用于处理衬底的系统技术方案

本发明专利技术提供一种用于处理衬底的系统。用于处理衬底的系统包含：处理管，配置成提供用于衬底的处理空间；以及排气模块，连接到处理管的排气口以将处理空间内的处理残留物排放到外部。排气模块包含：排气管，连接到排气口；密封壳体，配置成容纳排气管的至少一部分；以及局部排气部件，设置于密封壳体中以对所述密封壳体的内部进行排气。壳体的内部进行排气。壳体的内部进行排气。

【技术实现步骤摘要】
用于处理衬底的系统


[0001]本公开涉及一种用于处理衬底的系统，且更确切地说，涉及一种用于处理衬底的系统，其防止通过排气管排放的排气泄漏到外部。

技术介绍

[0002]一般来说，衬底处理方法分类成能够处理一个衬底的单晶片型衬底处理方法和能够同时处理多个衬底的分批型衬底处理方法。此单晶片型衬底处理设备具有简单结构，但具有低生产率。因此，广泛地使用能够大规模生产衬底的分批型衬底处理设备。
[0003]在用于处理衬底的系统中，化学物质可用作用于处理衬底的处理气体，且化学物质可能具有毒性、易燃性、腐蚀性、阻燃性等，且可能对人体有害。
[0004]在根据相关技术的用于处理衬底的系统中，暴露用于排放处理管的处理残留物的排气管的至少一部分，且排放到排气管的处理残留物还可能含有有毒化学物质。因此，当排气泄漏到排气管时，可能归因于化学物质而发生安全事故。
[0005]确切地说，插入用于密封处理管的排气口与排气管之间和/或排气管之间的间隙的连接部件(例如O形环)通过长期使用和/或热量而变形和/或损坏，且因此可能发生泄漏，且排气可能通过间隙泄漏。
[0006]当排气泄漏时，不仅排气可能对人体有害，而且半导体制造设施(FAB)中的数十个或数百个装置必须关闭。
[0007][现有技术文献][0008][专利文献][0009]韩国专利公开案第10
‑
2012
‑
0074326号

