表膜框架附接设备制造技术

技术编号:25039564 阅读:19 留言:0更新日期:2020-07-29 05:31
本发明专利技术提供了一种表膜框架附接设备,被配置成容纳图案形成装置和包括表膜框架和表膜的表膜组件,所述表膜附接设备包括被配置用以对设置于表膜框架上的子安装台的接合机构进行操作的操纵器,其中所述操纵器突出穿过设置于分隔区中的开口或从所述开口突出,所述分隔区使容纳表膜组件的受控环境与所述表膜框架附接设备的其他部分分。

【技术实现步骤摘要】
表膜框架附接设备本申请是申请日为2015年11月16日、申请号为201580062459.7、专利技术名称为“设备”的专利申请的分案申请。相关申请的交叉引用本申请主张2014年11月17日提交的美国申请62/080,561,2015年1月27日提交的美国申请62/108,348,2015年2月2日提交的美国申请62/110,841,2015年2月27日提交的美国申请62/126,173,2015年4月17日提交的美国申请62/149,176,和2015年6月23日提交的美国申请62/183,342的优先权,并且它们通过援引而全文合并到本专利技术中。
本专利技术涉及设备。所述设备可结合用于光刻设备的表膜而使用。
技术介绍
光刻设备是被构造用以将所需图案施加至衬底上的机器。光刻设备可用于例如集成电路(IC)的制造中。光刻设备可例如将图案从图案形成装置(例如,掩模)投影到设置于衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。由光刻设备所使用以将图案投影至衬底上的辐射的波长确定出能够形成于所述衬底上的特征的最小尺寸。与常规的光刻设备(其可例如使用具有193nm波长的电磁辐射)相比,使用作为具有在4nm至20nm的范围内的波长的电磁辐射的EUV辐射的光刻设备可被用于在衬底上形成较小特征。用于将图案赋予给光刻设备中的辐射束的图案形成装置(例如,掩模)可形成掩模组件的部分。掩模组件可包括保护所述图案形成装置免受颗粒污染的表膜。表膜可由表膜框架支撑。可能需要提供避免或减少与现有技术相关联的一个或更多个问题的设备。
技术实现思路
根据本专利技术的第一方面,提供一种表膜附接设备,包括:支撑结构,被配置成支撑表膜框架;和表膜运输系统,被配置成将表膜放置至所述表膜框架上,其中所述设备还包括致动器,所述致动器被配置成在将所述表膜放置于所述表膜框架上之前提供所述表膜框架与所述表膜之间的相对移动。所述致动器允许在将所述表膜放置于所述表膜框架上之前实现在所述表膜框架与所述表膜之间的对准,因此允许所述表膜相对于所述表膜框架的准确定位。所述致动器可被配置成相对于所述表膜来移动所述支撑结构且因此移动所述表膜框架。所述表膜运输系统可包括被配置用以保持所述表膜的支撑臂。每个支撑臂可包括导管,所述导管被配置成将真空传递至所述臂的底脚。所述底脚可被确定尺寸以容纳所述表膜的边界的部分。所述支撑臂可从连接器臂向下延伸,所述连接器臂从所述表膜运输系统的框架延伸。所述连接器臂可包括允许所述连接器臂在大致竖直方向上移动的一个或更多个板簧。可调整式末端止挡件可从所述表膜运输系统框架突出,且防止所述连接器臂的向下移动超出预定位置。波纹管可延伸于所述支撑臂与所述表膜运输系统框架之间,所述波纹管将所述支撑臂中的所述导管连接至所述框架中的导管。所述支撑结构可包括被定位用以允许表膜边界边缘和/或表膜框架边缘从所述支撑结构的相对侧可见的窗。成像传感器可被设置于所述窗的一侧上,且被配置成透视所述窗来观察在所述窗的相反侧上的所述表膜边界边缘和/或表膜框架边缘。对准标记可被提供于所述窗上。所述表膜附接设备还可包括臂,所述臂被配置成当所述表膜已经放置于所述表膜框架上时向下按压于所述表膜上,由此在所述表膜与所述表膜框架之间的界面处的胶的固化期间将所述表膜保持于所述表膜框架上。每个臂可设置有配重。由所述臂施加至所述表膜的向下压力是由所述配重的沉重性/重量(heaviness)确定。每个臂可包括被配置成挤压抵靠所述表膜的向下延伸指状件。所述指状件可相对于所述臂的其他部分是横向地可移动的。每个臂可从支撑框架延伸,且包括相对于所述支撑框架在大致竖直方向上可移动的部分。每个臂可包括限制所述臂的所述可移动部分相对于所述臂的固定部分的移动的末端止挡件。根据本专利技术的第二方面,提供一种表膜框架附接设备,被配置成容纳图案形成装置和包括表膜框架和表膜的表膜组件,所述表膜附接设备包括被配置用以对设置于表膜框架上的子安装台的接合机构进行操作的操纵器,其中所述操纵器突出穿过设置于分隔区中的开口或从所述开口突出,所述分隔区使容纳表膜组件的受控环境与所述表膜框架附接设备的其他部分分离。所述分隔区包括经定位以允许所述图案形成装置上的表膜边界边缘、表膜框架边缘和/或对准标记从所述分隔区的相对侧可见的窗。成像传感器可被设置于所述窗的一侧上。所述成像传感器被配置成透视所述窗来观察所述图案形成装置上的所述表膜边缘、表膜框架边缘和/或对准标记。对准标记可被设置于所述窗上。所述操纵器可包括连接至致动器的销,所述致动器被配置成在大致竖直方向上移动所述销。所述销可相对于一对钩形臂是可移动的。所述一对钩形臂可被连接至致动器。所述致动器可配置成在大致水平方向上移动所述钩形臂。所述一对钩形臂可被固定至所述分隔区,且所述致动器被配置成一起地移动所述分隔区和所述一对钩形臂。可提供额外销,所述额外销相对于所述可移动销在所述大致竖直方向上是可移动的。所述额外销可相对于所述可移动销被弹性地偏压。所述分隔区可连接至支撑结构的一部分或形成支撑结构的一部分。所述操纵器的末端可设置有坚固材料的涂层。所述表膜框架附接设备可包括在所述受控环境中的气体出口,所述气体出口被配置成在高于所述分隔区的相对侧上的气体压力的压力下供应气体。根据本专利技术的第三方面,提供一种螺柱附接设备,包括被配置成保持图案形成装置的支撑结构和被配置成使螺柱接触所述图案形成装置的螺柱操纵器,其中所述螺柱操纵器由分隔区而与容纳图案形成装置的受控环境分离,所述分隔区包括所述螺柱可突出穿过以便与所述图案形成装置接触的孔。所述螺柱操纵器可以是多个螺柱操纵器中之一,且所述分隔区中的所述孔是多个孔中之一。所述螺柱附接设备可包括在所述受控环境中的气体出口,所述气体出口被配置成在高于所述分隔区的相对侧上的气体压力的压力下供应气体。可围绕所述螺柱操纵器设置密封件。所述密封件在使用中可提供相对于所述图案形成装置的密封以使所述图案形成装置的螺柱容纳部分与所述图案形成装置的其他部分隔离。可提供至少一个气体传递通道和至少一个气体提取通道,经由至少一个气体传递通道和至少一个气体提取通道可向所述图案形成装置的所述螺柱容纳部分提供气体流以及从所述螺柱容纳部分提供气体流。所述密封件可以是泄露式密封件。所述螺柱操纵器可包括加热器。所述分隔区可包括被定位以允许所述图案形成装置上的对准标记从所述分隔区的相对侧可见的窗。成像传感器可被设置于所述窗的一侧上,且被配置成透视所述窗来观察所述图案形成装置上的所述对准标记。运动学连接件可被设置于所述螺柱操纵器与所述支撑结构之间。根据本专利技术的第四方面,提供一种螺柱移除设备,包括:支撑结构,被配置成保持图案形成装置;螺柱夹持器,被配置成容纳和固持从所述图案形成装置突出的螺本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种表膜框架附接设备,被配置成容纳图案形成装置和包括表膜框架和表膜的表膜组件,所述表膜附接设备包括被配置用以对设置于表膜框架上的子安装台的接合机构进行操作的操纵器,其中所述操纵器突出穿过设置于分隔区中的开口或从所述开口突出,所述分隔区使容纳表膜组件的受控环境与所述表膜框架附接设备的其他部分分离。/n

【技术特征摘要】
20141117 US 62/080,561;20150127 US 62/108,348;20151.一种表膜框架附接设备,被配置成容纳图案形成装置和包括表膜框架和表膜的表膜组件,所述表膜附接设备包括被配置用以对设置于表膜框架上的子安装台的接合机构进行操作的操纵器,其中所述操纵器突出穿过设置于分隔区中的开口或从所述开口突出,所述分隔区使容纳表膜组件的受控环境与所述表膜框架附接设备的其他部分分离。


2.根据权利要求1所述的表膜框架附接设备,其中所述分隔区包括经定位以允许所述图案形成装置上的表膜边界边缘、表膜框架边缘和/或对准标记从所述分隔区的相对侧可见的窗。


3.根据权利要求2所述的表膜框架附接设备,其中成像传感器被设置于所述窗的一侧上,且被配置成透视所述窗来观察所述图案形成装置上的所述表膜边缘、表膜框架边缘和/或对准标记。


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【专利技术属性】
技术研发人员:F·范德穆伦马尔滕·M·M·詹森约根·M·阿泽雷L德克·S·G·布龙马克·布鲁因J·德克尔斯保罗·詹森R·H·G·克莱默M·克鲁兹恩卡R·G·M·兰斯勃根M·H·A·李德斯埃里克·洛劳夫·鲁普斯卓G·范德博世J·F·S·V·范罗B·L·MJ·K·韦伯罗根安吉洛·恺撒·皮特·德克勒克J·M·丁斯M·L·J·杨森R·J·J·克尔斯滕斯M·J·M·克斯特斯M·卢斯G·米德尔S·M·赖纳德斯F·J·C·托伊尔蔡特A·J·W·范利芬根
申请(专利权)人:ASML荷兰有限公司
类型:发明
国别省市:荷兰;NL

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