公开了一种优化量测过程的方法。在一种布置中，通过对衬底上的第一目标多次应用量测过程来获得测量数据。量测过程的每次应用包括利用辐射斑照射第一目标并检测由第一目标改变方向的辐射。量测过程的应用包括以下应用中的任一种或两种：a)辐射斑相对于第...

提出了一种用于以高分辨率和高生产能力观察样本的多束装置。在该装置中，源转换单元通过使来自一个单电子源的平行初级电子束的多个小束偏转来形成该单电子源的多个且平行的图像，并且一个物镜将多个偏转的小束聚焦到样本表面上，并在样本表面上形成多个探...

在过程步骤之前，基于与衬底相关联的预处理数据(404)来对待处理衬底(402)进行分割。使用分割规则(410、412、414)来对数据进行分割，并且根据通过分割而获得的数据的子集将衬底分割为子集(G1‑G4)。应用了针对每个子集特定的校...

一种用于确定投影系统的像差映射的相位步进方法和用于执行所述方法的设备。所述方法使用布置在投影系统的物体平面中的第一图案化区和布置在投影系统的图像平面中的第二图案化区。所述第一图案化区和第二图案化区中的至少一个沿剪切方向移动以生成振荡相位...

公开了一种检测诸如反射性掩模衬底的衬底上的缺陷的方法以及相关联的设备。所述方法包括使用第一检测辐射来执行检测，第一检测辐射从高次谐波生成源获得并且具有在20nm和150nm之间的第一波长范围内的一个或多个第一波长。还公开了一种方法，该方...

一种用于生成针对图案化过程的量测采样方案的方法，所述方法包括：获取用于衬底的图案化过程的参数的参数图；由硬件计算机系统分解所述参数图以生成对所述图案化过程的设备和/或所述图案化过程的设备的组合特定的指纹；和基于所述指纹，由所述硬件计算机...

一种用于相位步进测量系统的二维衍射光栅，该相位步进测量系统用于确定投影系统的像差映射，该二维衍射光栅包括设置有通孔的正方形阵列的基底，其中衍射光栅是自支撑式的。应当理解，为了使设置有通孔的正方形阵列的基底是自支撑式的，在每个通孔和相邻通...

本发明提供一种包括波长追踪单元和干涉仪系统的波长追踪系统。波长追踪单元具有位于固定位置处的反射表面且提供具有第一路径长度的第一反射路径和具有第二路径长度的第二反射路径。第一路径长度实质上大于第二路径长度。干涉仪系统包括：分束器，用以将光...

一种确定衬底栅格的测量设备(10)和方法，衬底栅格描述了光刻设备(LA)中曝光衬底(12)之前衬底(12)的变形，光刻设备(LA)配置成在衬底(12)上制造一个或多个特征。获取在衬底(12)上多个第一特征和/或多个第二特征的位置数据。获...

公开了一种传感器，其中换能器产生声波，该声波被透镜组件接收。透镜组件将声波的至少一部分传输并引导到目标。然后，透镜组件接收与目标相互作用之后的声波的至少一部分。传感器还包括光学检测器，该光学检测器包括位于透镜组件的表面处的至少一个光学反...

一种方法，所述方法包括：获得由来自衬底的多个结构中的每个结构重新引导的辐射的所检测的表示，所述衬底上另外具有器件图案，其中每个结构具有相应结构的与所述相应结构的相应名义实体配置相比有意不同的实体配置，其中每个结构在所述相应名义实体配置的...

一种用于处理晶片的系统和方法，其中局部地分析扫描信号以提取关于对准、重叠、标记品质、晶片品质等的信息。

本发明涉及一种光刻设备，所述光刻设备包括：致动系统，所述致动系统被用于定位物体；控制单元(CU)，所述控制单元用于控制所述致动系统；以及冷却系统，所述冷却系统用于冷却所述致动系统，其中所述致动系统包括线圈组件(CA)，所述线圈组件包括一...

公开了一种测量目标的方法和一种量测设备。在一种布置中，所述目标包括分层结构。所述分层结构具有在第一层中的第一目标结构和在第二层中的第二目标结构。所述方法包括通过使用所述照射光瞳(u)中的照射轮廓、利用测量辐射来照射所述目标，所述照射轮廓...

提供了一种用于控制被用于生成EUV辐射的液滴(102a，b)的形成的装置和方法，该装置和方法包括产生指向照射区域的激光束的部件和液滴源。液滴源(92)包括离开喷嘴(98)的流体和具有电致动元件(104)的子系统，该电致动元件(104)在...

描述了一种确定扫描电子显微镜的视场的畸变的方法。该方法可以包括：提供样本，该样本包括在第一方向上延伸的基本平行的多条线；沿着在扫描方向上延伸的相应的多个扫描轨迹来在样本的视场上执行多个扫描；扫描方向基本垂直于第一方向；检测由样本的扫描引...

本发明涉及一种定位系统，包括：第一致动器，在可移动体上施加致动力，所述第一致动器耦接至平衡质量块，所述平衡质量块被配置为吸收所述致动力所产生的反作用力，所述致动力提供所述可移动体的加速度，所述反作用力提供所述平衡质量块的加速度，其中，由...

放大光束被提供给接收包括目标材料的目标的区域，放大光束与目标之间的相互作用将至少一些目标材料从第一形式转换为第二形式以形成发光等离子体；包括与放大光束有关的信息的第一数据被访问；包括与发光等离子体有关的信息的第二数据被访问；以及目标材料...

公开了用于检测缺陷的系统和方法。根据某些实施例，一种执行图像处理的方法包括：获取样本的一个或多个图像；对一个或多个图像执行第一图像分析；标识一个或多个图像中的多个第一特征；确定与多个第一特征相对应的图案数据；基于图案数据，选择多个第一特...

一种光刻设备包括投影系统，所述投影系统包括位置传感器用于测量投影系统的光学元件的位置。位置传感器以传感器框架为参考。阻尼致动器阻尼传感器框架的振动。控制装置驱动致动器，并且配置成从加速度信号和传感器框架位置信号中的至少一种信号导出传感器...