一种用于确定衬底上的结构的感兴趣的特性的量测设备，所述结构具有衍射性质，所述设备包括：聚焦光学器件，所述聚焦光学器件被配置成将包括多个波长的照射辐射聚焦至所述结构上；第一检测器，所述第一检测器被配置成检测已从所述结构被衍射的照射辐射的至...

已经公开了一种用于多光束检查的多光束装置，其具有改进的源转换单元，该改进的源转换单元具有高电气安全性、机械可用性以及机械稳定性。该源转换单元包括具有多个图像形成元件的图像形成元件阵列、具有多个微补偿器的畸变补偿器阵列、以及具有多个预弯曲...

本文公开了一种方法，包括：通过多个带电粒子束在样品上生成多个探针斑(310A‑310C)；在横跨样品上的区域(300)扫描多个探针斑的同时，从多个探针斑记录多个信号集合，多个信号集合分别表示多个带电粒子束与样品的相互作用；分别根据多个信...

描述了一种用于确定与在衬底上的至少一个结构相关的感兴趣的特性的量测系统、和相关联的方法。所述量测系统包括处理器，所述处理器配置成根据被检测到的散射辐射的特性以计算的方式确定相位和振幅信息，作为在测量获取中用照射辐射来照射所述至少一个结构...

一种用于从设备(140，MT)的部件(202、204)移除污染物颗粒(205)的设备(300)，所述污染物颗粒产生环境电场(E)，所述设备包括：用于吸引所述颗粒的收集区域(301)，其中，所述环境电场至少在所述部件与所述收集区域之间；和...

本文中描述一种方法。所述方法包括：获得(i)所述特征的参数的测量结果、(ii)与图案化过程的过程变量相关的数据、(iii)基于所述参数的所述测量结果和与所述过程变量相关的所述数据而被定义为所述过程变量的函数的所述参数的函数行为、(iv)...

一种方法，包括：获得图案化过程的过程模型，所述过程模型包括或考虑用于图案化过程的多个设备的光学系统的平均光学像差；和应用所述过程模型以确定对所述图案化过程的参数的调整从而考虑所述平均光学像差。

本文中描述了一种用于确定对图案化过程的校正的方法。该方法包括：获得图案化过程的多个品质(例如多个参数映射，或者一个或更多个校正)，所述多个品质是从量测数据以及在图案化过程中使用的设备的数据导出的；由硬件计算机系统从所述多个品质中选择代表...

本文描述了一种用于校准抗蚀剂模型的方法。该方法包括以下步骤：基于抗蚀剂结构的模拟空间图像和抗蚀剂模型的参数来产生抗蚀剂结构的模型化抗蚀剂轮廓；以及基于由量测装置获得的实际抗蚀剂结构的信息，根据模型化抗蚀剂轮廓来预测抗蚀剂结构的量测轮廓。...

一种确定用于光刻设备的投影系统的配置的方法是具有罚函数的二次规划问题的实现。该方法包括：接收投影系统的光学性质对投影系统的多个操纵器的配置的依赖性；接收与所述操纵器的物理约束相对应的多个约束；查找操纵器的初始配置；以及迭代地查找操纵器的...

公开了一种光刻设备包括：可移动的平台，包括配置成支撑图案形成装置的支撑结构；投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；和板，定位在可移动的平台和投影系统之间；板包括：第一表面，面对可移动的平台；第二表面，面对投影系统；开口...

披露了一种预测形成于衬底上的多个特征的主导故障模式和/或故障率的方法，以及相关联的检查设备。所述方法包括：确定每个特征的放置指标，所述放置指标包括所述特征是否处于预期位置的量度；和比较所述放置指标的分布与参考(例如，高斯)分布。所述放置...

本发明提供一种被配置成将浸没流体限制至光刻设备的区域的流体处置结构，所述流体处置结构包括：孔，所述孔在所述流体处置结构中形成以使辐射束经由所述浸没流体行进通过所述孔，所述孔限定将要填充有所述浸没流体的浸没空间；以及内部部分和外部部分；其...

公开了一种用于控制光刻设备的方法以及相关设备。该方法被配置为在光刻过程中向衬底提供产品结构，并且包括确定优化数据。优化数据包括至少一个性能参数的被测量的数据和/或被模拟的数据，该至少一个性能参数与将要在光刻过程中施加到衬底上的产品结构和...

一种用于确定与用于光刻设备(LA)中的表膜(19)相关的状态的设备，该设备包括传感器(26、32、52、60)，其中，该传感器(26、32、52、60)被配置为测量与该表膜(19)相关的属性，该属性指示表膜状态。

一种装置包括：容器；将目标引向容器中的交互区域的目标传递系统，该目标包括在处于等离子体状态时发射极紫外光的目标物质；以及量测装置。量测装置包括具有被配置为测量目标物质的通量的测量表面的测量系统和被配置为再生测量系统的再生工具。再生包括：...

一种用于光刻设备中并且配置成支撑衬底的衬底保持器(WT)，该衬底保持器包括：主体(21)，具有主体表面；多个突节(20)，从主体表面突出以支撑衬底使得衬底与主体表面分隔开；和液体控制结构(200)，设置在主体表面的周边区域(22a)中并...

本发明涉及一种用于制造包括第一部分和第二部分的阻尼装置的方法，该方法包括以下步骤：a)在第一部分和第二部分之间的空间中提供阻尼材料，使得阻尼材料在该空间中处于压缩状态；和b)将该阻尼装置加热至预定温度，以便将阻尼材料粘附到第一部分和第二...

本发明提供了一种用于光刻设备的衬底保持器。衬底保持器被配置成支撑衬底，且包括主体、多个支撑元件和密封单元。主体具有主体表面。多个支撑元件从主体表面突伸出，并且每个支撑元件具有配置成支撑衬底的远端端面。密封单元可以包括第一密封构件，该第一...

本发明提供了一种表膜框架附接设备，被配置成容纳图案形成装置和包括表膜框架和表膜的表膜组件，所述表膜附接设备包括被配置用以对设置于表膜框架上的子安装台的接合机构进行操作的操纵器，其中所述操纵器突出穿过设置于分隔区中的开口或从所述开口突出，...