衬底处理系统技术方案

技术编号:22533596 阅读:28 留言:0更新日期:2019-11-13 10:22
本公开提供一种衬底处理系统,包含:第一处理管道和第二处理管道,在第一轴的方向上彼此间隔开以提供彼此独立的处理空间;衬底舟,所述衬底舟上多重地堆叠多个衬底,且所述衬底舟提供到第一处理管道和第二处理管道的处理空间中的每一个;以及第一舟升降单元和第二舟升降单元,分别提供到第一处理管道和第二处理管道以提升衬底舟,其中第一舟升降单元和第二舟升降单元中的每一个包含安置在第一处理管道与第二处理管道之间的空间中的升降轴构件。本公开的衬底处理系统能够在减小其占地面积的同时通过包含多个处理管道来增加衬底处理量。

Substrate processing system

The invention provides a substrate processing system, which comprises: a first processing pipe and a second processing pipe, which are separated from each other in the direction of the first axis to provide independent processing space; a substrate boat, on which multiple substrates are stacked, and the substrate boat is provided to each of the processing spaces of the first processing pipe and the second processing pipe; and a first boat lift The lowering unit and the second boat lifting unit are respectively provided to the first processing pipeline and the second processing pipeline to lift the substrate boat, wherein each of the first boat lifting unit and the second boat lifting unit comprises a lifting and lowering axis member arranged in the space between the first processing pipeline and the second processing pipeline. The substrate processing system of the present disclosure can increase the substrate processing capacity by including a plurality of processing pipes while reducing the floor area thereof.

