【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】真空容器中的碎屑通量测量系统的再生相关申请的交叉引用本申请要求于2017年12月15日提交的美国申请62/599,139的优先权,其全部内容通过引用并入本文。
所公开的主题涉及一种用于测量系统的再生的系统和方法,该测量系统测量在极紫外光源的腔室内产生的碎屑的量或通量(flux)。
技术介绍
在光刻工艺中可以使用极紫外线(EUV)光(例如,波长约为50nm或更小的电磁辐射(有时也称为软X射线),并且包括波长约为13nm的光)来在衬底(例如,硅晶片)中产生极小的特征。产生EUV光的方法包括但不限于将具有例如氙、锂或锡等元素的材料转换成等离子状态的EUV范围内的发射线。在一种这样的方法中,可以通过用放大光束以小滴、板、带、流或材料团簇的形式照射目标材料来产生所需要的等离子体(通常称为激光产生的等离子体(“LPP”))。对于这个过程,通常在密封容器(例如,真空室)中产生等离子体,并且使用各种类型的量测装置对其进行监测。
技术实现思路
在一些一般方面,一种装置包括:容器;将目标引向容器中的交互区域的目标传递系统,目标包括在处于等离子体状态时发射极紫外光的目标物质;以及量测装置。量测装置包括具有被配置为测量目标物质的通量的测量表面的测量系统和被配置为再生测量系统的再生工具。再生包括:防止测量表面变为饱和,和/或如果测量表面已经变为饱和,则使测量表面去饱和。实现可以包括以下特征中的一个或多个。例如,量测装置可以包括与测量系统和再生工具通信的控制装置。控制装置可以被配置为基于来自测 ...
【技术保护点】
1.一种装置,包括:/n容器;/n目标传递系统,其将目标引向所述容器中的交互区域,所述目标包括在处于等离子体状态时发射极紫外光的目标物质;以及/n量测装置,包括:/n测量系统,包括被配置为测量目标物质的通量的测量表面;以及/n再生工具,被配置为再生所述测量系统,其中再生包括:/n防止所述测量表面变为饱和,和/或/n如果所述测量表面已经变为饱和,则使所述测量表面去饱和。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171215 US 62/599,1391.一种装置,包括:
容器;
目标传递系统,其将目标引向所述容器中的交互区域,所述目标包括在处于等离子体状态时发射极紫外光的目标物质;以及
量测装置,包括:
测量系统,包括被配置为测量目标物质的通量的测量表面;以及
再生工具,被配置为再生所述测量系统,其中再生包括:
防止所述测量表面变为饱和,和/或
如果所述测量表面已经变为饱和,则使所述测量表面去饱和。
2.根据权利要求1所述的装置,其中:
所述测量表面被配置为与所述目标物质交互,其中所述目标物质与所述测量表面之间的所述交互产生测量信号;以及
所述测量系统还包括测量控制器,所述测量控制器被配置为接收所述测量信号,并且跨所述测量表面计算所述目标物质的通量。
3.根据权利要求1所述的装置,其中所述量测装置包括石英晶体微量天平。
4.根据权利要求1所述的装置,其中所述交互区域接收放大光束,并且当所述目标与所述放大光束交互时,所述目标被转换成发射极紫外光的等离子体。
5.根据权利要求1所述的装置,还包括光学元件,所述光学元件包括在所述容器内的光学元件表面,其中所述量测装置相对于所述光学元件表面定位,并且所述光学元件是光收集器,在所述光收集器中,所述光学元件表面在所述目标被转换成所述等离子体时,与发射的至少一些极紫外光交互。
6.根据权利要求1所述的装置,其中所述再生工具被配置为:在不从所述容器去除所述量测装置的情况下,再生所述测量系统。
7.根据权利要求1所述的装置,其中所述再生工具包括清洁工具,所述清洁工具被定位为与所述测量系统交互,并且所述清洁工具被配置为:在所述测量控制器的指示下,去除已经沉积在所述测量表面上的目标物质。
8.根据权利要求7所述的装置,其中所述清洁工具包括自由基产生单元,所述自由基产生单元被配置为在所述测量表面附近产生自由基,其中所述自由基与所沉积的目标物质发生化学反应,以形成从所述测量表面被释放的新的化学物质。
9.根据权利要求8所述的装置,其中所述自由基产生单元包括以下之一:
邻近所述测量表面的丝线、以及向所述丝线提供电流的电源;以及
等离子体发生器,其在所述测量表面附近生成处于等离子体状态的等离子体材料,所述等离子体材料包括所述自由基。
10.根据权利要求8所述的装置,其中所述自由基是从所述容器内的天然氢分子产生的氢的自由基,并且所述测量表面上的所述目标物质包括锡,使得从所述测量表面释放的所述新的化学物质包括氢化锡。
11.根据权利要求8所述的装置,还包括去除装置,所述去除装置被配置为从所述容器中去除所释放的新的化学物质,所述去除装置包括与所述容器的内部流体连通的气体端口,并且其中所释放的新的化学物质通过所述气体端口从所述容器的内部被传递。
12.根据权利要求1所述的装置,其中所述再生工具被配置为:在所述容器中存在氢、并且没有需要氧气的反应的情况下,从所述测量表面去除所述目标物质。
13.一种方法,包括:
在容器的腔体内提供目标,其中所述目标包括在被转换成等离子体时发射极紫外光的物质;
在所述腔体内的测量表面上测量所述目标物质的通量;以及
再生所述测量表面,其中所述再生包括以下至少之一:
防止所述测量表面变为饱和,以及
如果所述测量表面已经变为饱和,则使所述测量表面去饱和。
14.根据权利要求13所述的方法,还包括:基于在所述测量表面上测得的所述目标物质的通量来激活所述测量表面的再生。
15.根据权利要求13所述的方法,其中在所述容...
【专利技术属性】
技术研发人员:马悦,N·V·德兹奥姆卡纳,J·T·斯特瓦特四世,李天启,
申请(专利权)人:ASML荷兰有限公司,
类型:发明
国别省市:荷兰;NL
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