基板处理装置、清洗单元以及多联阀清洗方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种有效清洗多联阀的基板处理装置、清洗单元、以及多联阀清洗方法。该基板处理装置具备：罐，其用于供给药液；多联阀，其能够选择性地供给多种处理液；以及处理液喷嘴，其使用从多联阀供给的处理液对基板进行处理，而且，能够在用于对基板进行处理的基板处理模式和至少用于清洗多联阀的清洗模式进行切换，在清洗模式下，在不经由处理液喷嘴而经由罐和多联阀的路径、即清洗路径中，从罐向多联阀供给药液。联阀供给药液。联阀供给药液。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置、清洗单元以及多联阀清洗方法


[0001]本申请说明书公开的技术涉及基板处理技术。成为处理对象的基板例如包括半导体晶圆、液晶显示装置用玻璃基板、有机EL(electroluminescence)显示装置等flat panel display(FPD，平板显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、磁光盘用基板、光掩膜用玻璃基板、陶瓷基板、场致发射显示器(field emission display，即FED)用基板、或太阳能电池用基板等。

技术介绍

[0002]在基板处理装置中，基板的处理使用多种处理液，因此，存在设有多联阀的情况，该多联阀是能够选择性地供给多种处理液中的一种的阀单元(例如参见专利文献1)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2019
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012791号公报

技术实现思路

[0006]专利技术所要解决的课题
[0007]上述的多联阀是从连接于上游侧的多个配管分别供给处理液的构造，由于是配管连接集中的部位，因此污垢本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：罐，其用于供给药液；多联阀，其被供给用于对基板进行处理的多种处理液，且能够选择性地供给多种上述处理液中的至少一个；以及处理液喷嘴，其用于使用从上述多联阀供给的上述处理液对上述基板进行处理，能够在用于对上述基板进行处理的基板处理模式和至少用于清洗上述多联阀的清洗模式进行切换，在上述基板处理模式下，通过供给到上述处理液喷嘴的上述处理液对上述基板进行处理，在上述清洗模式下，在不经由上述处理液喷嘴而经由上述罐和上述多联阀的路径即清洗路径中，从上述罐向上述多联阀供给上述药液。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述药液是多种上述处理液中的一个。3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，在上述清洗路径中的上述罐的下游且上述多联阀的上游的位置还具备：多个供给配管，其被供给上述药液；以及至少一个连接配管，其以跨越的方式连接于多个上述供给配管。4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，上述连接配管容纳于容纳上述多联阀的箱体内。5.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，上述连接配管容纳于容纳上述罐及上述多联阀的框体内。6.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，上述多联阀具备使多个上述供给配管的每一个开闭的多个选择阀，在上述清洗模式下，多个上述供给配管中的至少一个通过对应的上述选择阀开闭。7.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，在上述清洗模式下，上述药液在上述清洗路径中循环。8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，还具备：用于供给冲洗液的冲洗液供给源；以及对上述多联阀内进行吸引的吸引部，在上述清洗模式下，在上述清洗路径中的上述药液的循环之后，向上述多联阀供给上述冲洗液，并进一步地利用上述吸引部对上述多联阀内进行吸引。9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，在上述清洗模式下，多次反复进行上述清洗路径中的上述药液的循环、上述药液的循环后的上述冲洗液的供给以及上述冲洗液的供给后的上述多联阀内的吸引。10.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，在上述清洗模式下，上述药液的供给压力发生变动。11.一种清洗单元，其特征在于，具...

【专利技术属性】
技术研发人员：胁田明日香，野村高幸，藤原友则，小路丸友则，东克荣，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：