面；及一对或多对第2清洗部，从基台部的第1上表面朝上方突出，且以隔着第1清洗部对向的方式，设置在基台部的第1上表面。
[0009]所述下表面刷中，将能清洗的区域维持得较大，且减少衬底的下表面与下表面刷的接触面积。因此，即使施加在下表面刷的荷重相对较小的情况下，衬底的下表面与下表面
刷也以足够的荷重接触。由此，能效率良好地清洗衬底的下表面。
[0010](3)也可为，在基台部以在上下方向延伸的方式形成能排出液体的贯通孔。根据所述构成，在清洗衬底的下表面时能使用清洗液的情况下，清洗液不会滞留在下表面刷而通过贯通孔排出。由此，能使用清洗液，效率更好地清洗衬底的下表面。
[0011](4)也可为，构成为能通过第1清洗部与第2清洗部之间，从基台部的周缘将液体排出到外侧。根据所述构成，在清洗衬底的下表面能使用清洗液的情况下，清洗液不会滞留在下表面刷上，而通过第1清洗部与第2清洗部之间排出。由此，能使用清洗液，效率更好地清洗衬底的下表面。
[0012](5)也可为，基台部在俯视时具有圆形状、长圆形状或椭圆形状的外形，第1清洗部以俯视时在基台部的外缘中离得最远的2点之间延伸的方式设置。所述情况下，能更容易将能清洗的区域维持得较大。
[0013](6)也可为，俯视时，基台部的2点间的长度大于衬底直径的1/3且小于1/2。所述情况下，能不过度增大下表面刷，而效率良好地清洗衬底的整个下表面。
[0014](7)依照本专利技术的又一个态样的刷基座具有能供依照第1或本专利技术的其他态样的下表面刷的基台部连接的第2上表面、及第2上表面的相反侧的下表面，在下表面的周缘区域，形成朝外下方倾斜的倾斜部。所述刷基座中，在由所述下表面刷清洗衬底的下表面时能使用清洗液的情况下，不将清洗液朝刷基座的下表面的内侧引导，而沿倾斜部排出到外侧。由此，能效率良好地清洗衬底的下表面。
[0015](8)依照本专利技术的又一个态样的衬底清洗装置具备：衬底保持部，保持衬底；及依照第1或本专利技术的其他态样的下表面刷，清洗由衬底保持部保持的衬底的下表面。所述衬底清洗装置中，由所述下表面刷，清洗由衬底保持部保持的衬底的下表面。由此，能效率良好地清洗衬底的下表面。
[0016](9)也可为，衬底清洗装置还具备移动装置，使下表面刷在能清洗包围衬底的下表面中央区域的下表面外侧区域的第1水平位置、与能清洗衬底的下表面中央区域的第2水平位置之间移动。所述情况下，能效率良好地清洗衬底的整个下表面。
[0017](10)也可为，衬底保持部至少在由下表面刷清洗衬底的下表面外侧区域时，使衬底旋转。所述情况下，效率更好地清洗衬底的下表面外侧区域。由此，能效率更好地清洗衬底的整个下表面。
[0018](11)也可为，衬底清洗装置还具备旋转驱动装置，能使下表面刷绕通过基台部的几何中心的垂直轴旋转。所述情况下，能更容易地将下表面刷能清洗的区域维持得较大。
附图说明
[0019]图1是本专利技术的第1实施方式的包含下表面刷及刷基座的刷单元的外观立体图。
[0020]图2是图1的下表面刷的外观立体图。
[0021]图3是图1的下表面刷的俯视图。
[0022]图4是图1的刷单元的纵剖视图。
[0023]图5是用来说明刷单元的动作的图。
[0024]图6是变化例的下表面刷的外观立体图。
[0025]图7是参考例的下表面刷的外观立体图。
[0026]图8是本专利技术的第2实施方式的下表面刷的外观立体图。
[0027]图9是第1变化例的下表面刷的外观立体图。
[0028]图10是第2变化例的下表面刷的外观立体图。
[0029]图11是本专利技术的第3实施方式的衬底清洗装置的示意性俯视图。
[0030]图12是表示图11的衬底清洗装置的内部构成的外观立体图。
[0031]图13是表示图11的衬底清洗装置的控制系统的构成的框图。
[0032]图14是用来说明图11的衬底清洗装置的动作的一例的示意图。
[0033]图15是用来说明图11的衬底清洗装置的动作的一例的示意图。
[0034]图16是用来说明图11的衬底清洗装置的动作的一例的示意图。
[0035]图17是用来说明图11的衬底清洗装置的动作的一例的示意图。
[0036]图18是用来说明图11的衬底清洗装置的动作的一例的示意图。
[0037]图19是用来说明图11的衬底清洗装置的动作的一例的示意图。
[0038]图本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种下表面刷，其能用来清洗衬底的下表面，且具备：基台部，具有第1上表面；第1清洗部，从所述基台部的所述第1上表面朝上方突出，且以俯视时通过所述基台部的几何中心在一个方向延伸的方式，设置在所述基台部的所述第1上表面；及第2清洗部，从所述基台部的所述第1上表面朝上方突出，且以沿所述基台部的外缘的方式，设置在所述基台部的所述第1上表面。2.一种下表面刷，其能用来清洗衬底的下表面，且具备：基台部，具有第1上表面；第1清洗部，从所述基台部的所述第1上表面朝上方突出，且以俯视时通过所述基台部的几何中心在一个方向延伸的方式，设置在所述基台部的所述第1上表面；及一对或多对第2清洗部，从所述基台部的所述第1上表面朝上方突出，且以隔着所述第1清洗部对向的方式，设置在所述基台部的所述第1上表面。3.根据权利要求1或2所述的下表面刷，其中在所述基台部，以在上下方向延伸的方式形成能排出液体的贯通孔。4.根据权利要求2所述的下表面刷，构成为能通过所述第1清洗部与所述第2清洗部间，从所述基台部的周缘将液体排出到外侧。5.根据权利要求1到4中任一权利要求所述的下表面刷，其中所述基台部俯视时具有圆形状、长圆形...
【专利技术属性】
技术研发人员：篠原敬，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。