用于制造阻尼装置的方法、光刻设备、投影系统和器件制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于制造包括第一部分和第二部分的阻尼装置的方法，该方法包括以下步骤：a)在第一部分和第二部分之间的空间中提供阻尼材料，使得阻尼材料在该空间中处于压缩状态；和b)将该阻尼装置加热至预定温度，以便将阻尼材料粘附到第一部分和第二部分。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于制造阻尼装置的方法、光刻设备、投影系统和器件制造方法相关申请的交叉引用本申请要求于2017年12月15日提交的欧洲申请17207548.3的优先权，该欧洲申请的全部内容以引用的方式并入本文中。
本专利技术涉及用于制造阻尼装置的方法、这种阻尼装置在光刻设备或投影系统中的用途、以及这样的光刻设备在器件制造方法中的用途。
技术介绍
光刻设备是将期望的图案施加到衬底上(通常将期望的图案施加到衬底的目标部分上)的机器。可以在例如制造集成电路(IC)时使用光刻设备。在这种情况下，可以使用图案形成装置(也被称为“掩模”或“掩模版”)来生成将要形成在IC的单个层上的电路图案。可以将这种图案转印到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括一个或几个管芯、或者管芯的一部分)上。通常通过成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来进行图案的转印。通常，单个衬底将包含被连续地图案化的相邻目标部分的网络。常规的光刻设备包括：所谓的步进器，其中，通过将整个图案一次曝光在目标部分上来辐照每个目标部分；和所谓的扫描器，其中，利用辐射束沿给定方向(“扫描”方向)上对图案进行扫描，同时沿平行或反向平行于该方向的方向同步地扫描衬底，由此辐照每个目标部分。另外，可以通过将图案压印到衬底上来将图案从图案形成装置转印到衬底上。在光刻设备中，阻尼装置用于相对于框架来支撑和隔离诸如光学元件之类的元件。当前，将阻尼材料提供给阻尼装置，尤其是被动阻尼装置需要复杂的制造过程以确保阻尼装置部分和阻尼材料之间可靠的力传递。>
技术实现思路
期望提供一种改进的阻尼装置，特别是一种阻尼器制造过程，该阻尼器相对容易并且确保装置部分和阻尼材料之间可靠的力传递。根据本专利技术的实施例，提供一种用于制造阻尼装置的方法，该阻尼装置包括第一部分和第二部分，该方法包括以下步骤：a)在第一部分和第二部分之间的空间中提供阻尼材料，以使阻尼材料在该空间中处于压缩状态；和b)将所述阻尼装置加热至预定温度，以便将阻尼材料粘附到第一部分和第二部分。根据本专利技术的另一个实施例，提供一种投影系统，该投影系统被配置为将被图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上，其中，该投影系统包括光学元件，该光学元件由一个或一个阻尼装置支撑，该阻尼装置是使用根据本专利技术的方法制造的。根据本专利技术的另一个实施例，提供一种的光刻设备，该光刻设备包括一个或更多个阻尼装置，该阻尼装置是使用根据本专利技术的方法制造的。根据本专利技术的另外的实施例，提供一种器件制造方法，在该方法中使用根据本专利技术的光刻设备。附图说明现在将仅以示例的方式参考随附的示意图来描述本专利技术的实施例，其中，对应的附图标记指示对应的部分，并且在附图中：-图1描绘了根据本专利技术的实施例的光刻设备；-图2示意性地描绘了根据本专利技术的实施例的投影系统；-图3示意性地描绘了根据本专利技术的实施例的阻尼装置的剖视图；-图4示意性地描绘了根据本专利技术的另一个实施例的阻尼装置的剖视图；-图5示意性地描绘了根据本专利技术的另一个实施例的弹簧阻尼装置的剖视图；并且-图6示意性地描绘了根据本专利技术的实施例的制备方法的框图。具体实施方式图1示意性地描绘了根据本专利技术的一个实施例的光刻设备。该设备包括：-照射系统(IL)，所述照射系统被配置为调节辐射束B(例如UV辐射或EUV辐射)；-支撑结构(例如掩模台)MT，所述支撑结构被构造为支撑图案形成装置(例如掩模)MA并且连接到第一定位器PM，该第一定位器PM被配置为根据某些参数将图案形成装置精确地定位；-衬底台(例如晶片台)WTa或WTb，所述衬底台被构造为保持衬底(例如涂覆有抗蚀剂的晶片)W并且连接到第二定位器PW，该第二定位器PW被配置为根据某些参数将图案形成装置精确地定位；以及-投影系统(例如折射型投影透镜系统)PS，所述投影系统被配置为将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C(例如包括一个或更多个管芯)上。照射系统可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型、磁性型、电磁型、静电型或其他类型的光学部件或者它们的任何组合，以用于引导、成形和/或控制辐射。支撑结构MT支撑图案形成装置MA(即，承担图案形成装置MA的重量)。所述支撑结构MT以依赖于图案形成装置MA的方向、光刻设备的设计以及其他条件(例如图案形成装置MA是否被保持在真空环境中)的方式来保持图案形成装置MA。