技术实现思路

[0010]本公开提供一种用于处理衬底的系统，所述系统能够通过对排气管进行加套来防止排气泄漏到外部。
[0011]根据示范性实施例，一种用于处理衬底的系统包含：处理管，配置成提供用于衬底的处理空间；以及排气模块，连接到处理管的排气口以将处理空间内的处理残留物排放到外部，其中排气模块包含：排气管，连接到排气口；密封壳体，配置成容纳排气管的至少一部分；以及局部排气部件，设置于密封壳体中以对密封壳体的内部进行排气。
[0012]排气模块可进一步包含设置于密封壳体中以检测排气管的排气(exhaust gas)泄漏的泄漏检测部件。
[0013]排气模块可进一步包含配置成将排气管连接到处理管的排气口的连接部件。
[0014]连接部件可包含：第一凸缘(flange)，设置于处理管中；第二凸缘，设置于排气管的一端处；以及密封部件，设置于第一凸缘与第二凸缘之间。
[0015]连接部件可进一步包含具有柔性的波纹管。
[0016]排气管可包含连接到排气口以在第一方向上延伸的第一排气管，且密封壳体可包
含配置成容纳第一排气管的第一壳体部件。
[0017]系统可进一步包含设置于处理管下方的下部腔室，其中排气管可进一步包含连接到第一排气管以向下延伸的第二排气管，且密封壳体可进一步包含与下部腔室间隔开且配置成容纳第二排气管的第二壳体部件。
[0018]系统可进一步包含其中多个衬底以多级装载且容纳于处理管中的衬底舟。
[0019]处理管可设置为多个以在与排气管的延伸方向交叉的方向上布置，且排气模块可设置于处理管中的每一个中。
[0020]排气模块中的每一个的排气管可彼此并排地设置。
[0021]系统可进一步包含分别设置于处理管中且彼此对称安置的多个气体供应模块。
[0022]排气模块中的每一个的至少一部分可安置于多个气体供应模块之间。
[0023]多个气体供应模块和排气模块可至少部分地并排安置。
[0024]排气模块可进一步包含连接到局部排气部件以稀释泄漏排气的泄漏气体稀释部件。
附图说明
[0025]根据结合随附附图进行的以下描述可更详细地理解示范性实施例，在随附附图中：
[0026]图1为根据示范性实施例的用于处理衬底的系统的示意透视图。
[0027]图2为根据示范性实施例的用于解释下部腔室的概念图。
[0028]图3为根据示范性实施例的用于处理衬底的双系统的耦合透视图。
[0029]图4为根据示范性实施例的用于处理衬底的双系统的平面图。
具体实施方式
[0030]在下文中，将参考随附附图更详细地描述特定实施例。然而，本专利技术可以不同形式实施，且不应被解释为限于本文中所阐述的实施例。相反地，提供这些实施例以使得本公开将为透彻且完整的，并且这些实施例将把本专利技术的范围充分地传达给本领域的技术人员。在描述中，相同元件用相同参考标号指示。在附图中，出于说明清楚起见而放大层和区的尺寸。贯穿全文，相同参考标号指代相同元件。
[0031]图1为根据示范性实施例的用于处理衬底的系统的示意透视图。
[0032]参考图1，根据示范性实施例的用于处理衬底的系统100包含：处理管110，提供用于衬底10的处理空间；以及排气模块120，连接到处理管110的排气口111以将处理空间中的处理残留物排放到外部。
[0033]处理管110可提供用于衬底10的处理空间，且可在处理空间中执行单个或多个衬底10的处理过程。举例来说，处理管110可具有圆柱形形状，其具有封闭的上部部分和打开的下部部分且由例如石英或陶瓷的耐热性材料制成。可容纳多个衬底10以在处理管110中进行处理。此处，处理空间可为容纳衬底舟115且还执行实际处理过程(例如沉积过程)的空间，多个衬底10在处理管110的纵向方向上层压于所述衬底舟115上。
[0034]排气模块120可连接到处理管110的排气口111，且将处理空间中的处理残留物排放到外部。举例来说，排气管121可与处理管110的排气口111连通。因此，处理残留物可从处
理空间排放且可排放到外部。
[0035]此处，排气模块120包含连接到排气口111的排气管121、容纳排气管121的至少一部分的密封壳体122，以及设置于密封壳体122中且对密封壳体122的内部进行排气的局部排气部件123。排气管121可连接到排气口111且可提供路径，通过所述路径经由排气口111从处理空间排放处理残留物，使得排放含有处理残留物的排气。
[0036]密封壳体122可容纳排气管121的至少一部分且防止排气从排气管121泄漏到外部环境(例如，半导体制造设施(FAB)的工作空间)。因此，即使排气从排气管121泄漏，也可防止外部环境中的操作者和/或装置被泄漏排气影响或损坏。
[0037]局部排气部件123可设置于密封壳体122中且可对密封壳体122的内部进行排气。举例来说，局部排气部件123可从密封壳体122的内部排放泄漏排气，且可防止排气在密封壳体122中饱和。另外，可防止排气管121的外壁和/或密封壳体122的内壁被泄漏排气损坏。另外，可从密封壳体122排放和去除泄漏排气，且因此可维持发生泄漏的一部分。此处，在从密封壳体122的内部完全去除泄漏排气之后，打开密封壳体122，且接着可维持密封壳体122内部的发生泄漏的排气管121和连接部件125。局部排气部件123可对密封壳体122的内部进行排气以将密封壳体122的内部本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于处理衬底的系统，所述系统包括：处理管，配置成提供用于所述衬底的处理空间；以及排气模块，连接到所述处理管的排气口以将所述处理空间内的处理残留物排放到外部，其中所述排气模块包括：排气管，连接到所述排气口；密封壳体，配置成容纳所述排气管的至少一部分；以及局部排气部件，设置于所述密封壳体中以对所述密封壳体的内部进行排气。2.根据权利要求1所述的用于处理衬底的系统，其中所述排气模块进一步包括设置于所述密封壳体中以检测所述排气管的排气泄漏的泄漏检测部件。3.根据权利要求1所述的用于处理衬底的系统，其中所述排气模块进一步包括配置成将所述排气管连接到所述处理管的所述排气口的连接部件。4.根据权利要求3所述的用于处理衬底的系统，其中所述连接部件包括：第一凸缘，设置于所述处理管中；第二凸缘，设置于所述排气管的一端处；以及密封部件，设置于所述第一凸缘与所述第二凸缘之间。5.根据权利要求4所述的用于处理衬底的系统，其中所述连接部件进一步包括具有柔性的波纹管。6.根据权利要求1所述的用于处理衬底的系统，其中所述排气管包括连接到所述排气口以在第一方向上延伸的第一排气管，且所述密封壳体包括配置成容纳所述第一排气管的第一壳体部件。7.根据权利要求6所述的用于处理衬...

【专利技术属性】
技术研发人员：金苍乭，南成珉，
申请(专利权)人：株式会社尤金科技，
类型：发明
国别省市：