【技术实现步骤摘要】
衬底处理系统
本公开涉及一种衬底处理系统,且更具体地说,涉及一种包含多个处理管道的衬底处理系统。
技术介绍
大体来说,衬底处理方法分类成能够在一个衬底上执行衬底处理过程的单晶片型和能够在多个衬底上同时执行衬底处理过程的批量型。虽然单晶片型在设施的简单配置方面具有优点,但是单晶片型在产率方面具有缺点。因此,批量型已广泛用于大批量生产。因为相关技术的批量型衬底处理系统仅包含单处理管道,所以在使用一个独立型衬底处理系统时,衬底处理量减小,且用于使用经处理衬底制造元件的成本增加。另外,在同时使用多个独立型衬底处理系统以补偿较低衬底处理量时,增大由整个衬底处理系统占用的占地面积。另外,在需要用于操作和维持衬底处理系统的空间时,进一步增大用于衬底处理工艺的占地面积(footprint)。因此,需要能够使占地面积最小化同时增大衬底处理量的衬底处理系统。[相关技术文件][专利文件]韩国专利公开案第10-2012-0074326号
技术实现思路
本公开提供一种衬底处理系统,所述衬底处理系统能够在减小其占地面积的同时通过包含多个处理管道来增加衬底处理量。根据示范性实施例,衬底处理系统包含:第一处理管道和第二处理管道,在第一轴的方向上彼此间隔开以提供彼此独立的处理空间;衬底舟,所述衬底舟上多重地堆叠多个衬底,且所述衬底舟提供到第一处理管道和第二处理管道的处理空间中的每一个;以及第一舟升降单元和第二舟升降单元,分别提供到第一处理管道和第二处理管道以提升衬底舟,且第一舟升降单元和第二舟升降单元中的每一个包含安置在第一处理管道与第二处理管道之间的空间中的升降轴构件(elevationshaftmember)。第一舟升降单元的升降轴构件和第二舟升降单元的升降轴构件可以彼此点对称且布置在第一轴的两侧处。第一舟升降单元和第二舟升降单元中的每一个可包含:升降主体,连接到升降轴构件以沿升降轴构件提升;以及支撑板,耦接到升降主体以支撑衬底舟,且升降主体可耦接到支撑板,同时在与第一轴的方向交叉的第二轴的方向上与支撑板的中心偏离。升降轴构件可包含:滚珠螺杆(ballscrew),包含螺杆轴(screwshaft)和滚珠螺母(ballnut)以经由螺杆轴的旋转移动滚珠螺母;以及多个导轨,布置在螺杆轴的两侧处。升降主体可包含:底板,耦接到滚珠螺母,且沿螺杆轴延伸;以及多个滑动部件,耦接到滚珠螺母的两侧处的底板,且配置成分别在连接到多个导轨时滑动。升降轴构件可进一步包含沿螺杆轴延伸的竖直框架,以支撑螺杆轴和多个导轨。衬底处理系统可进一步包含第一功能模块(utilitymodule)和第二功能模块,所述第一功能模块和所述第二功能模块分别提供到相应的第一处理管道和第二处理管道,且对称地布置,同时在第一处理管道和第二处理管道的相应的处理管道的中心处与第一轴的竖直轴偏离。第一功能模块和第二功能模块中的每一个可在远离相应的处理管道的方向上延伸。第一功能模块和第二功能模块中的每一个可包含:冷却水控制部件,连接到从相应的处理管道延伸的冷却水供应管线且配置成控制冷却水的供应;以及气体控制部件,连接到从相应的处理管道延伸的气体供应管线且配置成控制工艺气体(processgas)的供应,且在第一功能模块和第二功能模块中的每一个中,冷却水控制部件可安置为比气体控制部件更接近于相应的处理管道。衬底处理系统可进一步包含:第一排气导管和第二排气导管(exhaustduct),分别提供到第一处理管道和第二处理管道,且分别具有连接到多个排气泵送端口(exhaustpumpingport)的端部;第一加热器部件和第二加热器部件,分别提供到第一处理管道和第二处理管道,且配置成将热量分别供应到第一处理管道和第二处理管道;以及第一快速散热气体管线和第二快速散热气体管线,配置成分别使第一加热器部件和第二加热器部件冷却,且分别具有连接到多个吸热泵送端口(heatabsorptionpumpingport)的端部。提供到相应的处理管道的排气导管的端部和配置成使配置成将热量供应到相应的处理管道的加热器部件冷却的快速散热气体管线的端部可分别安置在第一功能模块和第二功能模块上,且在第一功能模块和第二功能模块中的每一个中,经布置的排气导管的端部可安置为比经布置的快速散热气体管线的端部更接近于相应的处理管道。气体供应管线中的每一个可包含多个气体管线,连接到第一处理管道的气体供应管线中的多个气体管线以及连接到第二处理管道的气体供应管线中的多个气体管线可彼此对称地布置,且对称的气体管线可供应有彼此相同的气体。第一处理管道和第二处理管道中的每一个可作为单一管道或多个管道提供,所述多个管道包含外部管道和内部管道。附图说明可以从结合附图所作的以下描述中更详细地理解示范性实施例,其中:图1(a)和图1(b)为示出根据示范性实施例的衬底处理系统的截面图。图2(a)、图2(b)和图2(c)为示出根据示范性实施例的舟升降单元的图。图3(a)和图3(b)为用于解释根据示范性实施例的衬底舟的升降的概念图。图4为用于解释根据示范性实施例的第一功能模块和第二功能模块的概念图。图5(a)和图5(b)为用于解释根据示范性实施例的排气导管、加热器部件以及快速散热气体管线的概念图。图6为用于解释根据示范性实施例的对称气体供应管线的概念图。具体实施方式下文,将参看附图更详细地描述具体实施例。然而,本专利技术可以不同的形式来体现,且不应解释为受限于本文所阐述的实施例。实际上,提供这些实施例是为了使得本公开将是透彻并且完整的,并将本专利技术的范围完整地传达给本领域的技术人员。在描述中,相同元件用相同附图标号指示。在图中,为说明清楚起见而放大了层和区域的尺寸。相似附图标号在全文中指代相似元件。图1(a)和图1(b)为示出根据示范性实施例的衬底处理系统的示意图。图1(a)为示出衬底处理系统的局部立体图,且图1(b)为示出衬底处理系统的局部平面图。参看图1(a)和图1(b),根据示范性实施例的衬底处理系统100可包含:第一处理管道110a和第二处理管道110b,其在第一轴11上彼此间隔开且提供彼此独立的处理空间;衬底舟120,在所述衬底舟120中多个衬底10以多级堆叠且所述衬底舟120提供到第一处理管道110a和第二处理管道110b的处理空间中的每一个;以及第一和第二舟升降单元130,其提供到第一处理管道110a和第二处理管道110b中的每一个并提升衬底舟120。第一处理管道110a和第二处理管道110b可在第一轴11上彼此间隔开,且成对提供并安置在彼此独立的处理空间中。本文中,第一轴11的方向可以是水平方向和与衬底处理系统100交叉的方向。第一处理管道110a和第二处理管道110b中的每一个可具有在衬底处理过程期间容纳衬底舟120的内部空间,且具有独立地受控制的气体氛围(gasatmosphere)(或氛围气体(atmospheregas))、温度以及类似物。因为第一处理管道110a和第二处理管道110b独立地受控制,所以可以稳定地执行衬底处理工艺,可改进经由衬底处理系统100处理衬底的量和质量,并可通过减小第一处理管道110a与第二处理管道110b和/或围绕其安置的外围组件之间的距离来减小占地面积。本文中,第一处理管道110a和第二处理管道11本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种衬底处理系统,包括:第一处理管道和第二处理管道,在第一轴的方向上彼此间隔开以提供彼此独立的处理空间;衬底舟,所述衬底舟上多重地堆叠多个衬底,且所述衬底舟提供到所述第一处理管道和所述第二处理管道的处理空间中的每一个;以及第一舟升降单元和第二舟升降单元,分别提供到所述第一处理管道和所述第二处理管道以提升所述衬底舟,其中所述第一舟升降单元和所述第二舟升降单元中的每一个包括安置在所述第一处理管道与所述第二处理管道之间的空间中的升降轴构件。