支撑结构MT可以使用机械、真空、静电或其他夹持技术来保持图案形成装置MA。支撑结构MT可以是例如框架或台，其可以根据需要而是固定的或者是可移动的。支撑结构MT可以确保图案形成装置MA例如相对于投影系统PS处于期望的位置。本文中对术语“掩模版”或“掩模”的任何使用都可以被视为与更上位的术语“图案形成装置”同义。本文中使用的术语“图案形成装置”应该被广义地解释为是指能够用于在辐射束的横截面中赋予所述辐射束图案以在衬底的目标部分中产生图案的任何装置。应该注意的是，被赋予至辐射束的图案可能不确切地对应于衬底W的目标部分中的期望的图案，例如，在该图案包括相移特征或者所谓的辅助特征的情况下。通常，被赋予至辐射束的图案将对应于正在目标部分中产生的器件中的特定功能层，例如集成电路。图案形成装置MA可以是透射型的或反射型的。图案形成装置的示例包括掩模、可编程反射镜阵列和可编程LCD面板。掩模在光刻术中是公知的，并且包括二元型、交替相移型、衰减相移型掩模以及各种混合型掩模类型。可编程反射镜阵列的示例是采用小反射镜的矩阵布置，每个反射镜都可以独立地倾斜，以便在不同方向上反射入射的辐射束。已倾斜的反射镜将图案赋予由反射镜矩阵反射的辐射束。本文中使用的术语“辐射”和“束”包含全部类型的电磁辐射，包括紫外(UV)辐射(例如具有等于或约为365nm、248nm、193nm、157nm或126nm的波长)和极紫外(EUV)辐射(例如具有处于5-20nm的范围内的波长)以及诸如离子束或电子束之类的粒子束。本文中使用的术语“投影系统”应该被广义解释为包括任意类型的投影系统，包括折射型、反射型、反射折射型、磁性型、电磁型以及静电型光学系统或者它们的任意组合，如对于所使用的曝光辐射或者诸如使用浸没液体或使用真空之类的其他因素所适合的。本文中使用的任何术语“投影透镜”可以被认为是与更上位的术语“投影系统”同义。如这里所描绘的，该设备是透射型的(例如采用透射型掩模)。可替代地，该设备可以是反射型的(例如采用如上所述的类型的可编程反射镜阵列，或者采用反射型掩模)。光刻设备可以是具有两个(双平台)或更多个衬底台(和/或两个或更多个掩模台)的类型。在这种“多平台”机器中，可以并列地使用额外的台，或者可以在一个或更多个台上执行预备步骤的同时，一个或更多个其他台正被用于曝光。图1的示例中的两个衬底台WTa和WTb是对这种情况的说明。虽然可以以单独的方式来使用本文所公开的专利技术，但是特别地，本本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于制造阻尼装置的方法，所述阻尼装置包括第一部分和第二部分，所述方法包括以下步骤：/na)在所述弹簧的所述第一部分和所述第二部分之间的空间中提供阻尼材料，使得所述阻尼材料在所述空间中处于压缩状态；和/nb)将所述阻尼装置加热至预定温度，以便将所述阻尼材料粘附到所述第一部分和所述第二部分。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171215 EP 17207548.31.一种用于制造阻尼装置的方法，所述阻尼装置包括第一部分和第二部分，所述方法包括以下步骤：
a)在所述弹簧的所述第一部分和所述第二部分之间的空间中提供阻尼材料，使得所述阻尼材料在所述空间中处于压缩状态；和
b)将所述阻尼装置加热至预定温度，以便将所述阻尼材料粘附到所述第一部分和所述第二部分。


2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述阻尼装置是弹簧阻尼装置，所述弹簧阻尼装置包括被配置为在所述第一部分和所述第二部分之间起作用的弹簧。


3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述阻尼材料是黏弹性材料，优选地是热塑性弹性体。


4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中，执行步骤b)，使得在步骤b)之后所述第一部分和所述第二部分之间的所述阻尼材料仍处于压缩状态。


5.根据权利要求1-4中任一项所述的方法，其中，所述第一部分和所述第二部分提供多个空间，所述多个空间的一侧由所述第一部分界定并且相反侧由所述第二部分界定，其中，所述多个空间中的每个空间都设置有阻尼材料，使得所述阻尼材料在对应的空间中处于压缩状态。


6.根据权利要求1-5中任一项所述的方法，其中，所述第一部分相对于所述第二部分具有两个自由度，并且所述阻尼材料被设置为在两个自由度上都提供阻尼。


7.根据权利要求1-6中任一项所述的方法，其中，在步骤b)中，将所述阻尼装置保持在预定温度达预定时间段。


8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中，在步骤a)中，所述阻尼材料在未压缩状态下被引入到所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：D·腾·胡彭，FX·德比耶斯密，E·PY·韦纳，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL