衬底处理装置及衬底处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理装置(100)具备处理槽(2)、衬底保持部(130)、气泡供给部件(4)、处理液补充部件(5)、及控制部(111)。处理槽(2)贮存处理液(LQ)。衬底保持部(130)在处理槽(2)内保持衬底(W)，并使衬底(W)浸渍在处理槽(2)中所贮存的处理液(LQ)中。气泡供给部件(4)对浸渍在处理液(LQ)中的衬底(W)的表面供给气泡。处理液补充部件(5)向处理槽(2)中补充处理液(LQ)。控制部(111)相应于从气泡供给部件(4)供给的气泡的量阶段性地或逐步地减少，而从处理液补充部件(5)补充处理液(LQ)。件(5)补充处理液(LQ)。件(5)补充处理液(LQ)。

【技术实现步骤摘要】
衬底处理装置及衬底处理方法


[0001]本专利技术涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。

技术介绍

[0002]已知有通过将衬底浸渍在处理槽中所贮存的处理液中而对衬底进行处理的衬底处理装置。这种衬底处理装置中的一种是在衬底处理过程中对处理槽中所贮存的处理液供给气泡(例如，参照专利文献1)。
[0003][
技术介绍
文献][0004][专利文献][0005][专利文献1]日本专利特开2006
‑
100493号公报

技术实现思路

[0006][专利技术要解决的问题][0007]然而，在衬底处理过程中对处理液供给气泡的衬底处理装置中，在衬底处理结束后停止供给气泡时处理液的液面会下降，因此，根据衬底处理过程中的气泡供给量，有可能在衬底处理结束后衬底的一部分从处理液的液面露出。衬底的一部分从处理液的液面露出时，这一部分与其它部分相比，接触处理液的时间变短。因此，在衬底的面内接触处理液的时间产生偏差。结果为，衬底的面内均匀性有可能降低。
[0008]本专利技术是鉴于所述问题而完成的，目的在于提供一种在衬底的面内本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种衬底处理装置，具备：处理槽，贮存处理液；衬底保持部，在所述处理槽内保持衬底，使所述衬底浸渍在所述处理槽中所贮存的所述处理液中；气泡供给部件，对浸渍在所述处理液中的所述衬底的表面供给气泡；处理液补充部件，向所述处理槽中补充所述处理液；及控制部，相应于从所述气泡供给部件供给的所述气泡的量阶段性地或逐步地减少，而从所述处理液补充部件补充所述处理液。2.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其还具备存储部，所述存储部存储数据，所述数据规定与从所述气泡供给部件供给的所述气泡的量对应的物理量和从所述处理液补充部件补充的所述处理液的量的关系，且所述控制部基于所述数据，控制从所述处理液补充部件补充的所述处理液的量。3.根据权利要求1或2所述的衬底处理装置，其还具备：气体供给配管，对所述气泡供给部件供给气体；及流量调整部，调整在所述气体供给配管中流通的所述气体的流量。4.根据权利要求1或2所述的衬底处理装置，其还具备处理液补充部，...

【专利技术属性】
技术研发人员：高桥朋宏，武知圭，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：