公开了一种测量标记。根据某些实施例，该测量标记包括显影在衬底上的第一层中的第一测试结构集合，第一测试结构集合中的每个第一测试结构包括由第一导电材料制成的多个第一特征。该测量标记还包括显影在邻近第一层的第二层中的第二测试结构集合，第二测试...

本文中公开了一种方法，包括：在第一时间段期间，将第一数量的电荷沉积到样品的区域中；在第二时间段期间，将第二数量的电荷沉积到该区域中；在扫描带电粒子的束在样品上生成的探针斑点的同时，从探针斑点中记录表示带电粒子的束与样品的相互作用的信号；...

披露了一种方法，涉及：获得用于模拟抗蚀剂中的图案的变形过程的抗蚀剂变形模型，所述抗蚀剂变形模型是被配置为模拟作用于所述抗蚀剂的流体内力的流体动力学模型；通过使用所述抗蚀剂变形模型来执行所述变形过程的计算机模拟，以获得针对至所述抗蚀剂变形...

本公开涉及确定与图案化过程有关的信息。在一种方法中，从应用到衬底上的多个量测目标中的每个量测目标的量测过程获得测量数据。每个量测目标的所述测量数据包括至少第一贡献和第二贡献。所述第一贡献来自用于形成所述量测目标的图案化过程的感兴趣的参数...

一种聚焦量测目标包括一个或多个周期性阵列的特征(TH、TV、T)。对光刻装置的聚焦性能的测量至少部分地基于从聚焦量测目标获得的衍射信号。每个周期性阵列的特征包括与第二区域交错的重复布置的第一区域，第一区域和第二区域中的特征密度不同。每个...

公开了用于进行带电粒子束调制的系统和方法。根据某些实施例，一种带电粒子束装置(510)生成多个带电粒子束。调制器(800)被配置为接收多个带电粒子束并且生成多个经调制的带电粒子束。检测器(541)被配置为接收多个经调制的带电粒子束。

一种激光束监控系统配置成监控入射激光束(24)的性质，所述激光束监控系统包括束分离元件(30)和多个传感器(34a‑34d)，其中所述束分离元件配置成由所述入射激光束(24)形成多个子束(24a‑24d)，第一子束被朝向所述多个传感器的...

一种将衬底(W)夹持至夹持系统的方法，所述方法包括以下步骤：提供衬底保持器(200)，所述衬底保持器包括：主体(210)，具有第一主体表面(212)和第二主体表面(214)，其中所述第一主体表面和第二主体表面在所述主体的相反侧上；和多个...

一种制造用于光刻设备的表膜的方法，所述方法包括在三维模板中生长所述表膜，以及根据该方法制造的表膜。还公开了根据所述方法制造的表膜在EUV光刻设备中的用途以及三维模板在制造表膜中的用途。

公开了衬底保持器、制造这种衬底保持器的方法和包括这种衬底保持器的光刻设备。在一种布置中，提供有一种用于在光刻设备中使用的衬底保持器。所述衬底保持器被配置成支撑衬底的下表面。所述衬底保持器(WT)包括主体(40)、多个突节和涂层(23)。...

用于光刻设备的表膜及其制造方法，其中，该表膜包括氮化金属硅化物或氮化硅。还公开了氮化金属硅化物或氮化硅表膜在光刻设备中的用途。还公开了用于光刻设备的表膜，该表膜包括至少一个补偿层，该补偿层被选择并配置为抵消在暴露于EUV辐射时该表膜的透...

一种相对于参考物体定位由主平台(5)支撑的子平台(9)的方法，所述子平台能够沿着方向(7)相对于所述主平台在第一位置和第二位置之间移动。所述方法包括通过使用无源力系统来定位第一平台，所述无源力系统通过定位所述主平台被激活。所述无源力系统...

一种用于光刻设备中的部件，所述部件具有表面，所述表面面对另一部件的另一表面，所述部件和所述另一部件被配置成经历相对于彼此的相对移动，其中所述表面容纳有屏障系统，所述屏障系统被配置成提供可操作用于减少或防止环境气体向所述表面与所述另一表面...

一种载物台承载系统可以包括：载物台、耦接到载物台的空心轴、以及耦接到空心轴和载物台的内真空气体轴承组件。内真空气体轴承组件可以包括气体轴承、扫气槽和真空槽。气体轴承沿内真空气体轴承组件的内壁和空心轴的外壁设置。扫气槽沿所述内壁设置，使得...

一种清洁表面以从该表面去除污染物的方法，该方法包括以下步骤：使该污染物的至少一部分氧化；以及使二氧化碳雪流从该污染物经过。一种用于清洁表面的设备，该设备包括至少一个二氧化碳雪出口和至少一个等离子体出口。一种清洁头，该清洁头包括至少一个二...

一种谐振幅度光栅标记，其具有周期性结构，该周期性结构被配置为散射入射(500)在对齐标记的表面平面(506)上的波长为λ的辐射(502)。散射主要通过在周期性结构中激发平行于表面平面的谐振模式(508)来实现。周期性结构的多个部分的有效...

衍射测量目标，其具有至少第一子目标和至少第二子目标，以及其中(1)第一和第二子目标每个包括一对周期性结构并且第一子目标具有与第二子目标不同的设计，不同的设计包括第一子目标周期性结构具有与第二子目标周期性结构不同的节距、特征宽度、间隔宽度...

本发明涉及一种粒子束设备(1)，该粒子束设备(1)包括：粒子束源(210)，被配置为生成粒子束(202)；电磁线圈(2)，被配置为发射磁场以操纵粒子束；载物台(10)，被配置为保持衬底(300)；定位装置(20)，包括铁磁材料(11)，...

一种光刻设备，包括衬底存储模块，所述衬底存储模块具有用于保护经光刻曝光的衬底免受环境空气影响的可控环境。所述衬底存储模块被配置成存储至少二十个衬底并且所述衬底存储模块是所述光刻设备的组成部分。所述衬底存储模块可以被用于在拼接光刻曝光期间...

用于确定与衬底上的至少一个结构有关的感兴趣的特性的量测设备和方法。量测设备包括传感器和光学系统。传感器用于检测入射在传感器上的辐射的特性。光学系统包括照射路径和检测路径。光学系统被配置为利用经由照射路径从源接收的辐射来照射至少一个结构。...