【技术特征摘要】
2018.05.03 KR 10-2018-00514601.一种衬底处理系统,包括:第一处理管道和第二处理管道,在第一轴的方向上彼此间隔开以提供彼此独立的处理空间;衬底舟,所述衬底舟上多重地堆叠多个衬底,且所述衬底舟提供到所述第一处理管道和所述第二处理管道的处理空间中的每一个;以及第一舟升降单元和第二舟升降单元,分别提供到所述第一处理管道和所述第二处理管道以提升所述衬底舟,其中所述第一舟升降单元和所述第二舟升降单元中的每一个包括安置在所述第一处理管道与所述第二处理管道之间的空间中的升降轴构件。2.根据权利要求1所述的衬底处理系统,其中所述第一舟升降单元的升降轴构件和所述第二舟升降单元的升降轴构件彼此点对称且布置在所述第一轴的两侧处。3.根据权利要求1所述的衬底处理系统,其中所述第一舟升降单元和所述第二舟升降单元中的每一个包括:升降主体,连接到所述升降轴构件以沿所述升降轴构件提升;以及支撑板,耦接到所述升降主体以支撑所述衬底舟,其中所述升降主体耦接到所述支撑板,同时在与所述第一轴的方向交叉的第二轴的方向上与所述支撑板的中心偏离。4.根据权利要求3所述的衬底处理系统,其中所述升降轴构件包括:滚珠螺杆,包括螺杆轴和滚珠螺母以经由所述螺杆轴的旋转移动所述滚珠螺母;以及多个导轨,布置在所述螺杆轴的两侧处。5.根据权利要求4所述的衬底处理系统,其中所述升降主体包括:底板,耦接到所述滚珠螺母,且沿所述螺杆轴延伸;以及多个滑动部件,耦接到所述滚珠螺母的两侧处的所述底板,且配置成分别在连接到所述多个导轨时滑动。6.根据权利要求4所述的衬底处理系统,其中所述升降轴构件还包括沿所述螺杆轴延伸的竖直框架,以支撑所述螺杆轴和所述多个导轨。7.根据权利要求1所述的衬底处理系统,还包括:第一功能模块和第二功能模块,分别提供到相应的第一处理管道和第二处理管道,且对称地布置,同时在所述第一处理管道和所述第二处理管道的相应的处理管道的中心处与所述第一轴的竖直轴偏离。8.根据权利要求7所述的衬底处理系统,其中所述第一功能模块和所述第二功能模...

【专利技术属性】
技术研发人员:姜盛晧金苍乭崔圭镐
申请(专利权)人:株式会社尤金科技
类型:发明
国别省市:韩国,KR

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1