衬底保持器、光刻设备及制造器件的方法技术

一种用于光刻设备中并且配置成支撑衬底的衬底保持器(WT)，该衬底保持器包括：主体(21)，具有主体表面；多个突节(20)，从主体表面突出以支撑衬底使得衬底与主体表面分隔开；和液体控制结构(200)，设置在主体表面的周边区域(22a)中并且配置成使得液体优先朝向主体表面的周边流动。

【技术实现步骤摘要】
衬底保持器、光刻设备及制造器件的方法相关申请的交叉引用本申请要求2015年12月15日递交的欧洲申请15200143.4的优先权。
本专利技术涉及衬底保持器、使用该衬底保持器的光刻设备、以及使用该衬底保持器制造器件的方法。
技术介绍
光刻设备是将所需的图案施加到衬底上(通常施加至衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造。在那种情况下，可替代地被称作掩模或掩模版的图案形成装置可以用于产生待形成于IC的单层上的电路图案。可以将该图案转印至衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如，包括管芯的一部分、一个管芯或多个管芯)上。通常，经由成像至设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上而进行图案之转印。通常，单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进器和所谓的扫描器；在步进器中，通过将整个图案一次曝光到目标部分上来辐射每一个目标部分；在扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。另外，能够通过将图案压印到衬底上而将图案从图案形成装置转印到衬底上。已提出将光刻投影设备中的衬底浸没于具有相对高折射率的液体(例如水)中，以便填充投影系统的最终光学元件与衬底之间的空间。在实施例中，液体是蒸馏水，尽管可以使用其它液体。将参考液体来描述本专利技术的实施例。然而，它流体可能是合适的，特别是湿润流体、不可压缩流体和/或折射率高于空气的折射率(理想地高于水的折射率)的流体。除气体以外的流体是特别理想的。这一点的意思是实现更小特征的成像，这是因为曝光辐射在液体中将具有较短的波长(液体的效果也可以被视为增加系统的有效数值孔径(NA)并且增加焦深)。已提出的其它浸没液体包括悬浮有固体颗粒(例如石英)的水，或具有纳米颗粒悬浮物(例如最大尺寸高达10nm的颗粒)的液体。悬浮颗粒可以具有或可以不具有与悬浮有所述粒子的液体的折射率相似或相同的折射率。可能合适的其它液体包括烃，诸如芳族、氟代烃和/或水溶液。在光刻设备中，普遍地使用用于支撑衬底的具有多个突节的衬底保持器。衬底在曝光期间通常被夹持到衬底保持器。在浸没光刻设备中，液体在曝光期间可以进入衬底与衬底保持器之间的空间中。这种液体的存在可能使得在衬底被曝光之后更加难以从衬底保持器卸除该衬底。
技术实现思路
例如，期望提供一种改善的衬底保持器，该衬底保持器可以避免现有技术中在液体已进入衬底与衬底保持器之间的空间中的情况下从该衬底保持器卸除该衬底时所经历的困难。根据本专利技术的一方面，提供一种用于光刻设备中并且配置成支撑衬底的衬底保持器，所述衬底保持器包括：主体，具有主体表面；多个突节，从所述主体表面突出以支撑所述衬底使得所述衬底与所述主体表面分隔开；和液体控制结构，所述液体控制结构设置在所述主体表面的周边区域中并且配置成使得液体优先朝向所述主体表面的周边流动。根据本专利技术的一方面，提供一种用于光刻设备中并且配置成支撑衬底的衬底保持器，所述衬底保持器包括：主体，具有主体表面；多个突节，从所述主体表面突出，以支撑所述衬底，所述衬底与所述主体表面分隔开；和液体控制结构，设置在所述主体表面的周边区域中，并且配置成阻碍液体跨过所述周边区域朝向所述主体表面的中心移动，但不妨碍气体跨过所述周边区域移动。根据本专利技术的一方面，提供一种使用光刻设备制造器件的方法，所述光刻设备具有如以上所描述的衬底保持器及用于将衬底夹持到所述衬底保持器的夹具系统，所述方法包括：将所述衬底装载到所述衬底保持器上；接合所述夹具系统；将图案曝光到所述衬底上；释放所述夹具系统；和使所述衬底提升离开所述衬底保持器。附图说明现在参照随附的示意性附图来仅以举例的方式描述本专利技术的实施例。在附图中，相应的附图标记表示相应的部件，其中：图1示意性地描绘了一种光刻设备；图2示意性地描绘了用于光刻投影设备中的浸没液体限制结构；图3是示意性地描绘了另一种浸没液体供给系统的侧视截面图；图4以横截面描绘了常规的局域浸没型光刻设备中的衬底保持器及衬底；图5以横截面描绘了根据本专利技术的一个实施例的衬底保持器的一部分；图6以横截面描绘了根据本专利技术的一个实施例的另一种衬底保持器的一部分；图7是根据本专利技术的实施例的原位的衬底保持器的一部分的平面图；图8是本专利技术的实施例中的沟道的一些部分的放大透视图；图9a至图9f是解释本专利技术的实施例的沟道中的优先流动的示意图；图10描绘了根据本专利技术的另一个实施例的衬底保持器；图11是图10的衬底保持器的部分的放大视图；图12和图13描绘了具有具不同接触角的多个区域的表面上的液滴的行为；图14和图15描绘了具有具不同接触角的区域的表面上的一个液滴的行为；图16以平面图描绘了根据本专利技术的实施例的衬底保持器的一部分；和图17以横截面描绘了根据本专利技术的实施例的衬底保持器的一部分。具体实施方式图1示意性地描绘了根据本专利技术的实施例的光刻设备。该设备包括：-照射系统(照射器)IL，配置成调节辐射束B(例如UV辐射或DUV辐射)；-支撑结构(例如掩模台)MT，构造成支撑图案形成装置(例如掩模)MA并且连接到第一定位器PM，该第一定位器PM配置成根据特定参数来准确地定位该图案形成装置MA；-支撑台，例如传感器台，用于支撑一个或更多个传感器或者构造成保持衬底(例如抗蚀剂涂覆生产衬底)W的衬底支撑设备60，该支撑台连接到第二定位器PW，该第二定位器PW配置成根据特定参数来精确地定位(例如衬底W的)所述台的表面；和-投影系统(例如折射式投影透镜系统)PS，配置成将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C(例如包括管芯的一部分、一个管芯或更多个管芯)上。照射系统IL可以包括多种类型的光学部件，诸如折射型、反射型、磁性型、电磁型、静电或其它类型的光学部件，或者它们的任何组合，用以对辐射进行引导、成形或控制。支撑结构MT保持图案形成装置MA。支撑结构MT以依赖于图案形成装置MA的方向、光刻设备的设计、以及诸如图案形成装置MA是否被保持在真空环境中等其它条件的方式保持图案形成装置MA。支撑结构MT可以使用机械的、真空的、静电的或其它夹持技术来保持图案形成装置MA。支撑结构MT可以是框架或台，例如，它可以根据需要而是固定的或者可移动的。支撑结构MT可以确保图案形成装置MA例如相对于投影系统PS处于期望的位置。可以认为本文中使用的任何术语“掩模版”或“掩模”与更加上位的术语“图案形成装置”同义。本文中使用的术语“图案形成装置”应该被广义地解释为是指任何能够用于将图案在辐射束的横截面中赋予辐射束以便在衬底的目标部分中形成图案的装置。应该注意的是，被赋予辐射束的图案可能不与在衬底的目标部分中期望的图案完本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种衬底保持器，所述衬底保持器用于光刻设备中并且配置成支撑衬底，所述衬底保持器包括：/n主体，具有主体表面；/n多个突节，从所述主体表面突出以支撑所述衬底，所述衬底与所述主体表面分隔开；/n液体控制构件，位于所述衬底保持器的外部部分的顶部上，以便形成所述主体表面的周边部分；和/n液体控制结构，设置在所述液体控制构件上，并且配置成使得液体优先朝向所述主体表面的周边流动。/n

【技术特征摘要】
20151215 EP 15200143.41.一种衬底保持器，所述衬底保持器用于光刻设备中并且配置成支撑衬底，所述衬底保持器包括：
主体，具有主体表面；
多个突节，从所述主体表面突出以支撑所述衬底，所述衬底与所述主体表面分隔开；
液体控制构件，位于所述衬底保持器的外部部分的顶部上，以便形成所述主体表面的周边部分；和
液体控制结构，设置在所述液体控制构件上，并且配置成使得液体优先朝向所述主体表面的周边流动。


2.根据权利要求1所述的衬底保持器，其中，所述衬底保持器与所述外部部分通过热间隙分离开，从而使得液体控制构件跨过所述热间隙。


3.根据权利要求1所述的衬底保持器，还包括桥接件，所述桥接件将所述衬底保持器连接到所述衬底保持器的所述外部部分，所述液体控制构件延伸跨过所述桥接件。


4.根据权利要求1-3中任一项所述的衬底保持器，其中，所述液体控制结构包括从所述周边区域的内侧延伸至所述周边区域的外侧的多个沟道。


5.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：G·纳齐博格鲁，C·H·M·伯尔蒂斯，S·A·特姆普，Y·J·G·范德维基沃尔，B·D·斯霍尔滕，D·D·J·A·范索姆恩，M·J·H·弗雷肯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL