衬底处理系统及衬底处理方法技术方案

本发明专利技术涉及一种衬底处理系统及衬底处理方法。衬底处理系统具备：第1衬底保持单元，包含从下侧与具有保护对象面及所述保护对象面相反侧的洗净对象面的衬底对向的第1基座，将所述衬底以所述保护对象面朝向上侧的第1姿势保持；保护膜涂布喷嘴，对于由所述第1衬底保持单元保持的所述衬底的所述保护对象面，至少在周缘部涂布保护膜；第1翻转单元，与所述衬底的周缘部接触并使所述衬底翻转，以使得所述衬底的姿势从所述第1姿势变化为所述保护对象面朝向下侧的第2姿势；第2衬底保持单元，包含从下侧与所述衬底对向的第2基座，将所述衬底以所述第2姿势保持；以及洗净单元，将由所述第2衬底保持单元保持的所述衬底的所述洗净对象面洗净。洗净。洗净。

【技术实现步骤摘要】
衬底处理系统及衬底处理方法
[0001][相关申请的交叉引用][0002]本申请对应于2020年12月28日向日本专利厅提出申请的特愿2020
‑
219355号，本申请的全部揭示通过引用并入此文中。


[0003]本专利技术涉及一种处理衬底的衬底处理系统、及处理衬底的衬底处理方法。作为处理对象的衬底，例如包含半导体晶圆、液晶显示装置及有机EL(Electroluminescence，电致发光)显示装置等FPD(Flat Panel Display，平板显示器)用衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、磁光盘用衬底、光罩用衬底、陶瓷衬底、太阳电池用衬底等。

技术介绍

[0004]日本专利特开2018
‑
56466号公报中揭示了一种衬底处理装置，其是利用IPA(异丙醇)对衬底的上表面即器件面进行处理之后，将衬底的下表面即非器件面洗净。

技术实现思路

[0005]在日本专利特开2018
‑
56466号公报中，以非器件面朝向下侧的状态，将非器件面洗净。在非器件面的下侧配置着旋转基座等部件本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种衬底处理系统，具备：第1衬底保持单元，包含从下侧与具有保护对象面及所述保护对象面相反侧的洗净对象面的衬底对向的第1基座，将所述衬底以所述保护对象面朝向上侧的第1姿势保持；保护膜涂布喷嘴，对于由所述第1衬底保持单元保持的所述衬底的所述保护对象面，至少在周缘部涂布保护膜；第1翻转单元，与所述衬底的周缘部接触并使所述衬底翻转，以使得所述衬底的姿势从所述第1姿势变化为所述保护对象面朝向下侧的第2姿势；第2衬底保持单元，包含从下侧与所述衬底对向的第2基座，将所述衬底以所述第2姿势保持；以及洗净单元，将由所述第2衬底保持单元保持的所述衬底的所述洗净对象面洗净。2.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中所述第1衬底保持单元包含第1吸附保持单元，该第1吸附保持单元使所述洗净对象面的中央部吸附在所述第1基座，而保持所述衬底。3.根据权利要求1或2所述的衬底处理系统，其中所述第2衬底保持单元包含多个夹盘销，这些夹盘销支撑在所述第2基座上，与所述衬底的所述保护对象面的周缘部接触。4.根据权利要求1或2所述的衬底处理系统，其中所述保护膜涂布喷嘴构成为对所述衬底的整个所述保护对象面涂布所述保护膜，所述第2衬底保持单元包含第2吸附保持单元，该第2吸附保持单元使所述保护对象面的中央部吸附在所述第2基座而保持所述衬底。5.根据权利要求1或2所述的衬底处理系统，其中所述洗净单元包含喷雾嘴，该喷雾嘴通过朝向所述洗净对象面喷射洗净液的液滴，而对所述洗净对象面执行喷雾洗净。6.根据权利要求1或2所述的衬底处理系统，其中所述洗净单元包含洗净部件，该洗净部件与所述衬底的所述洗净对象面接触，将所述洗净对象面刷洗洗净。7.根据权利要求1或2所述的衬底处理系统，其还具备：第2翻转单元，与所述衬底的周缘部接触并使所述衬底翻转，以使得所述衬底的姿势从所述第2姿势变化为所述第1姿势；第3衬底保持单元，包含从下侧与所述衬底对向的第3基座，将所述衬底以所述第1姿势保持；以及去除液喷嘴，将从所述保护对象面去除所述保护膜的去除液供给至由所述第3衬底保持单元保持的所述衬底的所述保护对象面。8.根据权利要求7所述的衬底处理系统，其中所述第1衬底保持单元兼作为所述第3衬底保持单元。9.根据权利要求1或2所述的衬底处理系统，其还具备：第2翻转单元，与所述衬底的周缘部接触并使所述衬底翻转，以使得所述衬底的姿势从所述第2姿势变化为所述第1姿势；第3衬底保持单元，包含从下侧与所述衬底对向的第3基座，将所述衬底以所述第1姿势保持；以及干式去除单元，通过对所述保护对象面执行等离子体处理或光...

【专利技术属性】
技术研发人员：石井弘晃，石井淳一，本庄一大，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：