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ASML荷兰有限公司专利技术
ASML荷兰有限公司共有3480项专利
水平传感器和光刻设备制造技术
本发明提供了一种用于测量衬底的表面的位置的水平传感器,包括:投影单元,被布置成将辐射束引导至所述衬底的所述表面;和检测单元。所述检测单元包括:检测光栅,被布置成接收在所述衬底的所述表面上反射的辐射束;一个或更多个检测器;一个或更多个光学...
用于扫描曝光装置的控制方法制造方法及图纸
公开了一种用于控制扫描曝光装置的方法,该扫描曝光装置被配置用于扫描衬底上的照射轮廓以在衬底上形成功能区域。该方法包括:在扫描曝光操作中,确定用于在包括功能区域的曝光场的曝光期间动态控制照射轮廓的控制轮廓;以及优化个体功能区域的曝光质量。...
用于监测和控制液滴生成器性能的装置和方法制造方法及图纸
一种控制用于生成EUV辐射的液滴的形成的装置和方法,该装置和方法包括产生被引导至照射区域的激光束和液滴源的布置。液滴源包括离开喷嘴的流体和具有可电致动元件的子系统,该可电致动元件在流体中产生扰动。液滴源产生束流,该束流分裂成液滴,当液滴...
衬底保持器、光刻设备和制造器件的方法技术
一种用在光刻设备中并且配置成支撑衬底的衬底保持器(WT),该衬底保持器包括:主体(20),具有主体表面;多个突节(21),从主体表面突出,其中,每个突节都具有配置成与衬底接合的远端,突节的远端的形状大致与支撑平面保持一致,由此使得衬底能...
控制EUV光源中的碎片的装置和方法制造方法及图纸
公开了一种EUV系统,该EUV系统包括用于以液体形式累积目标材料碎片的措施,其中目标材料被阻隔喷吐到光学元件上,并且在其中可以引起目标材料固化并且然后传送到目标材料可以被熔融并且被允许排掉而不会污染收集器的位置。
用于图案的语义分段的深度学习制造技术
本发明描述了一种用于训练图案化过程的深度学习模型的方法。该方法包括获得(i)训练数据,该训练数据包括具有多个特征的衬底的至少一部分的输入图像和真实图像;(ii)类别集,每个类别对应于输入图像内衬底的多个特征的特征;和(iii)深度学习模...
量测方法和相关装置制造方法及图纸
公开了一种用于确定与特征的边缘有关的边缘位置的方法和相关装置,特征被包括在包括噪声的图像(诸如扫描电子显微镜图像)内。该方法包括从图像确定参考信号;以及确定相对于上述参考信号的边缘位置。通过在与估计边缘位置的初始轮廓平行的方向上应用图像...
使用图像平面检测技术测量关注的参数的方法和设备技术
本文描述了检查设备、方法和与之相关联的系统。在非限制性实施例中,检查设备包括光学系统和成像系统。光学系统可被配置成输出入射到包括一个或更多个特征的目标上的照射束,并且当入射到目标上时被偏振以具有第一偏振。成像系统可被配置成获得表示由一个...
检查系统、光刻设备和检查方法技术方案
描述了一种检查系统,该系统包括:‑选择性沉积工具,该选择性沉积工具被配置成:‑接收样本;‑将材料选择性地沉积到样本上;‑检查工具,该检查工具被配置成:‑对设置有所沉积的材料的样本执行检查过程;‑外壳,该外壳被配置成包围封闭选择性沉积工具...
用于加速抗蚀剂和蚀刻模型校准的实时调节方法技术
本公开涉及一种用于加速制作过程模型的校准的方法,该方法包括执行以下的一次或更多次迭代:定义一个或更多个制作过程模型项;接收与所述一个或更多个制作过程模型项有关的预先确定的信息;基于所述预先确定的信息生成制作过程模型,所述制作过程模型被配...
检查工具和检查方法技术
描述了一种检查半导体样本的方法,样本包括具有多个开口的结构,这些开口位于结构的顶层,方法包括以下步骤:‑使用SEM生成结构的图像;‑通过以下方式检查多个开口中的一个开口:‑基于图像确定开口的尺寸;并且‑基于图像的对比度来确定开口的打开状...
用于光刻设备的定位系统技术方案
一种用于定位结构的定位系统包括致动器和控制单元,该控制单元响应于由控制单元接收的位置设定点来控制致动器。致动器包括磁体组件以及线圈组件,该磁体组件包括被配置为提供磁通量的磁体,其中线圈组件和磁体组件相对于彼此可移动,线圈组件包括线圈,线...
用于确定图案形成装置的曲线图案的方法制造方法及图纸
本文描述了一种用于确定图案形成装置的曲线图案的方法,所述方法包括:获得(i)对应于待印制于经受图案化过程的衬底上的目标图案的所述图案形成装置的初始图像和(ii)配置成根据所述初始图像预测所述衬底的上的图案的过程模型;通过硬件计算机系统从...
延长EUV光刻系统中的光学元件的使用寿命技术方案
通过气体到包含光学元件的真空室(26)中的受控引入,减少用于生成EUV辐射的系统(SO)中的一个或多个反射光学元件的反射率的劣化。该气体可以被添加到诸如氢气的另一气体流中,或者与氢自由基的引入交替。
形成图案化的材料层的方法和设备技术
本发明公开用于形成图案化的材料层的方法和设备。在一种布置中,在沉积过程期间利用具有小于100nm的波长的电磁辐射来辐照衬底的表面的选定部分。此外,电场控制器被配置成施加被定向以便迫使二次电子远离所述衬底的电场。所述辐照在选定区中局部地驱...
石墨烯表膜光刻设备制造技术
披露了一种催化剂,包括:第一层,所述第一层包括钼;基层;和中间层,其中所述中间层被设置在所述基层与所述第一层之间。也披露了制备催化剂的方法以及用于合成石墨烯的方法、使用本文中所披露的所述催化剂或所述方法而生产的表膜,以及包括这样的膜的光...
控制系统和方法技术方案
一种用于控制激光器的控制系统,包括:用于感测物理值的传感器,物理值指示由激光器发出的激光束的特性;开关;第一控制器和第二控制器。每个控制器被配置为:从传感器接收又一传感器值;基于接收到的又一传感器值调整接收到的设定点值以给出输出值;并且...
具有改善的信号电子检测性能的多束检测设备制造技术
本公开提出了一种用于将多个电子束引导到电子检测装置上的光电系统的交叉形成偏转器阵列。交叉形成偏转器阵列包括位于光电系统的一个或多个光电透镜的集合的图像平面处或至少附近的多个交叉形成偏转器,其中每个交叉形成偏转器与多个电子束中的对应的电子...
辐射屏蔽装置和包括这样的屏蔽装置的设备制造方法及图纸
一种设备包括:热敏装置(F);辐射元件(RE),辐射元件在操作中生成第一电磁辐射(ER),第一辐射朝向热敏装置传播;以及辐射屏蔽装置(20),布置在辐射元件与热敏装置之间使得在操作中第一辐射入射在辐射屏蔽装置上。辐射屏蔽装置包括:具有布...
用于形成碳的图案化层的方法和装置、形成材料的图案化层的方法制造方法及图纸
公开了用于形成碳的图案化层的方法和装置。在一种布置中,在存在含碳前体的情况下,利用极紫外辐射来辐照固体结构的表面的选定部分。辐射与选定部分中的固体结构相互作用,以导致在选定部分中从含碳前体形成碳的层。该碳的层以由选定部分限定的图案形成。
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